一种大尺寸配对陶瓷吸盘的制作方法

1.本实用新型涉及一种硅片吸盘，特别涉及一种大尺寸配对陶瓷吸盘。


背景技术：

2.一种大尺寸配对陶瓷吸盘是一种用于吸附硅片的装置，传统的硅片吸附装置通常采用带有真空发生器的吸料杆进行吸取，由于吸取面积较小，在吸取大尺寸硅片时需采用多个吸料杆进行吸取，在需要放料时，由于多个吸料杆在控制真空状态时，较难保持一致，所以会造成硅片重心偏离，从而导致吸力大的地方会留下吸盘印等问题。


技术实现要素：

3.本实用新型解决的技术问题是提供一种大尺寸配对陶瓷吸盘，可以实现吸附硅片中心，可以快速分离硅片和吸盘。
4.本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种大尺寸配对陶瓷吸盘，包括一对吸盘主体，所述吸盘主体上设置有吸盘安装块，所述吸盘安装块上贯穿所述吸盘主体设置有真空管安装孔，所述吸盘主体在所述真空安装孔处设置有真空吸附结构，所述吸盘安装块在与所述吸盘主体结合处设置有快速分片口。
5.进一步的是：所述真空吸附结构包括从所述吸盘主体上位于吸盘安装块处向内部设置的抽真空开槽，所述抽真空开槽向所述吸盘主体的表面贯穿设置有多个抽真空开孔，所述吸盘主体在所述抽真空开槽处的表面设置有真空吸附腔体，所述真空吸附腔体将所述多个抽真空开孔相连。
6.进一步的是：所述吸盘安装块上贯穿所述吸盘主体设置有多个吸盘安装孔。
7.进一步的是：吸盘主体在远离所述吸盘安装块的一端设置有楔形铲块。
8.进一步的是：所述一对吸盘主体相对错位安装。
9.本实用新型的有益效果是：吸附硅片的真空腔体和分离硅片的分离管道设置在一个整体的内部，且通过两个吸盘的相对错位安装，可以实现将吸附区域维持在硅片中心，保证硅片分离瞬间不会发生重心偏移，减少吸盘印的产生。
附图说明
10.图1为陶瓷吸盘剖视示意图。
11.图2为陶瓷吸盘平面示意图。
12.图3为陶瓷吸盘快速分片口示意图。
13.图中标记为：
14.吸盘主体1、吸盘安装块11、真空管安装孔12、吸盘安装孔13、楔形铲块14；
15.真空吸附结构2、抽真空开槽21、抽真空开孔22、真空吸附腔体23；
16.快速分片口3。
具体实施方式
17.为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。
18.需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。
19.除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
20.如图1所示的一种大尺寸配对陶瓷吸盘，包括一对吸盘主体1，所述吸盘主体1上设置有吸盘安装块11，所述吸盘安装块11上贯穿所述吸盘主体1设置有真空管安装孔12，所述吸盘主体1在所述真空管安装孔12处设置有真空吸附结构2，所述吸盘安装块11在与所述吸盘主体1结合处设置有快速分片口3，真空管安装孔外接至真空发生器，可以将目标零件通过真空吸附至陶瓷吸盘上，在需要放下被吸附的硅片时，只需通过快速分片口加气即可快速分离，吸盘采用陶瓷材质，可以耐高温，且不会与硅片发生化学反应。
21.在上述基础上，所述真空吸附结构2包括从所述吸盘主体1上位于吸盘安装块11处向内部设置的抽真空开槽21，所述抽真空开槽21向所述吸盘主体1的表面贯穿设置有多个抽真空开孔22，所述吸盘主体1在所述抽真空开槽21处的表面设置有真空吸附腔体23，所述真空吸附腔体23将所述多个抽真空开孔22相连，真空吸附腔体23是陶瓷吸盘的吸附路径，在与硅片贴合后，真空发生器启动，通过多个抽真空开孔22将所述真空吸附腔体中的空气吸出，可以实现稳固吸附的效果。
22.在上述基础上，所述吸盘安装块11上贯穿所述吸盘主体1设置有多个吸盘安装孔13，吸盘安装孔13用于将陶瓷吸盘固定在相关的设备上。
23.在上述基础上，吸盘主体1在远离所述吸盘安装块11的一端设置有楔形铲块14，楔形铲块14在安装硅片时可以限制硅片的插入方向，可以辅助陶瓷吸盘更好地吸附。
24.在上述基础上，所述一对吸盘主体1相对错位安装，错位交叉安装可以防止在发生碰撞时保证吸附的稳定性，在进行分片时可以防止发生重心偏移。
25.以上所述的具体实施例，对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本实用新型的具体实施例而已，并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。


技术特征：
1.一种大尺寸配对陶瓷吸盘，其特征在于：包括一对吸盘主体(1)，所述吸盘主体(1)上设置有吸盘安装块(11)，所述吸盘安装块(11)上贯穿所述吸盘主体(1)设置有真空管安装孔(12)，所述吸盘主体(1)在所述真空管安装孔(12)处设置有真空吸附结构(2)，所述吸盘安装块(11)在与所述吸盘主体(1)结合处设置有快速分片口(3)。2.如权利要求1所述的一种大尺寸配对陶瓷吸盘，其特征在于：所述真空吸附结构(2)包括从所述吸盘主体(1)上位于吸盘安装块(11)处向内部设置的抽真空开槽(21)，所述抽真空开槽(21)向所述吸盘主体(1)的表面贯穿设置有多个抽真空开孔(22)，所述吸盘主体(1)在所述抽真空开槽(21)处的表面设置有真空吸附腔体(23)，所述真空吸附腔体(23)将所述多个抽真空开孔(22)相连。3.如权利要求1所述的一种大尺寸配对陶瓷吸盘，其特征在于：所述吸盘安装块(11)上贯穿所述吸盘主体(1)设置有多个吸盘安装孔(13)。4.如权利要求1所述的一种大尺寸配对陶瓷吸盘，其特征在于：吸盘主体(1)在远离所述吸盘安装块(11)的一端设置有楔形铲块(14)。5.如权利要求1所述的一种大尺寸配对陶瓷吸盘，其特征在于：所述一对吸盘主体(1)相对错位安装。

技术总结
本实用新型公开了一种大尺寸配对陶瓷吸盘，其特征在于：包括一对吸盘主体，所述吸盘主体上设置有吸盘安装块，所述吸盘安装块上贯穿所述吸盘主体设置有真空管安装孔，所述吸盘主体在所述真空安装孔处设置有真空吸附结构，所述吸盘安装块在与所述吸盘主体结合处设置有快速分片口，吸附硅片的真空腔体和分离硅片的分离管道设置在一个整体的内部，且通过两个吸盘的相对错位安装，可以实现将吸附区域维持在硅片中心，保证硅片分离瞬间不会发生重心偏移，减少吸盘印的产生。减少吸盘印的产生。减少吸盘印的产生。


技术研发人员：沈威
受保护的技术使用者：苏州诚拓智能装备有限公司
技术研发日：2021.02.22
技术公布日：2021/11/24