技术特征:
1.一种缺陷萤石结构的氧化物高熵陶瓷,其特征在于结构式为:(hfzr(3re))o2‑
δ
,其中re=sm、er、ce、y或yb。2.一种制备权利要求1所述缺陷萤石结构的氧化物高熵陶瓷的方法,其特征在于步骤如下:步骤1:将hfo2和zro2以及sm2o3、y2o3、er2o3、yb2o3、ceo2中的任意三种的原料氧化物粉体,按比例进行称量,将称量好的原料粉体置于聚四氟乙烯球磨罐中,使用行星球磨机进行球磨混合配料;步骤2:将混合好的原料粉体置于烘箱中进行烘干处理,将烘干后的混合原料置于高温箱式炉中,在1500
‑
1600℃温度下进行高温固相反应10
‑
12h得高熵陶瓷粉体,高温反应的气氛为空气气氛。3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于:所述步骤2混合好的原料粉体置于80℃的烘箱进行12h的烘干处理。4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于:所述每一种原料粉体的比例为5
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35mol.%。5.根据权利要求2所述的方法,其特征在于:所述原料粉体的粒径为1
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3μm。6.根据权利要求2所述的方法,其特征在于:所述原料粉体的纯度为99.9%。7.一种采用权利要求1所述缺陷萤石结构的氧化物高熵陶瓷制备抗烧蚀涂层的方法,其特征在于步骤如下:步骤1):将高熵陶瓷粉体、固含量1.8wt.%的pva溶液、去离子水和无水乙醇,其四种成分的质量比为4︰4︰1︰1,混合球磨后为浆料,得到喷雾干燥料浆;步骤2)、喷雾干燥:采用蠕动泵以10
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15rpm的转速将料浆送入喷雾干燥器中,喷雾干燥喷头的转速为30
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40rpm,在350℃的温度下将料浆雾化干燥,得到用于喷涂的高熵陶瓷粉体;步骤3):采用超音速等离子体喷涂技术进行高熵陶瓷涂层的制备,参数为:喷涂的功率为45
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50kw,喷涂过程中使用的氩气和氢气的流量分别为65
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70slpm与2
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5slpm。8.根据权利要求6所述的方法,其特征在于:所述球磨时间为4
‑
8h。9.根据权利要求6所述的方法,其特征在于:所述步骤3)的喷涂距离为80
‑
100mm。
技术总结
本发明涉及一种缺陷萤石结构的氧化物高熵陶瓷及其抗烧蚀涂层的制备方法,首先采用高温固相反应法制备高熵陶瓷粉体,随后采用超音速等离子体喷涂技术,将经过喷雾干燥处理后的高熵陶瓷粉体在基体材料表面制备出相应成分的高熵陶瓷涂层。本发明涉及的(HfZr(3RE))O2‑
技术研发人员:孙佳 郭凌翔 张育育 刘冰 张佩
受保护的技术使用者:西北工业大学
技术研发日:2021.10.12
技术公布日:2021/11/24
再多了解一些
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