显示面板及其制备方法、显示装置与流程

1.本技术涉及显示技术领域，特别涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。


背景技术：

2.显示面板出厂之前需要对显示面板中多个子像素的显示性能进行测试，以保证显示面板能够正常显示。
3.相关技术中，显示面板包括衬底基板，位于衬底基板的显示区域的多个子像素和位于衬底基板的周边区域的测试接口。该测试接口可以为多个子像素提供测试信号，以使得多个子像素显示图像，进而实现对多个子像素的显示性能的测试。
4.但是，相关技术中测试接口的周围通常具有裂纹，该裂纹会延伸至显示区域，影响显示面板的显示效果。


技术实现要素：

5.本技术提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置，可以解决相关技术中显示面板的显示效果较差的问题。所述技术方案如下：
6.一方面，提供了一种显示面板，所述显示面板包括：
7.衬底基板，所述衬底基板具有显示区域以及位于所述显示区域一侧的周边区域；
8.多个子像素，所述多个子像素位于显示区域；
9.多个测试接口，所述多个测试接口位于所述周边区域，所述多个测试接口与所述多个子像素电连接；
10.以及，间隔排布的多个条形的第一阻断结构，多个所述第一阻断结构位于所述周边区域，且多个所述第一阻断结构位于所述多个测试接口和所述多个子像素之间，每个所述第一阻断结构的延伸方向与目标方向相交，所述目标方向为所述周边区域和所述显示区域的排布方向。
11.可选的，所述衬底基板具有间隔排布的多个条形的第一镂空区域，每个所述第一阻断结构至少包括一个所述第一镂空区域。
12.可选的，所述显示面板还包括位于所述衬底基板上的无机材料膜层以及有机材料膜层；
13.所述无机材料膜层在所述衬底基板上的正投影与多个所述第一阻断结构以及多个所述第一阻断结构之间的间隔不重叠，所述有机材料膜层在所述衬底基板上的正投影与多个所述第一阻断结构以及多个所述第一阻断结构之间的间隔不重叠。
14.可选的，所述显示面板还包括位于所述衬底基板上的无机材料膜层以及有机材料膜层；
15.所述无机材料膜层具有第二镂空区域，所述有机材料膜层具有第三镂空区域；每个所述第一阻断结构还包括一个所述第二镂空区域和一个所述第三镂空区域，其中，每个所述第一阻断结构包括的所述第一镂空区域，所述第二镂空区域以及所述第三镂空区域连
通。
16.可选的，所述显示面板还包括多个连接走线；每个所述连接走线的一端与一个所述测试接口靠近所述显示区域的一侧连接，另一端与所述多个子像素连接；
17.每个所述连接走线在所述衬底基板上的正投影与多个所述第一阻断结构不重叠，且每个所述连接走线在所述衬底基板上的正投影与所述有机材料膜层在所述衬底基板上的正投影重叠。
18.可选的，所述无机材料膜层在所述衬底基板上的正投影位于目标区域的部分的厚度，小于所述无机材料膜层在所述衬底基板上的正投影位于除所述目标区域之外的其他区域的部分的厚度；
19.其中，所述目标区域覆盖多个所述第一阻断结构之间的间隔在所述衬底基板上的正投影。
20.可选的，所述显示面板还包括位于所述衬底基板上的无机材料膜层以及有机材料膜层；
21.所述无机材料膜层具有间隔排布的多个条形的第四镂空区域，所述第四镂空区域的延伸方向与所述目标方向相交，所述有机材料膜层包括第一主体部，以及位于多个所述第四镂空区域中的多个第一填充部；多个所述第一阻断结构至少包括：多个所述第一填充部。
22.可选的，所述无机材料膜层包括：沿远离所述衬底基板的方向依次层叠的第一无机材料子膜层以及第二无机材料子膜层；所述显示面板还包括位于所述第一无机材料子膜层和所述第二无机材料子膜层之间的多个连接走线和第一阻断层；每个所述连接走线的一端与一个所述测试接口远离所述显示区域的一侧连接，另一端与所述多个子像素连接；
23.每个所述第四镂空区域包括位于所述第一无机材料子膜层的第一子镂空区域以及位于所述第二无机材料子膜层的第二子镂空区域，所述第一填充部位于所述第二子镂空区域内；所述第一阻断层包括第二主体部，以及位于所述第一子镂空区域中的第二填充部；多个所述第一阻断结构还包括：多个所述第二填充部。
24.可选的，所述显示面板还包括：位于所述衬底基板和所述第一无机材料子膜层之间的第二阻断层；
25.所述衬底基板具有间隔排布的多个条形的第五镂空区域，所述第五镂空区域的延伸方向与所述目标方向相交，所述第二阻断层包括第三主体部，以及位于所述多个第五镂空区域中的多个第三填充部；多个所述第一阻断结构还包括：多个所述第三填充部。
26.可选的，所述显示面板还包括：条形的第二阻断结构；
27.所述第二阻断结构位于所述周边区域，所述第二阻断结构位于多个所述测试接口沿所述目标方向的一侧，且所述第二阻断结构的延伸方向与所述目标方向平行，所述第二阻断结构与所述第一阻断结构连接。
28.另一方面，提供了一种显示面板的制备方法，所述方法包括：
29.获取衬底基板，所述衬底基板具有显示区域以及位于所述显示区域一侧的周边区域；
30.形成多个子像素以及多个测试接口，所述多个子像素位于显示区域，所述多个测试接口位于所述周边区域，所述多个测试接口与所述多个子像素电连接；
31.形成间隔排布的多个条形的第一阻断结构，多个所述第一阻断结构位于所述周边区域，且所述第一阻断结构位于所述多个测试接口和所述多个子像素之间，每个所述第一阻断结构的延伸方向与目标方向相交，所述目标方向为所述周边区域和所述显示区域的排布方向。
32.可选的，所述获取衬底基板，包括：
33.提供一初始基板，所述初始基板具有显示区域，位于所述显示区域一侧的周边区域，以及位于所述周边区域远离所述显示区域的一侧的待切割区域；
34.在所述待切割区域形成间隔排布的多个条形的第三阻断结构，每个所述第三阻断结构的延伸方向与所述目标方向相交；
35.沿所述待切割区域切割所述初始基板，得到衬底基板。
36.又一方面，提供了一种显示装置，所述显示装置包括：供电组件以及如上述方面所述的显示面板；
37.所述供电组件用于为所述显示面板供电。
38.本技术提供的技术方案带来的有益效果至少包括：
39.本技术提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置，该显示面板包括衬底基板，多个测试接口，多个子像素，以及位于多个测试接口和多个子像素之间的多个第一阻断结构。该多个第一阻断结构能够阻断多个测试接口的周围的裂纹延伸至多个子像素所处的显示区域，确保显示面板的显示效果。
附图说明
40.为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
41.图1是本技术实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
42.图2是本技术实施例提供的一种衬底基板的俯视图；
43.图3是本技术实施例提供一种显示面板的局部示意图；
44.图4是图3所示的显示面板沿bb方向的截面图；
45.图5是本技术实施例提供的另一种显示面板的局部示意图；
46.图6是图5所示的显示面板沿cc方向的截面图；
47.图7是本技术实施例提供的又一种显示面板的局部示意图；
48.图8是图7所示的显示面板沿dd方向的截面图；
49.图9是本技术实施例提供的再一种显示面板的局部示意图；
50.图10是图9所示的显示面板沿ee方向的截面图；
51.图11是本技术实施例提供的一种衬底基板和无机材料膜层的截面图；
52.图12是本技术实施例提供的一种衬底基板和无机材料膜层的局部示意图；
53.图13是本技术实施例提供的再一种显示面板的局部示意图；
54.图14是图13所示的显示面板沿ff方向的截面图；
55.图15是本技术实施例提供的一种显示面板的截面图；
56.图16是图15所示的显示面板的俯视图；
57.图17是图15所示的显示面板去除有机材料膜层以及第二无机材料子膜层的俯视图；
58.图18是本技术实施例提供的另一种显示面板的截面图；
59.图19是图18所示的显示面板的俯视图；
60.图20是图18所示的显示面板去除有机材料膜层以及第二无机材料子膜层的俯视图；
61.图21是图18所示的显示面板中第二阻断层的俯视图；
62.图22是本技术实施例提供的再一种显示面板的局部示意图；
63.图23是图22所示的显示面板沿gg方向的截面图；
64.图24是本技术实施例提供的又一种显示面板的截面图；
65.图25是本技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；
66.图26是本技术实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程图；
67.图27是本技术实施例提供的另一种显示面板的制备方法的流程图；
68.图28是本技术实施例提供的一种显示面板形成第三阻断结构的局部俯视图；
69.图29是图28沿hh方向的截面图；
70.图30是本技术实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
71.为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本技术实施方式作进一步地详细描述。
72.显示面板出厂之前需要对显示面板中多个子像素的显示性能进行测试，通常称为探索性(exploratory，et)点灯测试，以确保显示面板出厂后的良率。
73.其中，显示面板的衬底基板上可以设置多个用于et点灯测试的测试接口(pin)，并使得测试设备与多个测试接口连接，以使得测试接口为多个子像素提供测试信号，实现对子像素的显示性能的测试。通常情况下，et点灯测试完成后，可以通过切割工艺将设置在衬底基板上的多个测试接口切割掉，最终出厂的显示面板中可以不包括测试接口。
74.但是，由于et点灯测试完成后，需要通过切割工艺将设置在衬底基板上的多个测试接口切割掉，因此多个测试接口与多个子像素之间的距离通常较大，容易导致多个测试接口与多个子像素之间的连接走线在et点灯测试过程中被灼伤。
75.由此，为了避免et点灯测试时的灼伤问题，可以将多个测试接口与多个子像素的距离设计的较小。由此，et点灯测试完成后，不会通过切割工艺将设置在衬底基板上的多个测试接口切割掉，最终出厂的显示面板中可以包括测试接口。但是，测试接口的周围通常具有裂纹(crack)，该裂纹会延伸至显示区域，影响显示面板的显示效果。
76.图1是本技术实施例提供的一种显示面板的结构示意图。参考图1可以看出，该显示面板10可以包括：衬底基板101，多个子像素102，多个测试接口103，以及间隔排布的多个条形的第一阻断结构104。
77.图2是本技术实施例提供的一种衬底基板的俯视图。参考图2，该衬底基板101可以具有显示区域101a以及位于显示区域101a一侧的周边区域101b。结合图1和图2可以看出，
多个子像素102位于显示区域101a，多个测试接口103位于周边区域101b，多个测试接口103可以与多个子像素102电连接(图1中未示出连接关系)。该多个测试接口103可以用于为多个子像素102提供测试信号，以测试多个子像素102的显示性能。
78.可选的，该显示区域101a可以称为有效显示区域(active area，aa)或者aa区。其中，多个子像素102位于显示区域101a可以用于表示：多个子像素102在衬底基板101上的正投影所在的区域可以为显示区域101a。
79.参考图1，多个第一阻断结构104位于周边区域101b，且多个第一阻断结构104位于周边区域101b。该多个第一阻断结构104可以位于多个测试接口103和多个子像素102之间。并且，每个第一阻断结构104的延伸方向y可以与目标方向x相交，该目标方向x可以为周边区域101b和显示区域101a的排布方向。
80.该多个第一阻断结构104可以用于阻断多个测试接口103的周围的裂纹的延伸路径，避免多个测试接口103的周围的裂纹延伸至显示区域101a，确保显示面板10的显示效果。
81.并且，由于第一阻断结构104的延伸方向y与目标方向x(周边区域101b和显示区域101a的排布方向)相交，因此也可以避免多个测试接口103的周围的裂纹沿着第一阻断结构104或多个第一阻断结构104之间的间隔延伸至显示区域101a，能够有效保证第一阻断结构104阻断裂纹的延伸。
82.可选的，第一阻断结构104的延伸方向y可以与目标方向x垂直。例如图1中，第一阻断结构104的延伸方向y可以为显示面板10的像素行方向，目标方向x可以为显示面板10的像素列方向。
83.综上所述，本技术实施例提供了一种显示面板，该显示面板包括衬底基板，多个测试接口，多个子像素，以及位于多个测试接口和多个子像素之间的多个第一阻断结构。该多个第一阻断结构能够阻断多个测试接口的周围的裂纹延伸至多个子像素所处的显示区域，确保显示面板的显示效果。
84.可选的，测试接口104的材料可以为金属。该测试接口104可以与显示面板10中子像素102的源漏极层位于同层。也即是，测试接口104可以与子像素102的源漏极层采用相同材料并由同一次构图工艺制备得到。
85.图3是本技术实施例提供一种显示面板的局部示意图。图4是图3所示的显示面板沿bb方向的截面图。参考图3和图4可以看出，该衬底基板101可以具有间隔排布的多个条形的第一镂空区域a1，该第一镂空区域a1可以贯穿该衬底基板101。
86.此种情况下，每个第一阻断结构104可以包括一个第一镂空区域a1。由此，多个测试接口103周围的裂纹在延伸至第一镂空区域a1(第一阻断结构104)的边界时，可以被第一镂空区域a1所阻断，进而避免裂纹延伸至显示区域101a，确保显示面板10的显示效果。并且，在衬底基板101上设置有第一镂空区域a1的部分的弯折性能较好，能够避免显示面板10在弯折时产生弯折裂纹。
87.可选的，该第一阻断结构104的形成方法可以包括：在衬底基板101的一侧涂覆光刻胶；采用第一掩膜板对光刻胶进行曝光；对曝光后的光刻胶进行显影；对衬底基板101中未被光刻胶保护的区域进行刻蚀；去除光刻胶。其中，刻蚀区域可以形成第一镂空区域a1，该第一镂空区域a1即为第一阻断结构104。
88.图5是本技术实施例提供的另一种显示面板的局部示意图。图6是图5所示的显示面板沿cc方向的截面图。参考图5和图6可以看出，该显示面板10还可以包括位于衬底基板101上的无机材料膜层105以及有机材料膜层106。多个测试接口103在衬底基板101上的正投影与无机材料膜层105105在衬底基板101上的正投影重叠，且与有机材料膜层106在衬底基板101上的正投影不重叠。可选的，该有机材料膜层106可以为平坦层(planarization layer，pln)。
89.参考图6，无机材料膜层105在衬底基板101上的正投影与多个第一阻断结构104以及多个第一阻断结构104之间的间隔不重叠。有机材料膜层106在衬底基板101上的正投影与多个第一阻断结构104以及多个第一阻断结构104之间的间隔不重叠。
90.可选的，该第一阻断结构104的形成方法可以包括：在有机材料膜层106的一侧涂覆光刻胶；采用第二掩膜板对光刻胶进行曝光；对曝光后的光刻胶进行显影，对有机材料膜层106，无机材料膜层105以及衬底基板101中未被光刻胶保护的区域进行刻蚀；去除光刻胶；在有机材料膜层106的一侧重新涂覆光刻胶；采用第三掩膜板对光刻胶进行曝光，对曝光后的光刻胶进行显影；对有机材料膜层106以及无机材料膜层105中未被光刻胶保护的区域进行刻蚀；去除光刻胶。其中，第二次刻蚀时可以仅刻蚀有机材料膜层106和无机材料膜层105，而无需刻蚀衬底基板101。刻蚀深度可以通过刻蚀时长来控制。
91.此种情况下，每个第一阻断结构104可以包括一个第一镂空区域a1。由此，多个测试接口103周围的裂纹在延伸至第一镂空区域a1(第一阻断结构)的边界时，可以被第一镂空区域a1所阻断，进而避免裂纹延伸至显示区域101a，确保显示面板10的显示效果。并且，在衬底基板101上设置有第一镂空区域a1的部分的弯折性能较好，能够避免显示面板10在弯折时产生弯折裂纹。
92.图7是本技术实施例提供的又一种显示面板的局部示意图。图8是图7所示的显示面板沿dd方向的截面图。参考图7和图8可以看出，无机材料膜层105可以具有第二镂空区域a2，有机材料膜层106可以具有第三镂空区域a3。
93.此种情况下，每个第一阻断结构104除了可以包括衬底基板101的一个第一镂空区域a1之外，还可以包括一个第二镂空区域a2和一个第三镂空区域a3。并且，每个第一阻断结构104包括的第一镂空区域a1，第二镂空区域a2以及第三镂空区域a3连通。由此，多个测试接口103周围的裂纹在延伸至第一镂空区域a1，第二镂空区域a2或第三镂空区域a3的边界时，可以被第一镂空区域a1，第二镂空区域a2或第三镂空区域a3所阻断，进而避免裂纹延伸至显示区域101a，确保显示面板10的显示效果。并且，显示面板10中第一镂空区域a1，第二镂空区域a2以及第三镂空区域a3的部分的弯折性能较好，能够避免显示面板10在弯折时产生弯折裂纹。
94.可选的，该第一阻断结构104的形成方法可以包括：在有机材料膜层106的一侧涂覆光刻胶；采用第四掩膜板对光刻胶进行曝光；对曝光后的光刻胶进行显影，对有机材料膜层106，无机材料膜层105以及衬底基板101中未被光刻胶保护的区域进行刻蚀；去除光刻胶。
95.由此，每个第一阻断结构104中的第一镂空区域a1，第二镂空区域a2以及第三镂空区域a3可以通过一次刻蚀得到。其中，第一镂空区域a1可以贯通衬底基板101，第二镂空区域a2可以贯通无机材料膜层105，第三镂空区域a3可以贯通有机材料膜层106。
96.参考图5至图8，该显示面板10还可以包括多个连接走线107，每个连接走线107的一端与一个测试接口103远离显示区域101a的一侧连接，另一端与多个子像素102连接。例如，每个连接走线107的另一端可以从测试接口103远离显示区域101a的一侧通过周边区域101b绕至显示区域101a，并与显示区域101a中的多个子像素102连接。
97.图9是本技术实施例提供的再一种显示面板的局部示意图。图10是图9所示的显示面板沿ee方向的截面图。结合图9和图10，显示面板10中的多个连接走线107中的每个连接走线107的一端可以与一个测试接口103靠近显示区域101a的一侧连接，另一端与多个子像素102连接。也即是，在该实现方式中，连接走线107直接与多个子像素102连接，而无需从周边区域101b绕至显示区域101a。
98.参考图9和图10，显示面板10还可以包括与多个连接走线107位于同层的虚设走线108。其中，该虚设走线108不会起到传输信号的作用。虚设走线108与连接走线107位于同层可以是指虚设走线108与连接走线107采用相同材料并由同一次构图工艺制备得到。例如，虚设走线108和连接走线107的材料均可以金属，且虚设走线108和连接走线107可以与显示面板10中子像素102的栅极(gate)层同层制备。
99.参考图9，每个连接走线107在衬底基板101上的正投影与多个第一阻断结构104不重叠，且每个连接走线107在衬底基板101上的正投影与有机材料膜层106在衬底基板101上的正投影重叠。
100.其中，图9示出了四个测试接口103以及对应的四个连接走线107。并且，每相邻两个连接走线107之间可以具有至少一个第一阻断结构104。例如图9中每相邻两个连接走线107之间具有四个第一阻断结构104。
101.可选的，该第一阻断结构104的形成方法可以包括：在有机材料膜层106的一侧涂覆光刻胶；采用第五掩膜板对光刻胶进行曝光；对曝光后的光刻胶进行显影，对有机材料膜层106，无机材料膜层105以及衬底基板101中未被光刻胶保护的区域进行刻蚀；去除光刻胶。
102.其中，图10中的第一阻断结构104的形成方法与图8中的第一阻断结构104的形成方式相同，只是所采用的掩膜板不同，从而使得最终形成的第一阻断结构104的形状不同。例如，图10中第一阻断结构104沿其延伸方向的长度，小于图8中第一阻断结构104沿其延伸方向的长度，且图10中第一阻断结构104的数量，大于图8中第一阻断结构104的数量。
103.参考图10，无机材料膜层105在衬底基板101上的正投影位于目标区域的部分的厚度d1，小于无机材料膜层105在衬底基板101上的正投影位于除目标区域之外的其他区域的部分的厚度d2。其中，目标区域覆盖多个第一阻断结构104之间的间隔在衬底基板101上的正投影。
104.相对于有机材料膜层106，无机材料膜层105更容易导致测试接口103周围的裂纹延伸。由此，通过使得无机材料膜层105在衬底基板101上的正投影位于目标区域的部分的厚度较小，可以避免裂纹通过多个第一阻断结构104之间的间隔中的无机材料膜层105延伸至显示区域101a，确保显示面板10的显示效果。
105.可选的，目标区域覆盖多个第一阻断结构104之间的间隔在衬底基板101上的正投影可以用于表示：目标区域沿目标方向x的投影的长度，大于或等于多个第一阻断结构104中沿目标方向x距离最大的两个第一阻断结构104之间的距离。并且，目标区域沿垂直于第
一阻断结构104的延伸方向的投影的长度，大于或等于多个第一阻断结构104中沿延伸方向距离最大的两个第一阻断结构104之间的距离。
106.图11是本技术实施例提供的一种衬底基板和无机材料膜层的截面图。图12是本技术实施例提供的一种衬底基板和无机材料膜层的局部示意图。参考图11和图12，无机材料膜层105可以具有间隔排布的多个条形的第四镂空区域a4，该第四镂空区域a4的延伸方向与目标方向x相交。参考图11和图12，该第四镂空区域a4可以露出位于无机材料膜层105的一侧的衬底基板101。
107.图13是本技术实施例提供的再一种显示面板的局部示意图。图14是图13所示的显示面板沿ff方向的截面图。参考图13和图14，有机材料膜层106可以包括第一主体部1061，以及位于多个第四镂空区域a4中的多个第一填充部1062。
108.此种情况下，多个第一阻断结构104可以至少包括多个第一填充部1062。例如一个第一阻断结构104包括一个第一填充部1062。由此，多个测试接口103周围的裂纹在延伸至第一填充部1062的边界时，可以被第一填充部1062所阻断，进而避免裂纹延伸至显示区域101a，确保显示面板10的显示效果。并且，显示面板10中第一填充部1062的部分的弯折性能较好，能够避免显示面板10在弯折时产生弯折裂纹。
109.可选的，该第一阻断结构104的形成方法可以包括：在形成无机材料膜层105之后，在无机材料膜层105的一侧涂覆光刻胶；采用第六掩膜板对光刻胶进行曝光；对曝光后的光刻胶进行显影；对无机材料膜层105中未被光刻胶保护的区域进行刻蚀，得到多个第四镂空区域a4；去除光刻胶；在无机材料膜层105远离衬底基板101的一侧形成有机材料膜层106，使得有机材料膜层106能够填充至第四镂空区域a4内。其中，填充至第四镂空区域a4内的第一填充部1062即为第一阻断结构104。
110.图15是本技术实施例提供的一种显示面板的截面图。图16是图15所示的显示面板的俯视图。图17是图15所示的显示面板去除有机材料膜层以及第二无机材料子膜层的俯视图。结合图15至图17，该无机材料膜层105可以包括：沿远离衬底基板101的方向依次层叠的第一无机材料子膜层1051以及第二无机材料子膜层1052。显示面板10还包括位于第一无机材料子膜层1051和第二无机材料子膜层1052之间的多个连接走线107和第一阻断层109。
111.可选的，连接走线107和第一阻断层109位于同层，且连接走线107和第一阻断层109可以采用相同材料并由同一次制备工艺制备得到。例如，连接走线107和第一阻断层109的材料均为金属，且连接走线107和第一阻断层109均可以与显示面板10的子像素102的栅极层同层制备。
112.其中，每个连接走线107的一端与一个测试接口103远离显示区域101a的一侧连接，另一端与多个子像素102连接。例如，每个连接走线107的另一端可以从测试接口103远离显示区域101a的一侧通过周边区域101b绕至显示区域101a，并与显示区域101a中的多个子像素102连接。
113.可选的，每个第四镂空区域a1包括位于第一无机材料子膜层1051的第一子镂空区域以及位于第二无机材料子膜层1052的第二子镂空区域。参考图15，有机材料膜层106的第一填充部1062位于第二子镂空区域内。并且，第一阻断层109包括第二主体部1091，以及位于第一子镂空区域中的第二填充部1092。其中，图15并未示意第一子镂空区域和第二子镂空区域。
114.此种情况下，多个第一阻断结构104可以包括：多个第一填充部1062和多个第二填充部1092。参考图15，多个第一填充部1062和多个第二填充部1092在目标方向x上交错排布。当然，多个第一填充部1062和多个第二填充部1092在目标方向x上无需交错排布。例如，沿目标方向x相邻的两个第二填充部1092之间可以不具有第一填充部1062，或者具有两个或两个以上的第一填充部1062。本技术实施例对此不做限定。
115.可选的，该第一阻断结构104的形成方法可以包括：在形成第一无机材料子膜层1051之后，在第一无机材料子膜层1051的一侧涂覆光刻胶；采用第七掩膜板对光刻胶进行曝光；对曝光后的光刻胶进行显影；对第一无机材料子膜层1051中未被光刻胶保护的区域进行刻蚀，得到第一子镂空区域；去除光刻胶；在第一无机材料子膜层1051远离衬底基板101的一侧形成第一阻断层109，使得第一阻断层109能够填充至第一子镂空区域内；在第一阻断层109远离衬底基板101的一侧形成第二无机材料子膜层1052；在第二无机材料子膜层1052的一侧涂覆光刻胶；采用第八掩膜板对光刻胶进行曝光；对曝光后的光刻胶进行显影；对第二无机材料子膜层1052中未被光刻胶保护的区域进行刻蚀，得到第二子镂空区域；去除光刻胶；在第二无机材料子膜层1052远离衬底基板101的一侧形成有机材料膜层106，使得有机材料膜层106能够填充至第二子镂空区域内。其中，填充至第一子镂空区域内的第二填充部1092以及填充至第二子镂空区域内的第一填充部1062即为第一阻断结构104。
116.图18是本技术实施例提供的另一种显示面板的截面图。图19是图18所示的显示面板的俯视图。图20是图18所示的显示面板去除有机材料膜层以及第二无机材料子膜层的俯视图。图21是图18所示的显示面板中第二阻断层的俯视图。结合图18至图21，显示面板10还包括：位于衬底基板101和第一无机材料子膜层1051之间的第二阻断层110。衬底基板101具有间隔排布的多个条形的第五镂空区域(图中未示出)，该第五镂空区域的延伸方向可以与目标方向x相交。第二阻断层110可以包括第三主体部1101，以及位于多个第五镂空区域中的多个第三填充部1102。
117.此种情况下，多个第一阻断结构104可以包括：多个第一填充部1062，多个第二填充部1092以及多个第三填充部1102。参考图18至图20，多个第三填充部1102在衬底基板101上的正投影所在区域可以与测试接口103在衬底基板101上的正投影重叠。多个第一填充部1062在衬底基板101上的正投影与测试接口103在衬底基板101上的正投影不重叠。多个第二填充部1092在衬底基板101上的正投影与测试接口103在衬底基板101上的正投影不重叠。
118.参考图18，多个第一阻断结构104可以为阶梯型结构，能够有效避免多个测试接口103的周围的裂纹延伸至显示区域101a，第一阻断结构104阻断裂纹延伸的效果较好。
119.图22是本技术实施例提供的再一种显示面板的局部示意图。图23是图22所示的显示面板沿gg方向的截面图。参考图22和图23可以看出，显示面板10还可以包括：条形的第二阻断结构111。该第二阻断结构111位于周边区域101b，该第二阻断结构111位于多个测试接口103沿目标方向x的一侧。例如，多个测试接口103沿目标方向x的两侧分别设置有两个第二阻断结构111。该第二阻断结构111的延伸方向与目标方向x平行，且该第二阻断结构111与第一阻断结构104连接。
120.可选的，图22以第一阻断结构104包括第一填充部1062为例。相应的，无机材料膜层105可以具有多个条形的第六镂空区域，该第六镂空区域的延伸方向与目标方向x平行。
第二阻断结构111位于第六镂空区域内。
121.通过在多个测试接口103沿目标方向x的一侧设置第二阻断结构111，可以进一步避免测试接口103周围的裂纹从测试接口103沿目标方向x的一侧延伸，保证显示面板的良率。
122.图24是本技术实施例提供的再一种显示面板的截面图。参考图24可以看出，衬底基板101可以包括第一基板1011和第二基板1012。无机材料膜层105还可以包括第三无机材料子膜层1053。其中，第一基板1011，第三无机材料子膜层1051，第二基板1012，第一无机材料子膜层1051，以及第二无机材料子膜层1052依次层叠。
123.可选的，衬底基板101中第一基板1011和第二基板1012的材料均可以为聚酰亚胺(polyimide，pi)。
124.图25是本技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图。参考图25可以看出，该显示面板10还可以包括绑定接口112，绑定接口112可以位于测试接口103靠近衬底基板101的边缘的一侧。并且，绑定接口112的尺寸相对于测试接口103的尺寸小，因此绑定接口112的周围产生裂纹的可能性，小于测试接口103的周围产生裂纹的可能性。
125.可选的，显示面板10可以为折叠显示面板。该折叠显示面板10的折叠线可以为图25中所示的中线m。由于本技术实施例的显示面板中设置有第一阻断结构104的弯折性能较好，因此在折叠显示面板10沿折叠线m弯折时，可以避免折叠显示面板10产生弯折裂纹。
126.综上所述，本技术实施例提供了一种显示面板，该显示面板包括衬底基板，多个测试接口，多个子像素，以及位于多个测试接口和多个子像素之间的多个第一阻断结构。该多个第一阻断结构能够阻断多个测试接口的周围的裂纹延伸至多个子像素所处的显示区域，确保显示面板的显示效果。
127.图26是本技术实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程图。该方法可以用于制备上述实施例所提供的显示面板。参考图26，该方法可以包括：
128.步骤201、获取衬底基板。
129.其中，该衬底基板101具有显示区域101a以及位于显示区域101a一侧的周边区域101b。
130.步骤202、形成多个子像素以及多个测试接口。
131.在本技术实施例中，多个子像素102位于显示区域101a，多个测试接口103位于周边区域101b，多个测试接口103可以与多个子像素102电连接。该多个测试接口103可以用于为多个子像素102提供测试信号，以测试多个子像素102的显示性能。
132.步骤203、形成间隔排布的多个条形的第一阻断结构。
133.在本技术实施例中，多个第一阻断结构104位于周边区域101b，且多个第一阻断结构104位于周边区域101b。该多个第一阻断结构104可以位于多个测试接口103和多个子像素102之间。并且，每个第一阻断结构104的延伸方向y可以与目标方向x相交，该目标方向x可以为周边区域101b和显示区域101a的排布方向。
134.该多个第一阻断结构104可以用于阻断多个测试接口103的周围的裂纹的延伸路径，避免多个测试接口103的周围的裂纹延伸至显示区域101a，确保显示面板10的显示效果。
135.并且，由于第一阻断结构104的延伸方向y与目标方向x(周边区域101b和显示区域
101a的排布方向)相交，因此也可以避免多个测试接口103的周围的裂纹沿着第一阻断结构104或多个第一阻断结构104之间的间隔延伸至显示区域101a，能够有效保证第一阻断结构104阻断裂纹延伸的效果。
136.可选的，第一阻断结构104的延伸方向y可以与目标方向x垂直。例如图1中，第一阻断结构104的延伸方向y可以为显示面板10的像素行方向，目标方向x可以为显示面板10的像素列方向。
137.综上所述，本技术实施例提供了一种显示面板的制备方法，该方法制备得到的显示面板包括衬底基板，多个测试接口，多个子像素，以及位于多个测试接口和多个子像素之间的多个第一阻断结构。该多个第一阻断结构能够阻断多个测试接口的周围的裂纹延伸至多个子像素所处的显示区域，确保显示面板的显示效果。
138.图27是本技术实施例提供的另一种显示面板的制备方法的流程图。该方法可以用于制备上述实施例所提供的显示面板。参考图27，该方法可以包括：
139.步骤301、提供一初始基板。
140.在本技术实施例中，在制备显示面板时，可以先获取一初始基板。该初始基板可以具有显示区域，位于显示区域一侧的周边区域，以及位于周边区域远离显示区域的一侧的待切割区域。
141.其中，该待切割区域可以用于在后续形成其他膜层之后，沿该待切割区域切割初始基板。
142.步骤302、形成多个子像素以及多个测试接口。
143.在本技术实施例中，多个子像素102位于显示区域101a，多个测试接口103位于周边区域101b，多个测试接口103可以与多个子像素102电连接。该多个测试接口103可以用于为多个子像素102提供测试信号，以测试多个子像素102的显示性能。
144.步骤303、形成间隔排布的多个条形的第一阻断结构。
145.在本技术实施例中，多个第一阻断结构104位于周边区域101b，且多个第一阻断结构104位于周边区域101b。该多个第一阻断结构104可以位于多个测试接口103和多个子像素102之间。并且，每个第一阻断结构104的延伸方向y可以与目标方向x相交，该目标方向x可以为周边区域101b和显示区域101a的排布方向。
146.该多个第一阻断结构104可以用于阻断多个测试接口103的周围的裂纹的延伸路径，避免多个测试接口103的周围的裂纹延伸至显示区域101a，确保显示面板10的显示效果。
147.并且，由于第一阻断结构104的延伸方向y与目标方向x(周边区域101b和显示区域101a的排布方向)相交，因此也可以避免多个测试接口103的周围的裂纹沿着第一阻断结构104或多个第一阻断结构104之间的间隔延伸至显示区域101a，能够有效保证第一阻断结构104阻断裂纹延伸的效果。
148.可选的，第一阻断结构104的延伸方向y可以与目标方向x垂直。例如图1中，第一阻断结构104的延伸方向y可以为显示面板10的像素行方向，目标方向x可以为显示面板10的像素列方向。
149.步骤304、在待切割区域形成间隔排布的多个条形的第三阻断结构。
150.在本技术实施例中，结合图28和图29，在初始基板c的待切割区域形成间隔排布的
多个条形的第三阻断结构b。参考图29，该第三阻断结构b可以为第一无机材料膜层1051，虚设走线108，以及第二无机材料膜层1052中形成的镂空区域。该镂空区域b可以用于露出第二阻断层110。
151.通过在待切割区域形成第三阻断结构b，可以避免后续沿该待切割区域切割时，测试接口103的周围的裂纹延伸至该待切割区域，确保切割的效果。
152.可选的，图28和图29以显示面板10中的第一阻断结构104包括有机材料膜层106的第一填充部1061和第二阻断成110中的第三填充部1102为例进行说明。当然，本技术实施例提供的上述任一显示面板10在制备时，均可以在初始基板的待切割区域形成多个条形的第三阻断结构b。本技术实施例在此不再赘述。
153.步骤305、沿待切割区域切割初始基板。
154.在本技术实施例中，在待切割区域形成多个第三阻断结构b之后，可以沿该待切割区域切割初始基板。其中，沿待切割区域切割初始基板c时，可以将初始基板c上形成的其他膜层一同切割掉，以得到显示面板。
155.示例的，参考图29，可以沿待切割区域切割初始基板c，第二阻断层110，无机材料层105以及虚设走线108。
156.需要说明的是，本技术实施例提供的显示面板的制备方法的步骤的先后顺序可以进行适当调整，步骤也可以根据情况进行相应增减。例如，步骤303可以在步骤302之前执行，步骤304可以根据情况删除。任何熟悉本技术领域的技术人员在本技术揭露的技术范围内，可轻易想到变化的方法，都应涵盖在本技术的保护范围之内，因此不再赘述。
157.综上所述，本技术实施例提供了一种显示面板的制备方法，该方法制备得到的显示面板包括衬底基板，多个测试接口，多个子像素，以及位于多个测试接口和多个子像素之间的多个第一阻断结构。该多个第一阻断结构能够阻断多个测试接口的周围的裂纹延伸至多个子像素所处的显示区域，确保显示面板的显示效果。
158.图30是本技术实施例提供的一种显示装置的结构示意图。参考图30可以看出，该显示装置可以包括供电组件40以及如上述实施例所提供的显示面板10。该供电组件40可以用于为显示面板10供电。其中，该显示装置可以为折叠显示装置。
159.可选的，该显示装置可以为有机发光二极管(organic light
‑
emitting diode，oled)显示面板、电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框或导航仪等任何具有显示功能以及指纹识别功能的产品或部件。
160.以上所述仅为本技术的可选实施例，并不用以限制本技术，凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。