一种传感器单晶硅刻蚀装置的送气机构的制作方法

1.本发明涉及传感器技术领域，具体为一种传感器单晶硅刻蚀装置的送气机构。


背景技术：

2.传感器制作过程中需要使用单晶硅，而单晶硅在加工过程中均需要金国刻蚀处理，现有技术中通常将多个单晶硅叠放在容器内部的片架上，而后向容器内部导入反应气体，并使得反应气体在电厂环境下产生等离子体，继而对单晶硅进行刻蚀操作。
3.现有的装置存在的缺陷是：
4.1.对比文件cn104979248a公开了传感器单晶硅刻蚀装置的送气机构，“包括有反应室，反应室的上端部设置有送气管道，其连接至设置在反应室外部的气源室；所述反应室的上端面设置有反应端盖，其采用中空结构，所述送气管道延伸至反应端盖内部；所述反应端盖的下端面之中设置有多个导气管道，每一个导气管道均包括有第一管部，第二管部与第三管部，所述第一管部的直径在竖直方向上逐渐缩小，第三管部的直径在竖直方向上逐渐增大；采用上述技术方案的传感器单晶硅刻蚀装置的送气机构，其可通过导气管道的结构设置，使得其在第一管部与第三管部之间形成压差，使得反应气体可迅速通入反应室之中，并通过压差避免反应气体回到反应端盖之中，以造成气体的外泄。”但是本装置中缺少迅速降温的结构，当反应室内部的单晶硅刻蚀操作结束后，其温度一时难以降低，等其自然降温需要较长时间，会影响后续单晶硅刻蚀的效率；
5.2.对比文件cn104975351a公开了可改善加工精度的传感器单晶硅刻蚀装置，“包括有反应室，反应室的上端部设置有送气管道，其连接至设置在反应室外部的气源室，所述反应室的轴线位置设置有片架；所述片架由有多个在水平方向上延伸的置放板件堆叠而成，每一个置放板件均采用环形结构；所述反应室中，送气管道的端部位置设置有导流板，其包括有连接至反应室侧端面，且沿水平方向进行延伸的连接部分，其采用环形结构；所述连接部分的内侧边部设置有延伸至置放板件内侧的导流部分，连接部分与导流部分之上分别设置有多个导流孔；上述刻蚀装置使得片架不同径向位置的单晶硅与反应气体之间可进行均匀的接触，进而使得片架中的单晶硅的整体加工精度可得以现在改善。”但是装置在使用时，缺少运行监测装置，当装置在进行刻蚀操作时，反应气体若未进入反应室的内部，使用者无法及时得知，会影响刻蚀效果和效率；
6.3.对比文件cn104975350a公开了传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置，“包括有反应室，反应室的轴线位置设置有片架，其连接至设置在反应室外部的片架旋转机构；所述反应室外侧设置有电磁线圈；所述反应室中，片架之上设置有多个在水平方向上延伸的支撑杆件，每一个支撑杆件的端部位置均设置有导向轮，其与支撑杆件通过转轴进行连接，所述导向轮的轴线平行于反应室的轴线，导向轮相交于反应室的内壁之上；采用上述技术方案的传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置，其可在片架于反应室内部进行刻蚀加工的过程中，通过多个支撑杆件对片架进行定位处理，使得其始终处于反应室的轴线位置，从而使得片架之中的多个单晶硅的刻蚀加工的精度得以改善。”但是装置在使用时缺少促
使反应气体输气均匀的部件，导致进入反应室内部的反应气体对单晶硅作用不够均匀。


技术实现要素：

7.本发明的目的在于提供一种传感器单晶硅刻蚀装置的送气机构，以解决上述背景技术中提到出的问题。
8.为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种传感器单晶硅刻蚀装置的送气机构，包括底座、容器筒和旋转电机，所述底座的凹陷处底壁安装有容器筒，所述底座的底壁安装有旋转电机，且旋转电机的顶部与容器筒的底部贴合，所述容器筒的顶部安装有两组双向电机，所述底座的顶部安装有送气箱，且送气箱位于容器筒的一侧，所述送气箱的正面安装有输送结构，且输送结构的尾端延伸进入容器筒的内部，所述送气箱的顶部安装有水泵，所述水泵的输出端安装有软管，且软管的尾端延伸进入输送结构的内部，所述容器筒的顶壁安装有多组嵌合套筒和一组凹形橡胶圈，且多组嵌合套筒分别环绕在凹形橡胶圈的外侧。
9.优选的，所述送气箱的背面安装有送气孔板，送气孔板的正面安装有送气风机，送气风机位于送气箱的内部，送气箱的顶部设置有槽口，槽口的内部安装有拉板，拉板的底部安装有拦尘板，且拦尘板位于送气风机的前方，送气箱的正面设置有出气口。
10.优选的，所述输送结构由连接管、输送管、内腔层和风力传感器组成，送气箱的正面安装由连接管，出气口位于连接管的内部，连接管的正面安装有输送管，输送管的尾端延伸进入容器筒的内部，输送管与连接管的内壁均设置有内腔层，输送管的顶部安装有风力传感器，且风力传感器的底部延伸进入输送管的内部。
11.优选的，所述凹形橡胶圈的内部安装送气筒，且送气筒的底部延伸处凹形橡胶圈的内部，送气筒的底部均匀设置有多组槽孔。
12.优选的，所述嵌合套筒的两侧外壁均设置有通槽，嵌合套筒的底部安装有活动筒，活动筒的顶部安装有两组弹性片，两组弹性片均位于嵌合套筒的内部，弹性片的顶部安装有卡钩，且卡钩的凹陷处顶壁与通槽的底壁贴合，嵌合套筒的一侧外壁安装有限制板，且限制板的顶部与送气筒的底部贴合。
13.优选的，所述双向电机的输出端安装有轴杆，轴杆的底部安装有螺纹杆，螺纹杆的外表面通过螺纹嵌合安装有环形移动板，环形移动板的外壁安装有清扫环，清扫环的外壁与容器筒的内壁贴合，容器筒的顶壁安装有两组丝杆，且丝杆的底部贯穿环形移动板的内部，丝杆和螺纹杆的底部均安装有限位板，容器筒的底壁均匀安装有四组支撑柱，支撑柱的顶部与限位板的底部贴合。
14.优选的，所述底座的底壁安装有两组分隔板，且两组分隔板分别将底座的内部空间从左至右分别划分为空间一、空间而和空间三，底座的一侧内壁安装有l型板，l型板的一侧外壁与其中一组分隔板的外壁贴合，底座的另一侧内壁安装有支撑板，支撑板靠近l型板的一侧与另外一组分隔板的外壁贴合，且支撑板与l型板的顶部均与容器筒的底部贴合。
15.优选的，所述容器筒的两侧外壁均安装有多组电磁线圈，容器筒的顶部安装有温度感应器，且温度感应器的底部延伸进入容器筒的内部，容器筒的顶部安装有报警器，且报警器位于温度感应器的一侧，容器筒的底部安装有抽气管道，且抽气管道的尾端延伸进入空间三的内部，空间三的底壁安装有真空泵，且真空泵的输入端与抽气管道的尾端连接。
16.优选的，所述旋转电机的输出端安装有轴杆，且轴杆延伸进入容器筒的内部，轴杆的顶部安装有片架。
17.优选的，该装置的工作步骤如下：
18.s1.需要将送气筒的顶部嵌合在凹形橡胶圈的内部，而后可捏住两组弹性片，使得其在挤压力的作用下向内合并，而后将其往嵌合套筒的内部输送，直至弹性片一侧所安装的卡钩位于通槽的内侧时，放开对弹性片所施加的挤压力，此时两组弹性片会恢复原状，而后卡钩会贯穿通槽的内部，之后对活动筒施加拉力，使得卡钩的凹陷处顶壁与通槽的底壁贴合，此时，活动筒与嵌合套筒之间的安装位置可确定，且限制板的顶部可与送气筒的底部贴合，可用于支撑送气筒，避免其从凹形橡胶圈的内部掉落，此时输送结构导入至送气筒内部的气体不会从送气筒与容器筒顶壁的连接处发生泄漏，且送气筒的底部均匀设置有多组槽孔，其槽孔从上至下直径逐渐放大，可便于送气筒内部气体往下排放时，气体往两侧飘动，可在一定程度上保证输气均匀；
19.s2.当装置需要进行刻蚀操作时，送气孔板背面可外接装载反应气体的容器，而后可通过送气风机在电力的作用下可以带动其内部安装的多组扇叶转动，而后可搅动空气，以形成风，由此将加快反应气体导入至输送结构的内部的速度，而后通过输送结构将反应气体导入至容器筒的内部对单晶硅进行刻蚀操作；
20.s3.当刻蚀操作结束后，送气箱的背面断开与装载有反应气体容器的连接，而后通过送气风机在电力的作用下可以带动其内部安装的多组扇叶转动，而后可搅动空气，产生风力，并且其风力可由输送结构导入至容器筒的内部，同时，内腔层的内部可由水泵注入冷水，可降低送气风机所产生的风力的温度，继而可加快对刻蚀结束后的容器筒内部温度的降低；
21.s4.风力传感器的输出端位于输送管的内部管道中，其与送气风机、报警器之间电性连接，当送气风机启动时，风力传感器的感应端会在风力的推动下发生旋转，当风力传感器在送气风机启动后器输出端无法感知风力时，此时报警器可发出警报，以提醒使用者，装置中无法输送反应气体或者风力进入容器筒的内部；
22.s5.当双向电机启动时，其输出端所安装的轴杆可带动螺纹杆转动，环形移动板的内部设置有两组带有内螺纹的槽洞，当螺纹杆转动时，与其外表面相互嵌合的环形移动板跟随其转动方向进行向上或者向下移动，而后可带动清扫环对容器筒的内部进行上下擦拭清扫，避免容器筒的内壁上沾染较多灰尘，影响单晶硅的刻蚀操作。
23.与现有技术相比，本发明的有益效果是：
24.1.本发明在使用过程中，当刻蚀操作结束后，送气箱的背面断开与装载有反应气体容器的连接，而后通过送气风机在电力的作用下可以带动其内部安装的多组扇叶转动，而后可搅动空气，产生风力，并且其风力可由输送结构导入至容器筒的内部，同时，内腔层的内部可由水泵注入冷水，可降低输送结构内部的原有温度，而后辅助以送气风机，继而可加快对刻蚀结束后的容器筒内部温度的降低，可节约多组单晶硅在进行刻蚀操作之间的间隔时间；
25.2.本发明在使用过程中，风力传感器的输出端位于输送管的内部管道中，其与送气风机、报警器之间电性连接，当送气风机启动时，风力传感器的感应端会在风力的推动下发生旋转，当风力传感器在送气风机启动后器输出端无法感知风力时，此时报警器可发出
警报，以提醒使用者，装置中无法输送反应气体或者风力进入容器筒的内部；
26.3.本发明在使用过程中，对于送气筒可将其顶部嵌合在凹形橡胶圈的内部，而后可捏住两组弹性片，使得其在挤压力的作用下向内合并，而后将其往嵌合套筒的内部输送，直至弹性片一侧所安装的卡钩位于通槽的内侧时，放开对弹性片所施加的挤压力，此时两组弹性片会恢复原状，而后卡钩会贯穿通槽的内部，之后对活动筒施加拉力，使得卡钩的凹陷处顶壁与通槽的底壁贴合，此时，活动筒与嵌合套筒之间的安装位置可确定，且限制板的顶部可与送气筒的底部贴合，可用于支撑送气筒，避免其从凹形橡胶圈的内部掉落，此时输送结构导入至送气筒内部的气体不会从送气筒与容器筒顶壁的连接处发生泄漏，且送气筒的底部均匀设置有多组槽孔，其槽孔从上至下直径逐渐放大，可便于送气筒内部气体往下排放时，气体往两侧飘动，可在一定程度上保证输气均匀。
附图说明
27.图1为本发明的整体结构示意图；
28.图2为本发明剖面的结构示意图；
29.图3为本发明双向电机、螺纹杆与环形移动板的安装结构示意图；
30.图4为本发明送气箱与输送结构的安装结构示意图；
31.图5为本发明输送管与风力传感器的安装结构示意图；
32.图6为本发明嵌合套筒、活动筒与弹性片的安装结构示意图；
33.图7为本发明凹形橡胶圈与送气筒的安装结构示意图；
34.图8为本发明送气筒与限制板的安装结构示意图。
35.图中：1、底座；101、l型板；102、支撑板；103、分隔板；2、容器筒；201、电磁线圈；202、温度感应器；203、报警器；204、抽气管道；205、真空泵；3、旋转电机；301、片架；4、双向电机；401、螺纹杆；402、丝杆；403、环形移动板；404、清扫环；405、限位板；5、送气箱；501、送气孔板；502、送气风机；503、拉板；504、拦尘板；505、出气口；6、输送结构；601、连接管；602、输送管；603、内腔层；604、风力传感器；7、水泵；8、嵌合套筒；801、通槽；802、活动筒；803、弹性片；804、卡钩；805、限制板；9、凹形橡胶圈；901、送气筒；902、槽孔。
具体实施方式
36.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
37.请参阅图1
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图8，本发明提供的一种实施例：一种传感器单晶硅刻蚀装置的送气机构，包括底座1、容器筒2和旋转电机3，底座1的凹陷处底壁安装有容器筒2，底座1在本装置中可用于固定容器筒2，且其可以将装置中各个部件组合在一起，便于各个部件之间相互配合作用，容器筒2为本装置对单晶硅进行刻蚀操作提供了固定场所，且容器筒2的内部各个槽洞处皆作密封处理，可避免进入容器筒2内部的气体发生泄漏，底座1的底壁安装有旋转电机3，且旋转电机3的顶部与容器筒2的底部贴合，旋转电机3在电力的作用下可以带动其输出端所安装的轴杆转动，而后可带动轴杆顶部的片架301转动，而后可带动放置在片架
301上的单晶硅作旋转活动，容器筒2的顶部安装有两组双向电机4，双向电机4在电力的作用下可以通过其输出端所安装的轴杆带动螺纹杆401转动，而后可带动与螺纹杆401外表面螺纹相互嵌合的环形移动板403作上下移动操作，底座1的顶部安装有送气箱5，且送气箱5位于容器筒2的一侧，送气箱5的内部通过送气风机502可便于将反应气体输送进入容器筒2的内部，等到装置的单晶硅刻蚀操作结束后，送气箱5的送气孔板501处可不再供应反应气体，此时，可通过送气风机502在电力的作用下带动其内部的扇叶发生转动，而后形成风力，之后通过输送结构6传输至容器筒2的内部，送气箱5的正面安装有输送结构6，且输送结构6的尾端延伸进入容器筒2的内部，输送结构6可用于输送从送气箱5处导入的反应气体或者风力，而后将其导入至容器筒2的内部，且输送结构6的内部设置有内腔层603，其内部可注入冷水，可降低送气风机502所产生的风力的温度，当容器筒2内部刻蚀操作结束后，风力输送进入容器筒2的内部，可迅速降低其内部的温度，送气箱5的顶部安装有水泵7，水泵7在本装置中可用于抽取冷水进入输送结构6内部的内腔层603中，以便降低输送结构6内部管道的温度，水泵7的输出端安装有软管，且软管的尾端延伸进入输送结构6的内部，软管的尾端可延伸进入内腔层603的内部，继而可将水泵7抽取的冷水由软管导入至内腔层603中，容器筒2的顶壁安装有多组嵌合套筒8和一组凹形橡胶圈9，且多组嵌合套筒8分别环绕在凹形橡胶圈9的外侧，凹形橡胶圈9由橡胶材质制成，其本身具有密封性，当送气筒901的顶部嵌合在其内部时，输送结构6导入至送气筒901内部的气体不会从送气筒901与容器筒2顶壁的连接处发生泄漏，以免气体分布不均。
38.进一步，送气箱5的背面安装有送气孔板501，送气孔板501的正面安装有送气风机502，送气风机502位于送气箱5的内部，送气箱5的顶部设置有槽口，槽口的内部安装有拉板503，拉板503的底部安装有拦尘板504，且拦尘板504位于送气风机502的前方，送气箱5的正面设置有出气口505，送气孔板501内部由多个小孔组成，其在便于安装送气风机502的同时，可便于向送气箱5的内部输入空气，当装置需要进行刻蚀操作时，送气孔板501背面可外接装载反应气体的容器，而后可通过送气箱5和输送结构6将反应气体输送进入容器筒2的内部，以作单晶硅刻蚀操作使用，送气风机502在电力的作用下可以带动其内部安装的多组扇叶转动，而后可搅动空气，以形成风，并且其风力可由输送结构6导入至容器筒2的内部，可在刻蚀操作结束后以作降温使用，拉板503的安装可便于将拦尘板504从送气箱5的内部拉出，继而便于其更换或清理，拦尘板504的内部均匀设置有多组小孔，其在容许送气风机502产生的风力通过的同时，还可以对风力进行过滤筛选，避免风力中较多杂质进入容器筒2的内部，给单晶硅的刻蚀操作造成影响，出气口505可方便送气箱5将气体往外侧导出。
39.进一步，输送结构6由连接管601、输送管602、内腔层603和风力传感器604组成，送气箱5的正面安装由连接管601，出气口505位于连接管601的内部，连接管601的正面安装有输送管602，输送管602的尾端延伸进入容器筒2的内部，输送管602与连接管601的内壁均设置有内腔层603，输送管602的顶部安装有风力传感器604，且风力传感器604的底部延伸进入输送管602的内部，连接管601完全遮住出气口505，由出气口505处所导出的气体可由连接管601传递至输送管602的内部，而后经由输送管602传递至容器筒2的内部，内腔层603的内部可由水泵7注入冷水，可降低送气风机502所产生的风力的温度，当容器筒2内部刻蚀操作结束后，风力输送进入容器筒2的内部，可迅速降低其内部的温度，风力传感器604的输出端位于输送管602的内部管道中，其与送气风机502、报警器203之间电性连接，当送气风机
502启动时，风力传感器604的感应端会在风力的推动下发生旋转，当风力传感器604在送气风机502启动后器输出端无法感知风力时，此时报警器203可发出警报，以提醒使用者，装置中无法输送反应气体或者风力进入容器筒2的内部。
40.进一步，凹形橡胶圈9的内部安装送气筒901，且送气筒901的底部延伸处凹形橡胶圈9的内部，送气筒901的底部均匀设置有多组槽孔902，送气筒901可接收从输送结构6内部所导入至容器筒2内部的气体，而后可通过其底部所设置的多组槽孔902将气体分散排出，使得片架301上所放置的多组单晶硅均能受到反应气体的作用。
41.进一步，嵌合套筒8的两侧外壁均设置有通槽801，嵌合套筒8的底部安装有活动筒802，活动筒802的顶部安装有两组弹性片803，两组弹性片803均位于嵌合套筒8的内部，弹性片803的顶部安装有卡钩804，且卡钩804的凹陷处顶壁与通槽801的底壁贴合，嵌合套筒8的一侧外壁安装有限制板805，且限制板805的顶部与送气筒901的底部贴合，当送气筒901的顶部嵌合在凹形橡胶圈9的内部时，可捏住两组弹性片803，使得其在挤压力的作用下向内合并，而后将其往嵌合套筒8的内部输送，直至弹性片803一侧所安装的卡钩804位于通槽801的内侧时，放开对弹性片803所施加的挤压力，此时两组弹性片803会恢复原状，而后卡钩804会贯穿通槽801的内部，之后对活动筒802施加拉力，使得卡钩804的凹陷处顶壁与通槽801的底壁贴合，此时，活动筒802与嵌合套筒8之间的安装位置可确定，且限制板805的顶部可与送气筒901的底部贴合，可用于支撑送气筒901，避免其从凹形橡胶圈9的内部掉落。
42.进一步，双向电机4的输出端安装有轴杆，轴杆的底部安装有螺纹杆401，螺纹杆401的外表面通过螺纹嵌合安装有环形移动板403，环形移动板403的外壁安装有清扫环404，清扫环404的外壁与容器筒2的内壁贴合，容器筒2的顶壁安装有两组丝杆402，且丝杆402的底部贯穿环形移动板403的内部，丝杆402和螺纹杆401的底部均安装有限位板405，容器筒2的底壁均匀安装有四组支撑柱，支撑柱的顶部与限位板405的底部贴合，当双向电机4启动时，其输出端所安装的轴杆可带动螺纹杆401转动，环形移动板403的内部设置有两组带有内螺纹的槽洞，当螺纹杆401转动时，与其外表面相互嵌合的环形移动板403跟随其转动方向进行向上或者向下移动，而后可带动清扫环404对容器筒2的内部进行上下擦拭清扫，避免容器筒2的内壁上沾染较多灰尘，影响单晶硅的刻蚀操作，两组丝杆402的使用可为环形移动板403增加限位作用，避免其在上下移动时会发生左右摆动的现象，继而影响清尘的效果，限位板405的直径大于环形移动板403内部所设置的四组槽洞的直径，可避免环形移动板403从螺纹杆401的底部掉落。
43.进一步，底座1的底壁安装有两组分隔板103，且两组分隔板103分别将底座1的内部空间从左至右分别划分为空间一、空间而和空间三，底座1的一侧内壁安装有l型板101，l型板101的一侧外壁与其中一组分隔板103的外壁贴合，底座1的另一侧内壁安装有支撑板102，支撑板102靠近l型板101的一侧与另外一组分隔板103的外壁贴合，且支撑板102与l型板101的顶部均与容器筒2的底部贴合，分隔板103可以将底座1的内部空间分为三个部分，继而优化了底座1的内部空间布局，同时使得各个空间互不干扰，避免其内部所放置的物体相互碰撞，l型板101和支撑板102均用于支撑容器筒2。
44.进一步，容器筒2的两侧外壁均安装有多组电磁线圈201，容器筒2的顶部安装有温度感应器202，且温度感应器202的底部延伸进入容器筒2的内部，容器筒2的顶部安装有报警器203，且报警器203位于温度感应器202的一侧，容器筒2的底部安装有抽气管道204，且
抽气管道204的尾端延伸进入空间三的内部，空间三的底壁安装有真空泵205，且真空泵205的输入端与抽气管道204的尾端连接，电磁线圈201可用于产生磁场，温度感应器202的感应端位于容器筒2的内部，其通过内部所安装的感应元件可以感应某一区域内部的具体温度，而后将温度转换为可用输出信号，通过其内部所安装的屏幕可以将温度的具体数值显示出来，以便使用者直观的了解容器筒2内部的温度状况，报警器203与风力传感器604之间电性连接，同时风力传感器604与送气风机502之间电性连接，当送气风机502启动时，如果风力传感器604的输出端无法感知风力时，此时报警器203可发出警报，以提醒使用者，装置中无法输送反应气体或者风力进入容器筒2的内部，抽气管道204可用于容器筒2内部气体的排出操作，真空泵205其内部利用偏心转子在泵腔内部形成通过旋转产生体积的变化，继而将抽气管道204内部的气体排出至真空泵205的输出端，可用作单晶硅刻蚀操作结束后容器筒2内部反应气体的排出。
45.进一步，旋转电机3的输出端安装有轴杆，且轴杆延伸进入容器筒2的内部，轴杆的顶部安装有片架301，旋转电机3在电力的作用下可以带动其输出端所安装的轴杆转动，而后可带动轴杆顶部的片架301转动，而后可带动放置在片架301上的单晶硅作旋转活动。
46.进一步，该装置的工作步骤如下：
47.s1.需要将送气筒901的顶部嵌合在凹形橡胶圈9的内部，而后可捏住两组弹性片803，使得其在挤压力的作用下向内合并，而后将其往嵌合套筒8的内部输送，直至弹性片803一侧所安装的卡钩804位于通槽801的内侧时，放开对弹性片803所施加的挤压力，此时两组弹性片803会恢复原状，而后卡钩804会贯穿通槽801的内部，之后对活动筒802施加拉力，使得卡钩804的凹陷处顶壁与通槽801的底壁贴合，此时，活动筒802与嵌合套筒8之间的安装位置可确定，且限制板805的顶部可与送气筒901的底部贴合，可用于支撑送气筒901，避免其从凹形橡胶圈9的内部掉落，此时输送结构6导入至送气筒901内部的气体不会从送气筒901与容器筒2顶壁的连接处发生泄漏，且送气筒901的底部均匀设置有多组槽孔902，其槽孔902从上至下直径逐渐放大，可便于送气筒901内部气体往下排放时，气体往两侧飘动，可在一定程度上保证输气均匀；
48.s2.当装置需要进行刻蚀操作时，送气孔板501背面可外接装载反应气体的容器，而后可通过送气风机502在电力的作用下可以带动其内部安装的多组扇叶转动，而后可搅动空气，以形成风，由此将加快反应气体导入至输送结构6的内部的速度，而后通过输送结构6将反应气体导入至容器筒2的内部对单晶硅进行刻蚀操作；
49.s3.当刻蚀操作结束后，送气箱5的背面断开与装载有反应气体容器的连接，而后通过送气风机502在电力的作用下可以带动其内部安装的多组扇叶转动，而后可搅动空气，产生风力，并且其风力可由输送结构6导入至容器筒2的内部，同时，内腔层603的内部可由水泵7注入冷水，可降低送气风机502所产生的风力的温度，继而可加快对刻蚀结束后的容器筒2内部温度的降低；
50.s4.风力传感器604的输出端位于输送管602的内部管道中，其与送气风机502、报警器203之间电性连接，当送气风机502启动时，风力传感器604的感应端会在风力的推动下发生旋转，当风力传感器604在送气风机502启动后器输出端无法感知风力时，此时报警器203可发出警报，以提醒使用者，装置中无法输送反应气体或者风力进入容器筒2的内部；
51.s5.当双向电机4启动时，其输出端所安装的轴杆可带动螺纹杆401转动，环形移动
板403的内部设置有两组带有内螺纹的槽洞，当螺纹杆401转动时，与其外表面相互嵌合的环形移动板403跟随其转动方向进行向上或者向下移动，而后可带动清扫环404对容器筒2的内部进行上下擦拭清扫，避免容器筒2的内壁上沾染较多灰尘，影响单晶硅的刻蚀操作。
52.工作原理：装置在使用之前需要将各个部件组装好，对于送气筒901可将其顶部嵌合在凹形橡胶圈9的内部，而后可捏住两组弹性片803，使得其在挤压力的作用下向内合并，而后将其往嵌合套筒8的内部输送，直至弹性片803一侧所安装的卡钩804位于通槽801的内侧时，放开对弹性片803所施加的挤压力，此时两组弹性片803会恢复原状，而后卡钩804会贯穿通槽801的内部，之后对活动筒802施加拉力，使得卡钩804的凹陷处顶壁与通槽801的底壁贴合，此时，活动筒802与嵌合套筒8之间的安装位置可确定，且限制板805的顶部可与送气筒901的底部贴合，可用于支撑送气筒901，避免其从凹形橡胶圈9的内部掉落，之后启动送气风机502，通过其在电力的作用下可以带动其内部安装的多组扇叶转动，而后加快反应气体导入至输送结构6的内部的速度，而后通过输送结构6将反应气体导入至容器筒2的内部对单晶硅进行刻蚀操作，当刻蚀操作结束后，送气箱5的背面断开与装载有反应气体容器的连接，而后通过送气风机502在电力的作用下可以带动其内部安装的多组扇叶转动，而后可搅动空气，产生风力，并且其风力可由输送结构6导入至容器筒2的内部，同时，内腔层603的内部可由水泵7注入冷水，可降低送气风机502所产生的风力的温度，继而可加快对刻蚀结束后的容器筒2内部温度的降低，风力传感器604与送气风机502、报警器203之间电性连接，当送气风机502启动时，风力传感器604的感应端会在风力的推动下发生旋转，当风力传感器604在送气风机502启动后器输出端无法感知风力时，此时报警器203可发出警报，以提醒使用者，装置中无法输送反应气体或者风力进入容器筒2的内部，装置在降温完成后，可启动双向电机4，通过其输出端所安装的轴杆可带动螺纹杆401转动，环形移动板403的内部设置有两组带有内螺纹的槽洞，当螺纹杆401转动时，与其外表面相互嵌合的环形移动板403跟随其转动方向进行向上或者向下移动，而后可带动清扫环404对容器筒2的内部进行上下擦拭清扫，避免容器筒2的内壁上沾染较多灰尘，影响单晶硅的刻蚀操作。
53.对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。