一种碳化硅蒸汽制备装置的制作方法

技术特征：
1.一种碳化硅蒸汽制备装置，其特征在于：包括进料机构、分离机构和气相输运机构；所述进料机构设置在分离机构的上端，所述气相输运机构设置在分离机构的侧部；所述进料机构包括料槽、台柱、盖板和激光模块；所述料槽和台柱配合形成一横截面为新月状、截面大小自上而下递减且倾斜的进料通道；所述盖板可拆卸地封堵进料通道上端的进料口；所述激光模块发射的激光照射到进料通道下端的出料孔；所述分离机构包括封闭的腔体，所述出料孔连通该腔体；所述腔体的一侧设有用于通载气的若干进气口，腔体相对的另一侧设有出气口，腔体的底部设有回收槽；所述气相输运机构包括石墨通道以及对石墨通道加热的加热部件；所述石墨通道与出气口连通。2.根据权利要求1所述的一种碳化硅蒸汽制备装置，其特征在于：所述料槽的底面低于台柱的底面形成错位的出料孔，台柱的底部边角设为圆角。3.根据权利要求1所述的一种碳化硅蒸汽制备装置，其特征在于：所述进料机构还包括用于对所述进料通道产生振动的超声波振荡机。4.根据权利要求1所述的一种碳化硅蒸汽制备装置，其特征在于：所述盖板上设有一连通进料通道的用于通载气的第一进气孔。5.根据权利要求1所述的一种碳化硅蒸汽制备装置，其特征在于：所述台柱上设有贯穿其的通气管，该通气管用于通载气，通气管的出口靠近所述出料孔设置；所述通气管的进口设置在立柱的侧边或顶面，通气管设置在立柱的顶面时，所述盖板还封盖立柱的顶部，在盖板上设有与通气管配合的第二进气孔。6.根据权利要求1所述的一种碳化硅蒸汽制备装置，其特征在于：所述料槽与盖板通过法兰连接。7.根据权利要求1所述的一种碳化硅蒸汽制备装置，其特征在于：所述台柱的下端设有用于固定激光模块的沟槽。8.根据权利要求1所述的一种碳化硅蒸汽制备装置，其特征在于：所述进气口的数量为两个，两个进气口在腔体侧壁上上下对齐且正对出气口。9.根据权利要求1所述的一种碳化硅蒸汽制备装置，其特征在于：还包括用于包裹所述石墨通道的保温层。10.根据权利要求1所述的一种碳化硅蒸汽制备装置，其特征在于：所述加热部件包括缠绕在石墨通道外周的射频线圈以及与射频线圈连接的射频电源。

技术总结
本实用新型涉及一种碳化硅蒸汽制备装置，包括进料机构、分离机构和气相输运机构；进料机构设置在分离机构的上端，气相输运机构设置在分离机构的侧部。进料机构包括料槽、台柱、盖板和激光模块；料槽和台柱配合形成进料通道。本实用新型通过进料通道进行投料，通过脉冲激光束对投料照射，使得源料快速升华出气相物质，形成碳化硅蒸汽，之后通过载气输送并沿石墨通道输送至晶锭生长装置。本实用新型通过载气对气相物质进行输运，而暂未升华的源料掉落回收槽，进而实现固气分离，因为加热升华的加热点固定，而源料连续替换，源料不会发生石墨陶瓷化的现象。而未被完全利用的源料经过简单的除碳处理即可重新利用，源料的综合利用率更高。高。高。


技术研发人员：叶宏伦 蔡斯元 蔡期开 洪天河 钟其龙 刘崇志
受保护的技术使用者：芯璨半导体科技（山东）有限公司
技术研发日：2021.04.19
技术公布日：2021/11/17