一种双模组缸套标刻设备的制作方法

1.本实用新型属于缸套标刻设备技术领域，具体地，涉及一种双模组缸套标刻设备。


背景技术：

2.现有的标刻设备包括多种，例如：激光标刻设备、电磁点阵标刻设备、点阵喷涂设备、气动标刻设备等，各个标刻设备均具备其特点。为了满足不同的生产需求，需要在特定的场所使用定制的标刻设备。当同一工件(缸套)需要进行不同形式的标刻时，存在操作复杂、人员效率低、生产空间需求大等问题。


技术实现要素：

3.针对现有技术存在的上述问题，本实用新型的目的是提供一种双模组缸套标刻设备，通过合理的结构设置，将激光标刻系统与电磁点阵标刻系统结合一起，能同时对工件进行不同形式的标刻。
4.为了实现上述目的，本实用新型通过以下技术方案实现的：
5.一种双模组缸套标刻设备，包括操作台、缸套固定旋转台、激光标刻系统和电磁点阵标刻系统，所述缸套固定旋转台设于操作台上，所述激光标刻系统包括激光标刻头和激光标刻头调节组件，激光标刻头设于激光标刻头调节组件上，且激光标刻头朝向缸套的外侧壁，激光标刻头调节组件可调节激光标刻头的竖直高度及激光标刻头与缸套外侧壁的距离，所述电磁点阵标刻系统包括电磁点阵标刻头和电磁点阵标刻头调节组件，电磁点阵标刻头设于电磁点阵标刻头调节组件上，且电磁点阵标刻头朝向缸套的上端面，电磁点阵标刻头调节组件可调节电磁点阵标刻头与缸套上端面的距离及电磁点阵标刻头的水平位置。
6.优选地，所述操作台的台面为大理石防震台面。
7.优选地，所述激光标刻头调节组件包括水平调节轴和竖直调节轴，所述水平调节轴设于缸套固定旋转台的一侧，且沿着缸套固定旋转台的径向设置，竖直调节轴滑动连接在水平调节轴上，激光标刻头滑动连接在竖直调节轴上。
8.进一步优选地，所述水平调节轴和竖直调节轴均为直线模组。
9.优选地，所述电磁点阵标刻头调节组件包括调节z轴和双轴直线导轨，所述双轴直线导轨包括x轴直线导轨和y轴直线导轨，所述y轴直线导轨滑动连接在x轴直线导轨上，所述电磁点阵标刻头滑动连接在y轴直线导轨上，所述双轴直线导轨滑动连接在调节z轴上。
10.进一步优选地，所述调节z轴为直线模组。
11.优选地，该缸套标刻设备还包括护罩，护罩设在操作台上，缸套固定旋转台、激光标刻系统和电磁点阵标刻系统位于护罩内，护罩上设有开合门。
12.本实用新型中还包括能够使该双模组缸套标刻设备正常使用的其它组件，例如，还包括控制该缸套标刻设备运行的控制装置，分别与激光标刻头、电磁点阵标刻头配合使用的其它系统组件，这些都属于本领域的常规选择。另外，本实用新型中未加限定的装置或组件均采用本领域中的常规手段，例如，激光标刻头、电磁点阵标刻头、直线模组、直线导轨
等均采用常规设置。需要强调的是，本实用新型主要保护标刻设备的结构，对于控制装置对激光标刻系统、电磁点阵标刻系统等的控制方式均可根据现有技术实现，控制装置可以包括操作键盘、鼠标、显示器等。
13.本实用新型的双模组缸套标刻设备的工作原理包括：将缸套放置在缸套固定旋转台上，可以同时对缸套进行激光标刻、电磁点阵标刻，也可以分别单独进行，电磁点阵标刻时，启动电磁点阵标刻系统，双轴直线导轨带着电磁点阵标刻头在调节z轴上移动，使电磁点阵标刻头与缸套上端面的距离合适，在双轴直线导轨的作用下，电磁点阵标刻头沿着缸套的上端面对缸套进行标刻，激光标刻时，启动激光标刻系统，调节激光标刻头在竖直调节轴上的高度及激光标刻头与缸套外侧壁的距离，使标刻位置合适，必要时可以旋转缸套固定旋转台，对缸套进行激光标刻。
14.本实用新型的双模组缸套标刻设备通过合理的结构设置，可以采用激光标刻和电磁点阵标刻对缸套进行标刻，操作灵活，能够同时满足不同的标刻需求。
附图说明
15.图1为实施例的双模组缸套标刻设备的结构示意图。
16.图2为图1中双轴直线导轨的a
‑
a向视图。
具体实施方式
17.下面将结合本实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，均属于本实用新型的保护范围。
18.实施例
19.如图1
‑
2所示，一种双模组缸套标刻设备，包括操作台1、缸套固定旋转台2、激光标刻系统和电磁点阵标刻系统，所述缸套固定旋转台2设于操作台1上，所述激光标刻系统包括激光标刻头3和激光标刻头调节组件，激光标刻头3设于激光标刻头调节组件上，且激光标刻头3朝向缸套的外侧壁，激光标刻头调节组件可调节激光标刻头3的竖直高度及激光标刻头3与缸套外侧壁的距离，所述电磁点阵标刻系统包括电磁点阵标刻头4和电磁点阵标刻头调节组件，电磁点阵标刻头4设于电磁点阵标刻头调节组件上，且电磁点阵标刻头4朝向缸套的上端面，电磁点阵标刻头调节组件可调节电磁点阵标刻头4与缸套上端面的距离及电磁点阵标刻头4的水平位置。
20.所述操作台1的台面为大理石防震台面5。
21.所述激光标刻头调节组件包括水平调节轴6和竖直调节轴7，所述水平调节轴6设于缸套固定旋转台2的一侧，且沿着缸套固定旋转台2的径向设置，竖直调节轴7滑动连接在水平调节轴6上，激光标刻头3滑动连接在竖直调节轴7上。
22.所述水平调节轴6和竖直调节轴7均为直线模组。
23.所述电磁点阵标刻头调节组件包括调节z轴8和双轴直线导轨9，所述双轴直线导轨9包括x轴直线导轨10和y轴直线导轨11，所述y轴直线导轨11滑动连接在x轴直线导轨10上，所述电磁点阵标刻头4滑动连接在y轴直线导轨11上，所述双轴直线导轨9滑动连接在调
节z轴8上。
24.所述调节z轴8为直线模组。
25.该缸套标刻设备还包括护罩(未示出)，护罩设在操作台1上，缸套固定旋转台2、激光标刻系统和电磁点阵标刻系统位于护罩内，护罩上设有开合门。
26.该双模组缸套标刻设备的工作原理包括：将缸套放置在缸套固定旋转台2上，可以同时对缸套进行激光标刻、电磁点阵标刻，也可以分别单独进行，电磁点阵标刻时，启动电磁点阵标刻系统，双轴直线导轨9带着电磁点阵标刻头4在调节z轴8上移动，使电磁点阵标刻头4与缸套上端面的距离合适，在双轴直线导轨9的作用下，电磁点阵标刻头4沿着缸套的上端面对缸套进行标刻，激光标刻时，启动激光标刻系统，调节激光标刻头3在竖直调节轴7上的高度及激光标刻头3与缸套外侧壁的距离，使标刻位置合适，必要时可以旋转缸套固定旋转台2，对缸套进行激光标刻。
27.该双模组缸套标刻设备通过合理的结构设置，可以采用激光标刻和电磁点阵标刻对缸套进行标刻，操作灵活，能够同时满足不同的标刻需求。
28.以上已经描述了本实用新型的实施例，上述说明是示例性的，并非穷尽性的，并且也不限于所披露的实施例。在不偏离所说明实施例的范围和精神的情况下，对于本技术领域的普通技术人员来说许多修改和变更都是显而易见的。


技术特征：
1.一种双模组缸套标刻设备，包括操作台，其特征在于，还包括缸套固定旋转台、激光标刻系统和电磁点阵标刻系统，所述缸套固定旋转台设于操作台上，所述激光标刻系统包括激光标刻头和激光标刻头调节组件，激光标刻头设于激光标刻头调节组件上，且激光标刻头朝向缸套的外侧壁，激光标刻头调节组件可调节激光标刻头的竖直高度及激光标刻头与缸套外侧壁的距离，所述电磁点阵标刻系统包括电磁点阵标刻头和电磁点阵标刻头调节组件，电磁点阵标刻头设于电磁点阵标刻头调节组件上，且电磁点阵标刻头朝向缸套的上端面，电磁点阵标刻头调节组件可调节电磁点阵标刻头与缸套上端面的距离及电磁点阵标刻头的水平位置。2.根据权利要求1所述的双模组缸套标刻设备，其特征在于：所述操作台的台面为大理石防震台面。3.根据权利要求1所述的双模组缸套标刻设备，其特征在于：所述激光标刻头调节组件包括水平调节轴和竖直调节轴，所述水平调节轴设于缸套固定旋转台的一侧，且沿着缸套固定旋转台的径向设置，竖直调节轴滑动连接在水平调节轴上，激光标刻头滑动连接在竖直调节轴上。4.根据权利要求3所述的双模组缸套标刻设备，其特征在于：所述水平调节轴和竖直调节轴均为直线模组。5.根据权利要求1所述的双模组缸套标刻设备，其特征在于：所述电磁点阵标刻头调节组件包括调节z轴和双轴直线导轨，所述双轴直线导轨包括x轴直线导轨和y轴直线导轨，所述y轴直线导轨滑动连接在x轴直线导轨上，所述电磁点阵标刻头滑动连接在y轴直线导轨上，所述双轴直线导轨滑动连接在调节z轴上。6.根据权利要求5所述的双模组缸套标刻设备，其特征在于：所述调节z轴为直线模组。7.根据权利要求1所述的双模组缸套标刻设备，其特征在于：还包括护罩，护罩设在操作台上，缸套固定旋转台、激光标刻系统和电磁点阵标刻系统位于护罩内，护罩上设有开合门。

技术总结
本实用新型属于缸套标刻设备技术领域，公开了一种双模组缸套标刻设备，包括操作台、缸套固定旋转台、激光标刻系统和电磁点阵标刻系统，激光标刻系统包括激光标刻头和激光标刻头调节组件，激光标刻头设于激光标刻头调节组件上，且激光标刻头朝向缸套的外侧壁，激光标刻头调节组件可调节激光标刻头的竖直高度及激光标刻头与缸套外侧壁的距离，电磁点阵标刻系统包括电磁点阵标刻头和电磁点阵标刻头调节组件，电磁点阵标刻头设于电磁点阵标刻头调节组件上，且电磁点阵标刻头朝向缸套的上端面，电磁点阵标刻头调节组件可调节电磁点阵标刻头与缸套上端面的距离及电磁点阵标刻头的水平位置。该设备能同时满足不同的标刻需求。该设备能同时满足不同的标刻需求。该设备能同时满足不同的标刻需求。


技术研发人员：张竞 刘鼎 张书毓 汤晓辉
受保护的技术使用者：河南省中原华工激光工程有限公司
技术研发日：2021.05.12
技术公布日：2021/11/15