一种二氟化氙生产装置的制作方法

1.本技术涉及氟化反应设备技术领域，具体涉及一种二氟化氙生产装置。


背景技术：

2.二氟化氙(xef2)，又称二氟代氙，分子量为169.30g/mol，是一种无色固体，在室温下容易升华而形成透明晶体。二氟化氙在中性或碱性溶液中分解，在酸性溶液中较为稳定，水溶液有刺激气味。二氟化氙蒸汽是无色的，具有令人发呕的恶臭。在电子工业中，xef2常被用作硅的蚀刻气体，由于xef2和硅的化学反应是自发反应，xef2对硅的腐蚀工艺具有非常高的选择性，在xef2对硅进行腐蚀过程中，xef2气体通过自由扩散到硅衬底表面，并与最外层硅原子发生化学反应生成气态xe和气态sif4，从而实现对硅的腐蚀。此外，二氟化氙是一种选择性很好的氟化试剂，在无机氟化物制备及有机合成中有着广泛的应用。
3.目前二氟化氙制备主要有以下两种方法：
4.1.氙与氟混合加热，若氟量增加，依次可制得二氟化氙、四氟化氙、六氟化氙，以氧化银、三氧化二镍、二氟化镍、氟化银等催化剂，可使反应度大大提高。但以上催化剂价格高且不容易采购，另外也会对产品的纯度有影响。
5.2.将氙(稍过量)和氟导入硬质玻璃反应器中，在98066.5pa下，光照24小时，也可生成二氟化氙，再经数周，就见到结晶，但应注意，反应器应绝对干燥，否则将腐蚀反应器。但是，光照法生产周期长不适用于规模化生产。
6.针对氟氙直接加热反应，本实用新型设计一种二氟化氙生产装置，不仅增加了二氟化氙凝结粘附面积、减小了设备占地面积，而且物料刮取更干净、快捷，提高了产品收率，从而使生产效益最大化。


技术实现要素：

7.针对现有技术中存在的问题，本技术提供一种二氟化氙生产装置，以达到增加二氟化氙凝结粘附面积，减小设备占地面积，提高产品收率的有益效果。
8.本技术提供一种二氟化氙生产装置，包括反应器外筒体、收集柱、进气管、出气管、排污口、冷媒进口及冷媒出口，所述反应器外筒体的一侧设有进气管，另一侧设有出气管；所述反应器外筒体的顶部设有顶盖，所述收集柱的一端穿过顶盖并插入到反应器外筒体中；所述收集柱的内部设有空腔，所述空腔内设有冷媒进口，所述收集柱的侧壁上设有冷媒出口；所述排污口设置在反应器外筒体的底部。
9.进一步的，所述反应器外筒体的横截面为方形结构。
10.进一步的，所述收集柱的横截面为方形结构。
11.进一步的，所述进气管的进气口伸入到反应器外筒体的底部。
12.进一步的，包括测温口，所述测温口的数量为两个，所述测温口包括第一测温口和第二测温口，所述第一测温口设置在顶盖上，所述第二测温口设置在收集柱的顶部。
13.进一步的，所述出气管上设有测压口。
14.进一步的，所述反应器外筒体与收集柱两者之间的间距取值范围是20mm
‑
100mm。
15.进一步的，所述反应器外筒体与收集柱两者之间的间距取值范围是55mm
‑
80mm。
16.进一步的，所述进气管与出气管两者之间的间距取值范围是100mm
‑
1200mm。
17.进一步的，所述进气管与出气管两者之间的间距取值范围是300mm
‑
900mm。
18.本技术的有益效果在于：
19.本技术提供的二氟化氙生产装置，采用一种内方外方形二氟化氙生产装置，不仅增加了二氟化氙凝结粘附面积、减小了设备占地面积，而且物料刮取更干净、快捷，提高了产品收率，从而降低了综合成本，提高了经济效益。
20.此外，本技术设计原理可靠，结构简单，具有非常广泛的应用前景。
附图说明
21.为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
22.图1是本技术一个实施例中二氟化氙生产装置的结构示意图。
23.图中，1、反应器外筒体，2、收集柱，3、进气管，4、出气管，5、排污口，6、冷媒进口，7、冷媒出口，8、第一测温口，9、第二测温口，10、测压口。
具体实施方式
24.为了使本技术领域的人员更好地理解本技术中的技术方案，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本技术保护的范围。
25.下面对本技术中出现的关键术语进行解释。
26.本技术提供的二氟化氙生产装置，包括反应器外筒体1、收集柱2、进气管3、出气管4、排污口5、冷媒进口6及冷媒出口7。
27.如图1所示，所述反应器外筒体1的内部中空，所述反应器外筒体1的右侧设有进气管3，左侧设有出气管4，所述进气管3的进气口伸入到反应器外筒体1的底部。出气管4设置在反应器外筒体1的上部。所述出气管4上设有测压口10，可以更好的监测反应压力变化。
28.本实施例中，反应器采用蒙乃尔反应器。所述反应器外筒体1与收集柱2两者之间的间距取值范围是20mm
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100mm。优选的，所述反应器外筒体1与收集柱2两者之间的间距取值范围是55mm
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80mm，可以给反应生成的二氟化氙以足够的冷凝空间和停留时间。
29.所述进气管3与出气管4两者之间的间距取值范围是100mm
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1200mm。优选的，所述进气管3与出气管4两者之间的间距取值范围是300mm
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900mm。
30.所述反应器外筒体1和收集柱2的横截面均为方形结构，不仅增加了二氟化氙凝结粘附面积、减小了设备占地面积，而且物料刮取更干净、快捷，提高了产品收率，从而降低了综合成本，提高了经济效益。
31.所述反应器外筒体1的顶部设有顶盖，顶盖上设有安装孔，所述收集柱2的一端穿
过安装孔并插入到反应器外筒体1的内部。所述收集柱2的内部设有空腔，所述空腔内设有冷媒进口6，冷媒通过冷媒进口6进入到收集柱2的内腔中。所述收集柱2的侧壁上设有冷媒出口7，反应后的冷媒通过冷媒出口7排出。所述排污口5设置在反应器外筒体1的底部，排污口5用于将反应后的污物排出，便于进行生产完成后的设备清理工作。
32.包括测温口，所述测温口的数量为两个，所述测温口包括第一测温口8和第二测温口9，所述第一测温口8设置在顶盖上，所述第二测温口9设置在收集柱2的顶部，测温口的设置可以实时监测反应温度和收集温度。
33.本实施例的实施方式为：
34.原料通过进气管进入反应器内进行反应，生成的二氟化氙产品快速冷凝粘附在内部收集柱上，过量二氧化氙通过出气口排出进行回收利用，反应完成后拆开反应器进行取料、分装。
35.尽管通过参考附图并结合优选实施例的方式对本技术进行了详细描述，但本技术并不限于此。在不脱离本技术的精神和实质的前提下，本领域普通技术人员可以对本技术的实施例进行各种等效的修改或替换，而这些修改或替换都应在本技术的涵盖范围内/任何熟悉本技术领域的技术人员在本技术揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本技术的保护范围之内。因此，本技术的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。