量测图像与设计之间的模拟辅助的对准的制作方法

技术特征：
1.一种方法，包括：通过硬件计算机，将设计布局和使用图案化过程由所述设计布局在基板上产生的图案的量测图像对齐，所述对齐基于所述设计布局或所述设计布局的一个或多个特性与使用所述设计布局的特性和所述图案化过程的特性通过模拟产生的图像或所述图像的一个或多个特性之间的差异；和从与所述设计布局对齐的所述量测图像确定所述图案的至少一部分的偏移。2.如权利要求1所述的方法，还包括基于所述偏移，调整所述设计布局、包括所述设计布局的图案形成装置和/或所述图案化过程。3.如权利要求1所述的方法，其中所述模拟进一步使用分辨率增强技术的一个或多个特性或图案形成装置的一个或多个特性。4.如权利要求3所述的方法，其中所述模拟使用分辨率增强技术的一个或多个特性，并且所述分辨率增强技术被配置为将辅助特征放置到所述设计布局中。5.如权利要求3所述的方法，其中所述模拟使用图案形成装置的一个或多个特性，并且所述图案形成装置的所述一个或多个特性包括所述图案形成装置上的图案的变形。6.如权利要求1所述的方法，其中所述差异在所述设计布局的一个或多个映射参考与所述图像的对应的一个或多个映射参考之间。7.如权利要求6所述的方法，其中所述一个或多个映射参考包括轮廓中的边缘。8.如权利要求1所述的方法，其中所述差异包括边缘放置误差。9.如权利要求1所述的方法，其中所述量测图像是扫描电子显微镜图像，和/或其中所述量测图像是像素化图像。10.如权利要求1所述的方法，其中对齐所述量测图像和所述设计布局包括由所述量测图像识别轮廓。11.如权利要求1所述的方法，其中对齐所述量测图像和所述设计布局包括：基于所述差异的特性确定多个差异的权重；计算成本函数，所述成本函数表征所述差异中的至少一些并且是所述设计布局和所述量测图像之间的映射的函数；基于所述成本函数调整所述映射；和使用所述映射对齐所述量测图像和所述设计布局。12.如权利要求11所述的方法，其中所述差异的所述特性包括差异的大小。13.如权利要求11所述的方法，其中所述权重中的至少一个为零。14.如权利要求11所述的方法，其中所述映射表示所述量测图像和所述设计布局之间的一个或多个相对变形。15.一种其中包括机器可读指令的非瞬态计算机程序产品，所述指令在由处理器系统执行时被配置为引起所述处理器系统至少：将设计布局和使用图案化过程由所述设计布局在基板上产生的图案的量测图像对齐，所述对齐基于所述设计布局或所述设计布局的一个或多个特性与使用所述设计布局的特性和所述图案化过程的特性通过模拟产生的图像或所述图像的一个或多个特性之间的差异；和从与所述设计布局对齐的所述量测图像确定所述图案的至少一部分的偏移。
16.如权利要求15所述的计算机程序产品，其中所述差异在于所述设计布局的一个或多个映射参考与所述图像的对应的一个或多个映射参考之间。17.如权利要求15所述的计算机程序产品，其中，所述指令还被配置为基于所述偏移，调整所述设计布局、包括所述设计布局的图案形成装置和/或所述图案化过程。18.如权利要求15所述的计算机程序产品，其中所述指令被配置为引起所述处理器系统将所述量测图像和所述设计布局对齐被进一步配置成，引起所述处理器使用来自所述量测图像的轮廓以对齐所述量测图像和所述设计布局。19.如权利要求15所述的计算机程序产品，其中被配置为对齐所述量测图像和所述设计布局的指令还被配置为引起所述处理器系统：基于所述差异的特性确定多个差异的权重；计算成本函数，所述成本函数表征所述差异的至少一些并且是所述设计布局和所述量测图像之间的映射的函数；基于所述成本函数调整所述映射；和使用所述映射对齐所述量测图像和所述设计布局。20.一种其中包括机器可读指令的非瞬态计算机程序产品，所述指令在由处理器系统执行时被配置为引起所述处理器系统至少：将设计布局和使用图案化过程由所述设计布局在基板上产生的图案的量测图像对齐，所述对齐基于所述设计布局的一个或多个特性与使用所述设计布局的特性和所述图案化过程的特性通过模拟产生的图像的一个或多个特性之间的评估；和从与所述设计布局对齐的所述量测图像确定所述图案的至少一部分的偏移。

技术总结
一种方法包括：使用设计布局的特性和图案化过程的特性来模拟图像或图像的特性；确定所述图像或图像的特性与所述设计布局或设计布局的特性之间的偏差；基于所述偏差使从经图案化的衬底获得的量测图像与所述设计布局对准，其中所述经图案化的衬底包括使用图案化过程由所述设计布局产生的图案；和根据与所述设计布局对准的所述量测图像确定经图案化的衬底的参数。的参数。的参数。


技术研发人员：王德胜
受保护的技术使用者：ASML荷兰有限公司
技术研发日：2017.12.06
技术公布日：2021/11/5