1.本实用新型涉及抛光垫技术领域，具体为一种晶片抛光用多层抛光垫。
背景技术：
2.抛光垫又称抛光皮，抛光布，抛光片，化学机械抛光中决定表面质量的重要辅料。在液晶产品生产线上常用到抛光垫进行外表面抛光，不仅于此在在一些晶片上也需要进行抛光，晶片抛光设备通常采用横竖轴向抛光，抛光产生的细小废屑不易排走，容易降低显示屏表面的抛光效果，所以需要一种具备已经吸灰能力的抛光垫，同时现有技术中抛光垫更换次数较多，过多的抛光垫更换次数可能带来的外部污染，同时还需保证抛光垫内部稳定，保证抛光加工效果。
技术实现要素：
3.本实用新型的目的在于提供一种晶片抛光用多层抛光垫，具备可双面使用来减少更换次数同时减少原材料损耗，环槽安装保证隔离网稳定的优点，可以解决现有技术中的问题。
4.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：
5.一种晶片抛光用多层抛光垫，包括基础圆板、护圈、吸灰层、抛光层和隔离网，所述基础圆板、吸灰层和隔离网均位于护圈的内侧，吸灰层的一面侧壁通过粘合剂复合在基础圆板上，吸灰层的另一面侧壁通过粘合剂连接隔离网，隔离网的外表面复合有均匀分布的抛光层。
6.优选的，所述吸灰层、抛光层和隔离网均关于基础圆板对称分布。
7.优选的，所述隔离网上开设有均匀分布的漏灰孔，隔离网的边缘底边处设有环槽，隔离网和环槽均与护圈的内壁接触连接。
8.优选的，所述护圈与基础圆板的外边缘固定，护圈的内壁与吸灰层接触。
9.优选的，所述吸灰层呈蜂窝状，吸灰层的厚度值大于基础圆板的厚度值。
10.与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：
11.本晶片抛光用多层抛光垫，吸灰层、抛光层和隔离网均设有两组，两组关于基础圆板对称，这样多层抛光垫可以双面使用，在一定成程度上减少的原材料的消耗，呈蜂窝状的吸灰层有很好的的吸灰效果，吸灰层可以承受小规模的形变，来进行灰尘的收集，吸灰层的厚度值较大来保证吸灰量，减少整个抛光垫更换的次数，吸灰层通过隔离网连接抛光层，隔离网和环槽均与护圈的内壁接触连接，环槽安装后起到一定的限位作用，保证隔离网的竖直运动。
附图说明
12.图1为本实用新型的整体结构剖视示意图；
13.图2为本实用新型的整体结构俯视示意图；
14.图3为本实用新型的局部结构放大示意图；
15.图4为本实用新型的a处放大示意图。
16.图中：1、基础圆板；2、护圈；3、吸灰层；4、抛光层；5、隔离网；6、环槽。
具体实施方式
17.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
18.请参阅图1
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4，一种晶片抛光用多层抛光垫，包括基础圆板1、护圈2、吸灰层3、抛光层4和隔离网5，吸灰层3、抛光层4和隔离网5均关于基础圆板1对称分布，即基础圆板1的上下表面均复合有相同尺寸的吸灰层3，同时吸灰层3、抛光层4和隔离网5均设有两组，两组对称，即整个多层抛光垫呈对称分布，这样多层抛光垫可以双面使用，在一定成程度上减少的原材料的消耗，基础圆板1、吸灰层3和隔离网5均位于护圈2的内侧，护圈2与基础圆板1的外边缘固定，护圈2的内壁与吸灰层3接触，护圈2与基础圆板1固定在一起，同时吸灰层3的边缘与护圈2内壁接触，但是不固定，吸灰层3呈蜂窝状，呈蜂窝状的吸灰层3有很好的的吸灰效果，同时其特殊结构重量轻，强度和韧性好，吸灰层3的厚度值大于基础圆板1的厚度值，这样保证吸灰量，减少整个抛光垫更换的次数，吸灰层3的一面侧壁通过粘合剂复合在基础圆板1上，吸灰层3的另一面侧壁通过粘合剂连接隔离网5，隔离网5的外表面复合有均匀分布的抛光层4，隔离网5上开设有均匀分布的漏灰孔，其中抛光层4进行抛光落下的灰尘就会从隔离网5落入吸灰层3，隔离网5起到隔离吸灰层3与抛光层4的作用，隔离网5的边缘底边处设有环槽6，隔离网5和环槽6均与护圈2的内壁接触连接，隔离网5和环槽6均可以沿着护圈2的内壁移动，环槽6安装后起到一定的限位作用。
19.本晶片抛光用多层抛光垫，其中吸灰层3、抛光层4和隔离网5均关于基础圆板1对称分布，即吸灰层3、抛光层4和隔离网5均设有两组，两组对称，这样多层抛光垫可以双面使用，在一定成程度上减少的原材料的消耗，护圈2与基础圆板1固定在一起，同时吸灰层3的边缘与护圈2内壁接触，呈蜂窝状的吸灰层3有很好的的吸灰效果，同时其蜂窝状特殊结构重量轻，强度和韧性好，吸灰层3可以承受小规模的形变，来进行灰尘的收集，吸灰层3的厚度值大于基础圆板1的厚度值，这样保证吸灰量，减少整个抛光垫更换的次数，吸灰层3通过隔离网5连接抛光层4，隔离网5的边缘底边处设有环槽6，隔离网5和环槽6均与护圈2的内壁接触连接，隔离网5和环槽6均可以沿着护圈2的内壁移动，环槽6安装后起到一定的限位作用。
20.综上所述：本晶片抛光用多层抛光垫，吸灰层3、抛光层4和隔离网5均设有两组，两组关于基础圆板1对称，这样多层抛光垫可以双面使用，在一定成程度上减少的原材料的消耗，呈蜂窝状的吸灰层3有很好的的吸灰效果，吸灰层3可以承受小规模的形变，来进行灰尘的收集，吸灰层3的厚度值较大来保证吸灰量，减少整个抛光垫更换的次数，吸灰层3通过隔离网5连接抛光层4，隔离网5和环槽6均与护圈2的内壁接触连接，环槽6安装后起到一定的限位作用，保证隔离网5的竖直运动。
21.需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实
体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
22.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
技术特征：
1.一种晶片抛光用多层抛光垫，包括基础圆板(1)、护圈(2)、吸灰层(3)、抛光层(4)和隔离网(5)，其特征在于：所述基础圆板(1)、吸灰层(3)和隔离网(5)均位于护圈(2)的内侧，吸灰层(3)的一面侧壁通过粘合剂复合在基础圆板(1)上，吸灰层(3)的另一面侧壁通过粘合剂连接隔离网(5)，隔离网(5)的外表面复合有均匀分布的抛光层(4)。2.根据权利要求1所述的一种晶片抛光用多层抛光垫，其特征在于：所述吸灰层(3)、抛光层(4)和隔离网(5)均关于基础圆板(1)对称分布。3.根据权利要求1所述的一种晶片抛光用多层抛光垫，其特征在于：所述隔离网(5)上开设有均匀分布的漏灰孔，隔离网(5)的边缘底边处设有环槽(6)，隔离网(5)和环槽(6)均与护圈(2)的内壁接触连接。4.根据权利要求1所述的一种晶片抛光用多层抛光垫，其特征在于：所述护圈(2)与基础圆板(1)的外边缘固定，护圈(2)的内壁与吸灰层(3)接触。5.根据权利要求1所述的一种晶片抛光用多层抛光垫，其特征在于：所述吸灰层(3)呈蜂窝状，吸灰层(3)的厚度值大于基础圆板(1)的厚度值。
技术总结
本实用新型公开了一种晶片抛光用多层抛光垫，包括基础圆板、护圈、吸灰层、抛光层和隔离网，基础圆板、吸灰层和隔离网均位于护圈的内侧，吸灰层的一面侧壁通过粘合剂复合在基础圆板上，吸灰层的另一面侧壁通过粘合剂连接隔离网，隔离网的外表面复合有均匀分布的抛光层，吸灰层、抛光层和隔离网均设有两组，这样多层抛光垫可以双面使用，在一定成程度上减少的原材料的消耗，吸灰层可以承受小规模的形变，来进行灰尘的收集，吸灰层的厚度值较大来保证吸灰量，减少整个抛光垫更换的次数，吸灰层通过隔离网连接抛光层，隔离网和环槽均与护圈的内壁接触连接，环槽安装后起到一定的限位作用，保证隔离网的竖直运动。保证隔离网的竖直运动。保证隔离网的竖直运动。
技术研发人员：李加海 谭鸿
受保护的技术使用者：安徽禾臣新材料有限公司
技术研发日：2021.03.31
技术公布日：2021/11/2
再多了解一些
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