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干洗航空航天用清洁组合物的制作方法

2023-02-02 02:31:18 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.干洗清洁组合物,所述干洗清洁组合物包含水包油乳液,基于所述组合物的重量,所述水包油乳液含有以下组分:a)水,所述水以至少50重量%的量存在;b)异链烷烃有机溶剂,所述异链烷烃有机溶剂期望地以至多约30重量%的量存在;c)超细固体颗粒,所述超细固体颗粒的dm小于900纳米、优选地小于500nm、最优选地小于300nm;d)无蜡光泽剂的水性乳液;e)与组分d)中存在的表面活性剂不同的至少一种表面活性剂,期望地至少一种阴离子表面活性剂;f)聚二烷基硅氧烷油;以及g)水溶性或水混溶性腐蚀和污染抑制剂。2.如权利要求1所述的干洗清洁组合物,其还包含一种或多种选自乳化剂、ph调节剂、增稠剂、抗静电剂和防腐剂的添加剂。3.如权利要求2所述的干洗清洁组合物,其中基于所述组合物的重量,所述乳化剂以0.8至3重量%的量存在,并且包含至少一种妥尔油脂肪酸。4.如权利要求3所述的干洗清洁组合物,其中基于所述组合物的重量,所述ph调节剂以1-3重量%的量存在,并且包含烷醇胺。5.如权利要求4所述的干洗清洁组合物,其中基于所述组合物的重量,所述增稠剂以约0.1-1.0重量%的量存在,并且包含阴离子多糖增稠剂。6.如权利要求1-5中任一项所述的干洗清洁组合物,其中组分c)所述固体颗粒包含dm小于300nm的粘土。7.如权利要求1-5中任一项所述的干洗清洁组合物,其中基于所述组合物的重量,组分c)所述固体颗粒包含以5-15重量%的量存在的硅酸铝。8.如权利要求1-5中任一项所述的干洗清洁组合物,其中组分e)所述与组分d)中存在的表面活性剂不同的至少一种表面活性剂包含至少一种阴离子表面活性剂。9.如权利要求8所述的干洗清洁组合物,其中所述至少一种阴离子表面活性剂包含一个或多个疏水烷基链和含硫的带电亲水端基。10.如权利要求8所述的干洗清洁组合物,其中基于所述组合物的重量,所述至少一种阴离子表面活性剂包含以0.1-0.3重量%的量存在的磺基琥珀酸二酯盐。11.如权利要求8所述的干洗清洁组合物,其中基于所述组合物的重量,所述至少一种阴离子表面活性剂包含以至少0.01重量%且至多0.5重量%的量存在的二烷基磺基琥珀酸盐,其中所述二烷基选自二丁基磺基琥珀酸盐、二异丁基磺基琥珀酸盐、二己基磺基琥珀酸盐、二辛基磺基琥珀酸盐。12.如权利要求1-5中任一项所述的干洗清洁组合物,其中组分g)所述水溶性或水混溶性腐蚀和污染抑制剂包含有机膦酸、有机次膦酸或其组合。13.如权利要求12所述的干洗清洁组合物,其中组分g)所述水溶性和/或水混溶性腐蚀和污染抑制剂包含含有c6-c18有机部分的有机膦酸,并且基于所述组合物的重量以至少0.01重量%且至多0.5重量%的量存在。14.如权利要求1-5中任一项所述的干洗清洁组合物,其中各自基于所述组合物的重量
a)所述水以60-90重量%的量存在;b)异链烷烃溶剂经加氢处理,并且以5-25重量%的量存在;c)所述超细固体颗粒包含以5-15重量%的量存在的dm小于300nm的硅酸铝粘土;并且所述组合物还包含以1-3重量%的量存在的烷醇胺、以0.1-1.0重量%的量存在的增稠剂、以及以1-3重量%的量存在的妥尔油脂肪酸乳化剂。15.如权利要求14所述的干洗清洁组合物,其中:e)所述与组分d)中存在的表面活性剂不同的至少一种表面活性剂包含以0.1-0.3重量%的量存在的选自磺基琥珀酸酯盐型表面活性剂的阴离子表面活性剂;f)所述聚二烷基硅氧烷油的粘度在100至1000cst范围内,以0.5-0.2重量%的量存在;并且g)所述水溶性或水混溶性腐蚀和污染抑制剂包含以0.1-0.3重量%的量存在的膦酸。16.清洁飞行器外部和赋予飞行器外部光泽的方法,所述方法包括以下步骤:a)将根据权利要求1-5中任一项所述的组合物施加至飞行器外表面或者所述飞行器外表面的一部分,所述飞行器外表面或者所述飞行器外表面的一部分包含涂漆表面、未涂漆金属表面和聚合物表面中的一种或多种;b)擦拭或揩拭所述表面上的所述组合物,从而乳化和/或去除所述表面中的至少一个上的污物;c)任选地使所述组合物在所述表面上变干,以产生包含所述污物的清洁剂残留物;以及d)在没有水冲洗的情况下去除所述清洁剂残留物和任何污物,任选地抛光所述表面。

技术总结
公开了可用于清洁飞行器中存在的涂漆和未涂漆的金属表面以及聚合物表面的免冲洗航空航天用清洁组合物,所述组合物包含水包油乳液,所述水包油乳液含有水、有机溶剂、无蜡光泽剂的水性乳液、固体颗粒、聚烷基硅氧烷油、表面活性剂、乳化剂、增稠剂、腐蚀抑制剂和pH调节剂;还提供了制备和使用所述组合物的方法。还提供了制备和使用所述组合物的方法。还提供了制备和使用所述组合物的方法。


技术研发人员:T
受保护的技术使用者:汉高股份有限及两合公司
技术研发日:2021.06.23
技术公布日:2023/1/31
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