靶材结构的制作方法

1.本实用新型涉及pvd镀膜设备技术领域，尤其涉及一种靶材结构。


背景技术：

2.物理气相沉积(pvd)是通过蒸发，电离或溅射等过程，产生金属粒子并与反应气体反应形成化合物沉积在工件表面。物理气相沉积镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。
3.对于溅射和离子镀膜过程中，靶材一般处于电磁场环境下，需要进行固定，一般现有固定方式采用螺纹固定、凸台固定等，如图1，靶材利用后一般呈中部利用较高、两侧利用相对较少。如中国专利号公开号cn208201103u，针对上述问题，靶材侧面设置为梯形状，以提升靶材利用率，但是其主体端侧的靶材利用率还可进一步提高。


技术实现要素：

4.本实用新型旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本实用新型的一个目的在于提出一种靶材结构，改良靶材结构，使得靶材端侧整体内凹，形成多组角度差异的倾斜面，以降低端侧靶材的量，同时形成靶材的固定结构，也易于固定装置形成配合，更易装配。
5.本实用新型的技术方案如下：
6.一种靶材结构，包括靶材，靶材整体呈矩形状，在靶材对称的端侧开设有相对靶材顶面整体内凹的若干串联连接的斜面，以在靶材端侧形成内凹结构，并在内凹结构对应端侧的底部成型有固定台阶，用于固定装置的挤压及下压限位紧固；在靶材底部开设有若干挖空槽。
7.进一步的，靶材对称的端侧开设有与顶面相连且以顶边轴线为轴向外倾斜的第一斜面，并在靶材端侧于第一斜面下方设置有以第一斜面下端轴线为轴向内倾斜的第二斜面。
8.进一步的，在靶材底部的挖空槽内设置膨胀系数较低的块状填充物。
9.进一步的，紧固装置包括基板，用于承载靶材，基板一端侧固定有固定块，对应靶材侧面形状设置有可竖直方向移动的调节压块，用于贴合靶材侧面，并下压固定对应侧的固定台阶。
10.进一步的，基板的另一端侧滑动连接有滑动块，滑动块底部靠近靶材的一侧开设有固定台阶进入槽，并在滑动块上对应进入槽螺接有竖直方向的固定螺杆用于压紧固定对应端侧的固定台阶，同时滑动块侧面也抵靠第二侧面。
11.进一步的，在固定块上设置螺孔，通过螺孔连接双向螺杆，使得调节压块与固定块相对同步反向运动。
12.进一步的，双向螺杆上串联连接螺纹反向的第一螺杆和第二螺杆，调节压块连接在第一螺杆上，第二螺杆则与螺孔螺接。
13.进一步的，在基板端侧开设滑槽，滑槽中部也开设连通的限位槽，对应滑槽在滑动块底部连接滑块，并在滑块底部对应限位槽连接限位块。
14.本实用新型中的有益效果：通过设置侧面具有多斜面的靶材结构，并在靶材底部设置挖空槽，能够节约靶材材料用量；挖空槽内设置填充物，能够一定程度增加靶材的抗形变能力；固定结构即可下压固定，同时也可适用不同的靶材尺寸，并保持与靶材水平方向的贴合。
附图说明
15.附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：
16.图1为现有靶材的结构示意图(底部设置螺孔固定)；
17.图2为本实用新型提出的靶材结构的俯视结构示意图；
18.图3为靶材结构和固定装置的俯视结构示意图(省略了相关固定结构)；
19.图4为图3中箭头方向的剖视结构示意图。
20.图中：
21.1-靶材；11-第一斜面；12-第二斜面；13-固定台阶；14-挖空槽；2-填充物；3-基板；31-固定块；32-滑槽；33-限位槽；4-调节压块；5-双向螺杆；51-第一螺杆；52-第二螺杆；6-滑动块；61-固定螺杆；62-限位块。
具体实施方式
22.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
23.所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。
24.参照图2，一种靶材结构，包括靶材1，靶材1整体呈矩形状，在靶材1对称的端侧开设有与其顶面相连且以顶边轴线为轴向外倾斜的第一斜面11，并在靶材1端侧于第一斜面11下方设置有以第一斜面11下端轴线为轴向内倾斜的第二斜面12，以在靶材1端侧形成内凹结构，减少端侧靶材材料用量，第二斜面12下方成型有固定台阶13，用于固定装置的挤压及下压限位紧固；
25.同时，在靶材1底部(端侧)开设有若干挖空槽14，本实施挖空槽14根据靶材消耗量主要分布在端侧和中间位置，且端侧的挖空槽14深度可设置为相对更深。
26.本实例中第一斜面11与水平平面的夹角为60
°‑
85
°
，第二斜面12与水平平面的夹角为89
°‑
91
°
(即基本保持垂直)，当然，第二斜面12下部可以进一步内凹。
27.考虑到靶材需要在较高工作温度下工作，而背部一般会进行散热，因此温度会不均匀，可能会产生形变，因此在靶材1底部(背部)的挖空槽14内设置膨胀系数较低的块状填充物2，如陶瓷材料，具有相对较好的热稳定性，协同紧固装置一同维持靶材水平方向的应力。
28.进一步参照图3-4，紧固装置包括基板3，用于承载靶材1，基板3一端侧固定有固定块31，对应靶材1侧面形状设置有可竖直方向移动的调节压块4，用于贴合靶材1侧面，并下压固定对应侧的固定台阶。
29.具体的，在固定块31上设置螺孔，通过螺孔连接双向螺杆5，双向螺杆5上连接螺纹反向的第一螺杆51和第二螺杆52，调节压块4连接在第一螺杆51上，第二螺杆52则与螺孔螺接，使得向螺孔内拧紧第二螺杆52时，调节压块4也同时朝向底部滑动，更方便进行紧固。
30.基板3的另一端侧滑动连接有滑动块6，滑动块6底部靠近靶材的一侧开设有固定台阶13进入槽，并在滑动块6上对应进入槽螺接有竖直方向的固定螺杆61用于压紧固定对应端侧的固定台阶，同时滑动块6侧面也抵靠第二侧面12。
31.本实施中，在基板3端侧开设滑槽32，滑槽32中部也开设连通的限位槽33，对应滑槽32在滑动块6底部连接滑块，并在滑块底部对应限位槽33连接限位块62。
32.本申请中，未详细说明的结构及连接关系均为现有技术，其结构及原理已为公知技术，在此不再赘述。
33.以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。


技术特征：
1.一种靶材结构，包括靶材，靶材整体呈矩形状，其特征在于：在靶材对称的端侧开设有相对靶材顶面整体内凹的若干串联连接的斜面，以在靶材端侧形成内凹结构，并在内凹结构对应端侧的底部成型有固定台阶，用于固定装置的挤压及下压限位紧固；在靶材底部开设有若干挖空槽。2.根据权利要求1所述的靶材结构，其特征在于：靶材对称的端侧开设有与顶面相连且以顶边轴线为轴向外倾斜的第一斜面，并在靶材端侧于第一斜面下方设置有以第一斜面下端轴线为轴向内倾斜的第二斜面。3.根据权利要求1所述的靶材结构，其特征在于：在靶材底部的挖空槽内设置膨胀系数较低的块状填充物。4.根据权利要求1-3中任意一项所述的靶材结构，其特征在于：紧固装置包括基板，用于承载靶材，基板一端侧固定有固定块，对应靶材侧面形状设置有可竖直方向移动的调节压块，用于贴合靶材侧面，并下压固定对应侧的固定台阶。5.根据权利要求4所述的靶材结构，其特征在于：基板的另一端侧滑动连接有滑动块，滑动块底部靠近靶材的一侧开设有固定台阶进入槽，并在滑动块上对应进入槽螺接有竖直方向的固定螺杆用于压紧固定对应端侧的固定台阶，同时滑动块侧面也抵靠第二侧面。6.根据权利要求5所述的靶材结构，其特征在于：在固定块上设置螺孔，通过螺孔连接双向螺杆，使得调节压块与固定块相对同步反向运动。7.根据权利要求6所述的靶材结构，其特征在于：双向螺杆上串联连接螺纹反向的第一螺杆和第二螺杆，调节压块连接在第一螺杆上，第二螺杆则与螺孔螺接。8.根据权利要求7所述的靶材结构，其特征在于：在基板端侧开设滑槽，滑槽中部也开设连通的限位槽，对应滑槽在滑动块底部连接滑块，并在滑块底部对应限位槽连接限位块。

技术总结
本实用新型公开了一种靶材结构，包括靶材，靶材整体呈矩形状，在靶材对称的端侧开设有相对靶材顶面整体内凹的若干串联连接的斜面，以在靶材端侧形成内凹结构，并在内凹结构对应端侧的底部成型有固定台阶，用于固定装置的挤压及下压限位紧固；在靶材底部开设有若干挖空槽。本实用新型的靶材结构，通过设置侧面具有多斜面的靶材结构，并在靶材底部设置挖空槽，能够节约靶材材料用量；挖空槽内设置填充物，能够一定程度增加靶材的抗形变能力；固定结构即可下压固定，同时也可适用不同的靶材尺寸，并保持与靶材水平方向的贴合。并保持与靶材水平方向的贴合。并保持与靶材水平方向的贴合。


技术研发人员：彭苏红 廖勇 祝恒
受保护的技术使用者：浙江海量纳米科技股份有限公司
技术研发日：2022.09.12
技术公布日：2023/1/13