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膜片及其制作方法与流程

2022-11-30 10:42:50 来源:中国专利 TAG:


1.本发明涉及膜片技术领域,尤其涉及一种膜片及其制作方法。


背景技术:

2.原结构的叠层方式是先在聚对苯二甲酸乙二醇酯上完成pvd及coating的方式,再与聚碳酸酯进行贴合,后续再做高压成型完成产品的制作。如图1所示。
3.现有的技术需要在聚对苯二甲酸乙二醇酯上完成涂层后再与聚碳酸酯进行贴合,增加贴合的工序,同时还存在贴合气泡的风险;另外贴合后的成品在做高压成型时可能存在胶层脱分离及粘接力不好的问题,影响到产品的外观及性能的问题。针对上述出现的问题,目前尚未提出有效的解决方案。


技术实现要素:

4.发明目的:提供一种膜片及其制作方法,以解决现有技术存在的上述问题。
5.技术方案:一种膜片及其制作方法,包括:基材层;及涂料层,涂覆于所述基材层;通过将所述基材层与所述涂料层高压成型,以使膜片出现弯曲时具有大角度可弯曲性。
6.作为优选,所述基材层采用聚碳酸酯层。
7.作为优选,所述涂料层包括:涂覆于所述基材层的紫外光固化涂料层,涂覆于所述紫外光固化涂料层的pvd镀层,及涂覆于所述pvd镀层的隔离层。
8.作为优选,所述紫外光固化涂料层的厚度为11~14um,所述pvd镀层的厚度为75~80nm,所述隔离层的厚度为6~8um。
9.作为优选,所述紫外光固化涂料层通过丙烯酸和聚氨酯混合而成。
10.作为优选,所述丙烯酸和所述聚氨酯按2.95:7.05的比例混合而成。
11.作为优选,所述隔离层采用环保两液型压延成形用涂料。
12.作为优选,所述pvd镀层包括:第一二氧化硅层,涂覆于所述第一二氧化硅层上的铟层,以及涂覆于所述铟层上的第二二氧化硅层。
13.作为优选,所述第一二氧化硅层的厚度为15nm,所述铟层的厚度为40nm,所述第二二氧化硅层的厚度为20nm。
14.为实现上述目的,本发明提出了膜片制作方法,包括以下步骤:
15.s101、将聚碳酸酯层与紫外光固化涂料层进行uv固化;
16.s102、通过pvd溅镀对紫外光固化涂料层表面进行镀膜处理;
17.s103、对pvd镀层表面进行隔离层涂布;
18.s104、将涂覆于基材层的涂料层进行高压成型。
19.作为优选,s104、将涂覆于基材层的涂料层进行高压成型,具体包括以下步骤:初段预热300℃,时间35s;一段压力5kg,时间3s;二段压力25kg保压15s,泄压6s。
20.有益效果:在本技术实施例中,采用简化膜片结构的方式,通过将所述基材层与所述涂料层高压成型,以使膜片出现弯曲时具有大角度可弯曲性,达到了膜片在大角度状态
下可弯曲且不存在裂纹的目的,从而实现了简化工艺和提高膜片性能的技术效果,进而解决了现有的技术需要在聚对苯二甲酸乙二醇酯上完成涂层后再与聚碳酸酯进行贴合,增加贴合的工序,同时还存在贴合气泡的风险;另外贴合后的成品在做高压成型时可能存在胶层脱分离及粘接力不好的问题,影响到产品的外观及性能的技术问题。
附图说明
21.图1是本发明的膜片立体图;
22.图2是本发明的膜片主视图;
23.图3是本发明的膜片制作方法流程图。
24.附图标记为:1、基材层;2、涂料层;21、紫外光固化涂料层;22、pvd镀层;23、隔离层。
具体实施方式
25.为了使本技术领域的人员更好地理解本技术方案,下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分的实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本技术保护的范围。
26.需要说明的是,本技术的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换,以便这里描述的本技术的实施例。此外,术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形,意图在于覆盖不排他的包含,例如,包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元,而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
27.此外,术语“安装”、“设置”、“设有”、“连接”、“相连”、“套接”应做广义理解。例如,可以是固定连接,可拆卸连接,或整体式构造;可以是机械连接,或电连接;可以是直接相连,或者是通过中间媒介间接相连,又或者是两个装置、元件或组成部分之间内部的连通。对于本领域普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
28.需要说明的是,在不冲突的情况下,本技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本技术。
29.如图1-2所示,本技术涉及一种膜片及其制作方法。该膜片包括:基材层;基材层是指基底材质层,能够实现良好的承载效果。进一步的,所述基材层采用聚碳酸酯层。通过采用聚碳酸酯层作为基材层,其为强韧的热塑性树脂,且具有无色透明,耐热、抗冲击、阻燃、折射率高和加工性能好的优点。其拉伸模量≧2300mpa;断裂应变平行方向≧150%;线性热膨胀系数70 10-6
/k;收缩率(130℃)《0.4%;透过率≧80%;吸水性≦0.2%。
30.涂料层,涂覆于所述基材层;涂料层是指具有多种功能的图层,从而能够实现根据使用场合具有多种使用效果。进一步的,所述涂料层包括:涂覆于所述基材层的紫外光固化涂料层,涂覆于所述紫外光固化涂料层的pvd镀层,及涂覆于所述pvd镀层的隔离层。通过分别依次在基材层上涂覆有紫外光固化涂料层、pvd镀层和隔离层,能够确保膜片良好的物理
性能,以满足实际的使用需求,即位于大弧度的位置使用时,膜片本身也不会出现裂纹,从而实现良好的使用效果;同时本发明的是直接在聚碳酸酯上完成涂层的制作,减少中间的贴合胶层,同时也节省了聚对苯二甲酸乙二醇酯的基材,可达到同样的效果。解决现有技术中胶粘剂通过聚酰胺材料把pc与pet进行粘接,但pc与pet在高温加热的条件下断裂伸长率存在差异性,存在拉伸率不一样从而造成贴合气泡风险的问题。
31.通过将所述基材层与所述涂料层高压成型,以使膜片出现弯曲时具有大角度可弯曲性。基材层和涂料层通过高压成型后,在有弧度角度部位(约90度)的情况下不存在裂纹的现象,从而实现良好的适配性和装饰效果。
32.从以上的描述中,可以看出,本技术实现了如下技术效果:
33.在本技术实施例中,采用简化膜片结构的方式,通过将所述基材层与所述涂料层高压成型,以使膜片在使用时具有大角度可弯曲性,达到了膜片在大角度状态下可弯曲且不存在裂纹的目的,从而实现了简化工艺和提高膜片性能的技术效果,进而解决了现有的技术需要在聚对苯二甲酸乙二醇酯上完成涂层后再与聚碳酸酯进行贴合,增加贴合的工序,同时还存在贴合气泡的风险;另外贴合后的成品在做高压成型时可能存在胶层脱分离及粘接力不好的问题,影响到产品的外观及性能的技术问题。
34.进一步的,所述紫外光固化涂料层的厚度为11~14um,所述pvd镀层的厚度为75~80nm,所述隔离层的厚度为6~8um。通过将紫外光固化涂料层、pvd镀层和隔离层的厚度按照上述区间进行涂覆,能够确保良好的涂层性能,同时还能实现节省成本的效果。
35.进一步的,所述紫外光固化涂料层通过丙烯酸和聚氨酯混合而成。在保证与聚碳酸酯材料粘接性能的前提下,同时能适应高压成型后的拉伸及耐温性。更进一步的,所述丙烯酸和所述聚氨酯按2.95:7.05的比例混合而成。该混合物粘度250~500mpa.s,丙烯酸树脂具有快干、良好的透明性、保光保色性好等优点,而且附着力、光泽、硬度和耐候性能也较好;聚氨酯树脂分子结构中具有硬链段和软链段组成的链段结构决定了其既坚硬又柔韧的独特性能,其两相结构使聚氨酯具有优异的低温成膜性、流平性及柔韧性,抗热回粘性好,由于氢键的存在,使其具有耐磨、高硬度的优点,两者的互补可提升材料的综合性能。
36.进一步的,所述隔离层采用环保两液型压延成形用涂料。在保证整体颜色外观效果的情况下,同时在薄膜成型加工时的耐热性、及粘接性待方面存在优异性能,能很多好的与材料进行粘接。
37.进一步的,所述pvd镀层包括:第一二氧化硅层,涂覆于所述第一二氧化硅层上的铟层,以及涂覆于所述铟层上的第二二氧化硅层。通过采用此结构形式,能够实现适配新的结构层,在膜片做高压成型后适配材料的拉伸变化,以防止外观上的裂纹。更进一步的,所述第一二氧化硅层的厚度为15nm,所述铟层的厚度为40nm,所述第二二氧化硅层的厚度为20nm。通过使用上述厚度,能够实现最佳的实现颜色变化效果,且膜层结构简单,同时成本费用较低。
38.如图3所示,工艺上,本发明还提供一种膜片制作方法,包括以下步骤:
39.s101、将聚碳酸酯层与紫外光固化涂料层进行uv固化;
40.s102、通过pvd溅镀对紫外光固化涂料层表面进行镀膜处理;
41.s103、对pvd镀层表面进行隔离层涂布;
42.s104、将涂覆于基材层的涂料层进行高压成型。
43.通过本发明的膜片制作方法,可以减少产品的制作工序,便于人员的操作,同时可减少聚对苯二甲酸乙二醇酯基材以节约成本,在确认工艺的条件下满足产品的性能要求。
44.进一步的,s104、将涂覆于基材层的涂料层进行高压成型,具体包括以下步骤:初段预热300℃,时间35s;一段压力5kg,时间3s;二段压力25kg保压15s,泄压6s。能够实现良好的高压成型效果,从而确保膜片良好的物理性能。膜片整体效果可达到10%
±
1的透过,haze 15%
±
1的要求。
45.以上结合附图详细描述了本发明的优选实施方式,但是,本发明并不限于上述实施方式中的具体细节,在本发明的技术构思范围内,可以对本发明的技术方案进行多种等同变换,这些等同变换均属于本发明的保护范围。
再多了解一些

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