一种配合于硅片清洗机的硅片清洗转运箱的制作方法

1.本实用新型属于硅片清洗技术领域，具体涉及一种配合于硅片清洗机的硅片清洗转运箱。


背景技术：

2.硅片是制作半导体的主要材料，半导体生产中的硅片，必须进过多步骤且严谨的清洗流程，才可以进行生产，稍微细小的污渍残留，都会造成半导体的实效。
3.如中国专利公开的公开号为cn214976216u的一种配合于硅片清洗机的硅片清洗转运箱，包括运输箱，所述运输箱的顶端活动安装有保护盖，所述保护盖的顶端固定安装有把手一，所述运输箱的内侧底端固定安装有液压缸，所述液压缸的顶端固定安装有传动盘，所述传动盘的顶端固定安装有若干组连接座，所述连接座的顶端开设有卡槽，且连接座的内侧固定安装有电机，所述电机的一端传动安装有驱动轮，所述驱动轮的一侧位于卡槽的内侧，工作时，解决了硅片清洗时不发生运动，导致清洁效果较差的问题，同时硅片上有部分区域和装置接触，导致清洗不到位的问题，从而提高了装置的清洁效果，但是其在使用过程中，由于硅片尺寸不一样，从而厚度也一样，当厚度较小时，其驱动轮无法贴合硅片表面带动硅片旋转清洗，且清洗液在不断清洗过程中，会混有一定的脏污，在后续清洗中，清洗效果较差的问题。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种配合于硅片清洗机的硅片清洗转运箱，以解决上述背景技术中提出现有的一种配合于硅片清洗机的硅片清洗转运箱在使用过程中，由于硅片尺寸不一样，从而厚度也一样，当厚度较小时，其驱动轮无法贴合硅片表面带动硅片旋转清洗，且清洗液在不断清洗过程中，会混有一定的脏污，在后续清洗中，清洗效果较差的问题。
5.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种配合于硅片清洗机的硅片清洗转运箱，包括运输箱，所述运输箱内部底面固定安装有硅片固定座，所述硅片固定座上表面开设有储存凹槽，所述储存凹槽内部开设有限位凹槽，所述限位凹槽内部固定安装有电磁铁，所述电磁铁一侧且位于限位凹槽内部活动安装有限位块，所述限位块外表面活动安装有挤压滚轮，所述运输箱内部底面开设有连接通孔，所述运输箱内部开设有清洗液储存仓，所述连接通孔与清洗液储存仓内部相通。
6.具体的，通过设置的储存凹槽可以放置需要清洗的硅片，启动电磁铁会产生磁场，由于限位块内部设置有磁铁，由于异性相吸会将限位块向限位凹槽内部一侧吸引，限位块会带动挤压滚轮移动，从而将挤压滚轮完全收纳进入限位凹槽内部，此时可以较为便捷的将硅片放置进入储存凹槽，再次启动电磁铁但是电流反向，同性相斥，会将挤压滚轮挤出限位凹槽内部，挤压滚轮会挤压硅片，从而使硅片贴合旋转滚轮，从而清洗硅片，可以适应各种厚度的硅片。
7.优选的，所述运输箱上表面活动安装有保护盖，所述运输箱内部固定安装有加热棒。
8.具体的，通过保护盖可以将运输箱内部相对密封起来，放置清洗液飞溅出至外界，启动加热棒可以加热内部储存的清洗液，从而提高清洗效率。
9.优选的，所述硅片固定座上表面且位于储存凹槽两侧固定安装有柔性清洗刷，所述硅片固定座内部固定安装有动力电机，所述动力电机输出端固定安装有旋转滚轮。
10.具体的，通过柔性清洗刷会在硅片旋转时，配合清洗硅片两侧外表面，从而加快清洗速度，启动动力电机可以带动旋转滚轮旋转，旋转滚轮旋转会带动硅片旋转。
11.优选的，所述限位块正表面开设有固定凹槽，所述固定凹槽内部固定安装有磁石，所述磁石与电磁铁相互配合。
12.具体的，通过固定凹槽与电磁铁相互配合，利用磁力基本原理带动限位块移动。
13.优选的，所述连接通孔内部活动安装有过滤器，所述连接通孔内部且位于过滤器下方固定安装有电磁阀。
14.具体的，通过过滤器可以将清洗液过滤，将杂质滞留在过滤器内部，启动电磁阀可以自动关闭连通电磁阀。
15.优选的，所述清洗液储存仓内部固定安装有小型水泵。
16.具体的，通过启动小型水泵可以将清洗液储存仓内部清洗液重新抽取至运输箱内部。
17.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
18.1、通过设置的硅片固定座与限位凹槽相互配合，启动电磁铁会产生磁场，由于限位块内部设置有磁铁，由于异性相吸会将限位块向限位凹槽内部一侧吸引，限位块会带动挤压滚轮移动，从而将挤压滚轮完全收纳进入限位凹槽内部，此时可以较为便捷的将硅片放置进入储存凹槽，再次启动电磁铁但是电流反向，同性相斥，会将挤压滚轮挤出限位凹槽内部，挤压滚轮会挤压硅片，从而使硅片贴合旋转滚轮表面，启动动力电机可以带动旋转滚轮旋转，旋转滚轮旋转会带动硅片旋转，可以清洗不同厚度的硅片。
19.2、通过设置的连接通孔与清洗液储存仓相互配合，清洗完毕后，启动电磁阀打开连接通孔，此时运输箱内部清洗液会通过过滤器进入清洗液储存仓内部，过滤器会将清洗液内部杂质过滤，将杂质滞留在过滤器内部，当溶液全部进入清洗液储存仓内部后，取出过滤器将杂质倾倒至外界，关闭电磁阀后，再启动小型水泵可以将清洗液储存仓内部清洗液重新抽取至运输箱内部即可，不必担心溶液内部杂质影响清洗效果。
附图说明
20.图1为本实用新型的整体结构示意图；
21.图2为本实用新型的剖视图；
22.图3为本实用新型的局部剖视图；
23.图4为本实用新型的图2中a处放大图；
24.图5为本实用新型的限位块结构示意图。
25.图中：1、运输箱；101、保护盖；102、加热棒；2、硅片固定座；201、储存凹槽；202、柔性清洗刷；203、动力电机；204、旋转滚轮；3、限位凹槽；301、电磁铁；302、限位块；303、挤压
滚轮；304、固定凹槽；305、磁石；4、连接通孔；401、过滤器；402、电磁阀；5、清洗液储存仓；501、小型水泵。
具体实施方式
26.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
27.请参阅图1-5，本实用新型提供一种技术方案：一种配合于硅片清洗机的硅片清洗转运箱，包括运输箱1，运输箱1内部底面固定安装有硅片固定座2，硅片固定座2上表面开设有储存凹槽201，储存凹槽201内部开设有限位凹槽3，限位凹槽3内部固定安装有电磁铁301，电磁铁301一侧且位于限位凹槽3内部活动安装有限位块302，限位块302外表面活动安装有挤压滚轮303，运输箱1内部底面开设有连接通孔4，运输箱1内部开设有清洗液储存仓5，连接通孔4与清洗液储存仓5内部相通。
28.本实施方案中，通过设置的储存凹槽201可以放置需要清洗的硅片，启动电磁铁301会产生磁场，由于限位块302内部设置有磁铁，由于异性相吸会将限位块302向限位凹槽3内部一侧吸引，限位块302会带动挤压滚轮303移动，从而将挤压滚轮303完全收纳进入限位凹槽3内部，此时可以较为便捷的将硅片放置进入储存凹槽201，再次启动电磁铁301但是电流反向，同性相斥，会将挤压滚轮303挤出限位凹槽3内部，挤压滚轮303会挤压硅片，从而使硅片贴合旋转滚轮204，从而清洗硅片，可以适应各种厚度的硅片。
29.其中，为了实现清洗不同厚度硅片的目的，本装置采用如下技术方案实现的：运输箱1上表面活动安装有保护盖101，运输箱1内部固定安装有加热棒102，硅片固定座2上表面且位于储存凹槽201两侧固定安装有柔性清洗刷202，硅片固定座2内部固定安装有动力电机203，动力电机203输出端固定安装有旋转滚轮204，限位块302正表面开设有固定凹槽304，固定凹槽304内部固定安装有磁石305，磁石305与电磁铁301相互配合。
30.通过保护盖101可以将运输箱1内部相对密封起来，放置清洗液飞溅出至外界，启动加热棒102可以加热内部储存的清洗液，从而提高清洗效率，柔性清洗刷202会在硅片旋转时，配合清洗硅片两侧外表面，从而加快清洗速度，启动动力电机203可以带动旋转滚轮204旋转，旋转滚轮204旋转会带动硅片旋转，固定凹槽304与电磁铁301相互配合，利用磁力基本原理带动限位块302移动。
31.其中，为了实现过滤杂质的目的，本装置采用如下技术方案实现的：连接通孔4内部活动安装有过滤器401，连接通孔4内部且位于过滤器401下方固定安装有电磁阀402，清洗液储存仓5内部固定安装有小型水泵501。
32.通过过滤器401可以将清洗液过滤，将杂质滞留在过滤器401内部，启动电磁阀402可以自动关闭连通电磁阀402，启动小型水泵501可以将清洗液储存仓5内部清洗液重新抽取至运输箱1内部。
33.本实用新型的工作原理及使用流程：在使用是需要将装置放置在合适的位置，将调配好的清洗液倾倒进入运输箱1内部，启动电磁铁301会产生磁场，由于限位块302内部设置有磁铁，由于异性相吸会将限位块302向限位凹槽3内部一侧吸引，限位块302会带动挤压
滚轮303移动，从而将挤压滚轮303完全收纳进入限位凹槽3内部，此时可以较为便捷的将硅片放置进入储存凹槽201，再次启动电磁铁301但是电流反向，同性相斥，会将挤压滚轮303挤出限位凹槽3内部，挤压滚轮303会挤压硅片，从而使硅片贴合旋转滚轮204表面，启动动力电机203可以带动旋转滚轮204旋转，旋转滚轮204旋转会带动硅片旋转，配合柔性清洗刷202清洗硅片表面，清洗完毕后，启动电磁阀402打开连接通孔4，此时运输箱1内部清洗液会通过过滤器401进入清洗液储存仓5内部，过滤器401会将清洗液内部杂质过滤，将杂质滞留在过滤器401内部，当溶液全部进入清洗液储存仓5内部后，取出过滤器401将杂质倾倒至外界，关闭电磁阀402后，再启动小型水泵501可以将清洗液储存仓5内部清洗液重新抽取至运输箱1内部即可，不必担心溶液内部杂质影响清洗效果。
34.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。