技术特征：
1.一种雷尼镍反应后处理设备，其特征在于：包括凹架(1)，所述凹架(1)的内壁底部两侧均固定连接有滑架(3)，两个所述滑架(3)内均滑动连接有滑条(4)，两个所述滑条(4)的顶部固定连接有反应罐(5)，所述反应罐(5)的底部连通有排液管(6)，所述排液管(6)上设置有阀门(7)，所述凹架(1)的底部开设有通槽(8)，所述排液管(6)的一端位于通槽(8)内，所述凹架(1)的两侧均螺纹穿设有螺杆(10)，两个所述螺杆(10)的一端均转动连接有夹板(11)，两个所述夹板(11)的相对侧分别搭接在反应罐(5)的两侧，所述凹架(1)的顶部两侧均开设有一组凹槽(13)，两组所述凹槽(13)内均固定连接有电动推杆(14)，两组所述电动推杆(14)的顶部固定连接有封板(15)，所述封板(15)的底部固定连接有环管(24)，所述环管(24)的内壁与反应罐(5)的外侧搭接，所述封板(15)的顶部固定连接有电机(16)，所述电机(16)的输出轴穿过封板(15)固定连接有活动盘(17)，所述活动盘(17)的底部固定连接有四个固定杆(20)，四个所述固定杆(20)的底部均固定连接有镂空箱(21)，四个所述镂空箱(21)的一侧均通过合页活动连接有镂空门(22)，四个所述镂空箱(21)的内壁均固定连接有一组镂空板(23)。2.根据权利要求1所述的一种雷尼镍反应后处理设备，其特征在于：所述凹架(1)的正面一侧设置有控制器(2)，所述反应罐(5)的内壁底部固定连接有倾斜环板(9)。3.根据权利要求1所述的一种雷尼镍反应后处理设备，其特征在于：所述凹架(1)的两侧均穿设有一组伸缩杆(12)，两组所述伸缩杆(12)一端分别固定连接在两个夹板(11)的一侧。4.根据权利要求1所述的一种雷尼镍反应后处理设备，其特征在于：所述封板(15)的顶部一侧穿设有排气管(25)，所述排气管(25)的一端位于反应罐(5)内。5.根据权利要求1所述的一种雷尼镍反应后处理设备，其特征在于：所述封板(15)的底部开设有梯形环槽(18)，所述梯形环槽(18)内滑动连接有梯形环块(19)，所述梯形环块(19)的底部固定连接在活动盘(17)的顶部。6.根据权利要求2所述的一种雷尼镍反应后处理设备，其特征在于：所述控制器(2)通过导线分别与电动推杆(14)和电机(16)电性连接。
技术总结
本实用新型属于化学反应设备技术领域，尤其为一种雷尼镍反应后处理设备，包括凹架，所述凹架的内壁底部两侧均固定连接有滑架，两个所述滑架内均滑动连接有滑条，两个所述滑条的顶部固定连接有反应罐，所述反应罐的底部连通有排液管，所述排液管上设置有阀门，所述凹架的底部开设有通槽，所述排液管的一端位于通槽内，所述凹架的两侧均螺纹穿设有螺杆，两个所述螺杆的一端均转动连接有夹板，两个所述夹板的相对侧分别搭接在反应罐的两侧。通过活动盘底部固定连接镂空箱，方便将制备后的雷尼镍取出，通过凹架内滑动连接反应罐，封板和环管扣接在反应罐的顶部，便于对反应罐进行拆卸，从而方便对反应罐进行清洗。而方便对反应罐进行清洗。而方便对反应罐进行清洗。
技术研发人员：王永花 郭晗 范文贵
受保护的技术使用者：辽宁昊维科技有限公司
技术研发日：2022.06.07
技术公布日：2022/10/25
再多了解一些
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