具有改进的缩孔控制的可电沉积的涂层组合物的制作方法

技术特征：
1.一种可电沉积的涂层组合物，其包含：聚法呢烯聚合物；以及含离子盐基团的成膜聚合物。2.根据权利要求1所述的可电沉积的涂层组合物，其中所述聚法呢烯聚合物包含反式-β-法呢烯的残基。3.根据权利要求2所述的可电沉积的涂层组合物，其中所述聚法呢烯聚合物进一步包含α-法呢烯、顺式-β-法呢烯或其任何组合的残基。4.根据权利要求2或3中任一项所述的可电沉积的涂层组合物，其中所述聚法呢烯聚合物进一步包含丁二烯、异戊二烯、苯乙烯、倍半萜烯或其任何组合的残基。5.根据前述权利要求中任一项所述的可电沉积的涂层组合物，其中所述聚法呢烯聚合物的数均分子量为500g/mol至10,000g/mol。6.根据前述权利要求中任一项所述的可电沉积的涂层组合物，其中基于所述树脂共混物固体的总重量，所述聚法呢烯聚合物以0.1重量％至10重量％的量存在于所述可电沉积的涂层组合物中。7.根据前述权利要求中任一项所述的可电沉积的涂层组合物，所述聚法呢烯聚合物作为包含所述聚法呢烯聚合物残基的反应产物掺入所述可电沉积的涂层组合物中。8.根据权利要求7所述的可电沉积的涂层组合物，其中所述聚法呢烯聚合物包含与化合物反应以形成所述反应产物的官能团。9.根据前述权利要求中任一项所述的可电沉积的涂层组合物，其中所述聚法呢烯聚合物包含氨基官能团、硫醇官能团、环氧官能团、酰胺官能团、氨基甲酸酯官能团、羧酸基团、含磷酸基团、磺酸基团或其任何组合。10.根据前述权利要求中任一项所述的可电沉积的涂层组合物，其中所述聚法呢烯聚合物包含至少一个羟基官能团。11.根据权利要求10所述的可电沉积的涂层组合物，其中所述聚法呢烯聚合物的理论羟基当量为100g/当量至10,000g/当量。12.根据权利要求10或11所述的可电沉积的涂层组合物，其中所述聚法呢烯聚合物的羟基重量为0.1meq/g-2.0meq/g。13.根据前述权利要求中任一项所述的可电沉积的涂层组合物，其进一步包含聚丁二烯多元醇、聚环氧丁烷聚合物、聚醚胺加合物、聚胺-二醛加合物、环氧微凝胶、丙烯酸微凝胶、丙烯酸聚合物或其任何组合。14.根据前述权利要求中任一项所述的可电沉积的涂层组合物，其中所述含离子盐基团的成膜聚合物包含官能团，并且所述可电沉积的涂层组合物进一步包含与所述成膜聚合物的官能团具有反应性的固化剂。15.根据权利要求14所述的可电沉积的涂层组合物，其中所述固化剂包含封闭的聚异氰酸酯。16.根据权利要求15所述的可电沉积的涂层组合物，其中所述封闭的聚异氰酸酯至少部分地用所述聚法呢烯聚合物作为封闭剂封闭。17.根据前述权利要求中任一项所述的可电沉积的涂层组合物，其中所述可电沉积的涂层组合物基本上不含锡。
18.一种涂覆基材的方法，其包括将由根据前述权利要求1至17中任一项所述的可电沉积的涂层组合物沉积的涂层电泳式地施涂到所述基材的至少一部分上。19.一种基材，其涂覆有由根据权利要求1至17中任一项所述的可电沉积的涂层组合物沉积的涂层。20.根据权利要求19所述的基材，其中与不包括所述聚法呢烯多元醇的对比涂层组合物相比，通过缩孔深度测试方法测量的基材上的涂层的缩孔深度减少至少10％。

技术总结
本发明涉及一种可电沉积的涂层组合物，其包含聚法呢烯聚合物和含离子盐基团的成膜聚合物。还公开了使用所述可电沉积的涂层组合物涂覆基材的方法、源自所述可电沉积的涂层组合物的涂层和涂覆有源自所述可电沉积的涂层组合物的所述涂层的基材。合物的所述涂层的基材。


技术研发人员：D
受保护的技术使用者：PPG工业俄亥俄公司
技术研发日：2021.02.26
技术公布日：2022/9/13