低反射材的制作方法

1.本发明涉及降低了表面反射率及表面光泽度的低反射材等。


背景技术：

2.在单反相机、轻便相机、录像机、智能型手机等各种光学设备中，从去除不要的入射光、反射光，抑制光晕、镜头光斑、鬼影等的发生等的观点来看，使用遮光性高且低光泽的遮光构件。例如，将用以切掉不要光的遮光板、遮光环等夹隔在镜头间的镜头单元、相机模块等被搭载于各种光学设备。另外，在单反相机、轻便相机、录像机等各种光学设备的快门、光圈构件等中，从防止因外光导致的光晕、鬼影的发生等等的观点来看，使用有遮光性的构件。
3.另一方面，通过近年来的传感技术显著的进步，在汽车、列车、火车、电车、船舶、货物船、航空器、宇宙飞船、火箭、运输设备、交通工具等各种移动体(以下，有称为“移动车辆”的情况)中，正研究高度的传感技术的导入。列举一例，为了检出存在于本车辆前方的障碍物(例如其他车辆、行人、护栏、房屋等)，将具备摄像元件的镜头单元(相机模块)、红外线传感器等光学传感器设置在车室内的汽车的开发正在推进中。
4.以往，作为各种光学设备的遮光构件，本技术人提案有一种光学设备用遮光构件，其特征在于，为具有膜基材、与形成在所述基材的至少单面的遮光膜的光学设备用遮光构件，所述遮光膜含有粘结剂树脂、碳黑、粒子状的润滑剂及微粒，所述粘结剂树脂及所述润滑剂的含有率分别为70重量％以上、5～15重量％，所述润滑剂的密度较所述微粒更大(参照专利文献1)。
5.现有技术文献
6.专利文献
7.专利文献1：日本特开2011-123255号公报


技术实现要素：

8.发明所要解决的课题
9.于专利文献1的技术中，定为于遮光膜中含有70重量％以上的粘结剂树脂及2～5重量％左右的二氧化硅等的微粒，并且进一步含有密度疏的特定的润滑剂5～15重量％的配方，并实现了良好的遮光性。然而，该配方中，遮光膜的表面的550nm漫反射率及905nm漫反射率(905nm)皆为5％以上，大，在作为低反射材使用时，于表面反射率的方面尚有改善的余地。而且，于专利文献1的技术中，虽实现了60
°
镜面光泽度为1.8～7.6％左右的消光性，但正期待具有更低的镜面光泽度的低反射材的实现。尤其，于专利文献1的技术中，由于针对广角度侧的镜面光泽度(例如75度镜面光泽度或85度镜面光泽度)并未有任何考虑，故因广角度侧的镜面光泽度导致的不良影响依然残存。因此，在进行更高精度的拍摄、传感等时正在寻求改善。
10.另外，在近年来，从设计性的观点等来看，有高级感的低光泽且深黑设计的人气正
在高涨，正在寻求与其的调和。然而，于专利文献1的技术中，例如cie 1976l
*a*b*
表色系中的l
*
值为25以上，即使在黑色度的方面，也有改善的余地。
11.本发明鉴于上述课题而完成。即，本发明提供一种表面反射率及表面光泽度小的低反射材等。另外，本发明的另一目的为提供一种特别降低了广角度侧的镜面光泽度的新颖的低反射材等。进而本发明的目的在于提供一种使用了这些低反射材的高性能的低反射构件，尤其是l
*
值低、并能够赋予深黑设计性的低反射构件、光学设备用低反射构件等。
12.用以解决课题的手段
13.本发明人等为了解决上述课题，进行努力研究低反射层的表面形状、光学特性等的结果是，发现于粘结剂树脂中分散了着色材及树脂粒子的低反射喷涂层，具有以往没有的新颖的表面形状，并发现通过该新颖的表面形状，带来更低的表面反射率及更低的表面光泽度，而最终完成本发明。
14.[1]一种低反射材，其特征在于，至少具备：至少含有粘结剂树脂、分散在所述粘结剂树脂中的着色材以及分散在所述粘结剂树脂中的树脂粒子、且厚度3～100μm的低反射喷涂层，所述低反射喷涂层的一个表面侧的表面粗糙度rsm为80～180μm，该表面侧的表面粗糙度rsk小于0.5μm。
[0015]
[2]如上述[1]所记载的低反射材，其中，所述低反射喷涂层的所述表面侧的表面粗糙度ra为0.5～15.0μm，所述低反射喷涂层的所述表面侧的表面粗糙度rz为3～70μm。
[0016]
[3]如上述[1]或[2]所记载的低反射材，其中，所述低反射喷涂层的所述表面侧的表面粗糙度ra为0.8～10.0μm，所述低反射喷涂层的所述表面侧的表面粗糙度rz为6～60μm。
[0017]
[4]如上述[1]～[3]中任一项所记载的低反射材，其中，所述粘结剂树脂的含有比例相对于所述低反射喷涂层，合计为1～30质量％，所述着色材的含有比例相对于所述低反射喷涂层的总量，合计为0.1～35质量％，所述树脂粒子的含有比例相对于所述低反射喷涂层的总量，合计为50～95质量％。
[0018]
[5]如上述[1]～[4]中任一项所记载的低反射材，其中，所述树脂粒子含有着色树脂微粒。
[0019]
[6]如上述[1]～[5]中任一项所记载的低反射材，其中，所述树脂粒子具有3～20μm的平均粒径d
50
。
[0020]
[7]如上述[1]～[6]中任一项所记载的低反射材，其中，所述低反射喷涂层的所述表面侧的85度镜面光泽度(jis-z8741：1997)为0.0％以上且小于9.0％。
[0021]
[8]如上述[1]～[7]中任一项所记载的低反射材，其中，所述低反射喷涂层的所述表面侧的550nm漫反射率(包含镜面反射)为0.0％以上且小于3.0％。
[0022]
[9]如上述[1]～[8]中任一项所记载的低反射材，其中，所述低反射喷涂层的所述表面侧的905nm漫反射率(包含镜面反射)为0.0％以上且小于3.0％。
[0023]
[10]如上述[1]～[9]中任一项所记载的低反射材，其中，所述低反射喷涂层的所述表面侧的cie 1976l
*a*b*
表色系中的l
*
值为0～18。
[0024]
[11]如上述[1]～[10]中任一项所记载的低反射材，其中，所述低反射喷涂层具有0.5以上的光密度od。
[0025]
[12]如上述[1]～[11]中任一项所记载的低反射材，其中，所述低反射喷涂层具有
光透射性。
[0026]
[13]如上述[1]～[12]中任一项所记载的低反射材，其还具备基材，所述低反射喷涂层被设置在所述基材的至少一个主面侧。
[0027]
[14]如上述[1]～[12]中任一项所记载的低反射材，其还具备基材膜，所述低反射喷涂层分别被设置在所述基材膜的一个主面侧及另一个主面侧。
[0028]
发明效果
[0029]
根据本发明，可以实现表面反射率及表面光泽度小的低反射材等，例如可以抑制光学传感器类的拍摄图像、检出精度的劣化或下降。另外，由于可以实现具有更深黑外观的低反射材等，也能够提升搭载其的各种光学设备的设计性。而且，进而根据本发明的合适方式，能够提供一种特别降低了广角度侧的镜面光泽度的新颖的低反射材等，使得能够更进一步提高拍摄图像、检出精度。通过使用这些低反射材等，例如能够实现即使从广角度侧观察、表面光泽度也小的哑光加工品，也能够实现以往未曾有过的新颖设计的低反射材、使用了该低反射材的高性能的低反射构件、尤其是l
*
值低、并能够赋予深黑设计性的低反射构件、光学设备用低反射构件等。
附图说明
[0030]
图1为示出一个实施方式的低反射材100的示意剖视图。
具体实施方式
[0031]
以下，针对本发明的实施的方式，参照附图进行详细说明。需要说明的是，上下左右等位置关系，除非另有说明，定为根据附图所示的位置关系。另外，附图的尺寸比率并不被限定于图示的比率。但是，以下的实施的方式为用以说明本发明的例示，本发明并不被限定于这些。需要说明的是，在本说明书中，例如为“1～100”的数值范围的表述定为包含其上限值“100”及下限值“1”双方。另外，其他数值范围的表述亦相同。
[0032]
(第一实施方式)
[0033]
图1为示出本发明的第一实施方式的低反射材100的关键部位的剖视图。该低反射材100具备：基材11、被设置在该基材11的一个主面11a侧的厚度3～100μm的低反射喷涂层21、和被设置在基材11的另一个主面11b侧的粘合层31。即，本实施方式的低反射材100具有至少依低反射喷涂层21、基材11及粘合层31的顺序排列的层叠结构(3层结构)。需要说明的是，在该层叠结构中，低反射喷涂层21配置在表侧的最表面，并且粘合层31配置在背侧的最表面，低反射喷涂层21及粘合层31以分别露出在表侧及背侧的最表面的状态配置。需要说明的是，于低反射喷涂层21的表面21a，可以在不脱离本发明的主旨的范围，根据需要设置防静电层、保护层、防污层、抗菌层、防反射膜、印刷层等任意层。另外，低反射喷涂层21的表面21a可以在不脱离本发明的主旨的范围，根据需要被实施防静电处理、防污处理、抗菌处理、防反射处理等任意的表面处理。
[0034]
此处，在本说明书中，所谓“设置在～的一个(另一个)面侧”，是指不仅如本实施方式所示包含于基材11的表面(例如主面11a、主面11b)直接载置了低反射喷涂层21、粘合层31的方式，亦包含于基材11的主面11a与低反射喷涂层21之间、于基材11的主面11b与粘合层31之间夹隔未图示的任意的层(例如底漆层、粘接层等)，低反射喷涂层21、粘合层31与基
材11分离地配置的方式。另外，所谓至少具备低反射喷涂层21及粘合层31的层叠结构，是指不仅包含仅低反射喷涂层21及粘合层31直接层叠在基材11上的结构，亦包含于3层结构的层间进一步设置了如上所述的任意的层的结构。
[0035]
基材11只要能够支承低反射喷涂层21及粘合层31，则其种类没有特别限定。作为基材11的具体例，例如虽可列举金属、合金、树脂成形体、树脂膜、无纺布及玻璃等，但并不特别限定于这些。作为金属、合金，优选使用包括铝、镁、铁及它们的合金的金属材料。另外，从尺寸稳定性、机械强度及轻量化等观点来看，作为基材11，优选使用合成树脂。作为合成树脂的具体例，虽可列举聚酯；abs(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯)；聚酰亚胺；聚酰胺；聚酰胺酰亚胺；聚苯乙烯；聚碳酸酯；(甲基)丙烯酸系；尼龙系；聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃系；降冰片烯(日文：
カレボルネン
)类与α-烯烃的加成共聚物、降冰片烯类的氢化开环歧化聚合物、环戊烯、环己烯、3-甲基环己烯、环辛烯等环烯烃系；纤维素系；聚砜系；聚苯硫醚系；聚醚砜系；聚醚醚酮系的树脂，但并不特别限定于这些。需要说明的是，在本说明书中，“(甲基)丙烯酸类”包含丙烯酸类、甲基丙烯酸类双方的概念。这些可以1种单独使用，也能够以2种以上的任意组合使用。另外，亦适合使用任意组合这些使用的多层成形体(多色成形体)、层叠膜。这些当中，作为基材11，从尺寸稳定性、机械强度及轻量化等观点来看，优选为合成树脂基材膜，更适合使用聚酯膜、聚酰亚胺膜、聚碳酸酯膜、(甲基)丙烯酸系膜、以及任意组合这些而得的层叠膜。尤其地，单轴或双轴拉伸膜、特别是双轴拉伸聚酯膜由于机械强度及尺寸稳定性优异故特别优选。另外，于耐热用途，特别优选为聚酰亚胺膜、聚酰胺酰亚胺膜、聚酰胺膜，最优选为聚酰亚胺膜、聚酰胺酰亚胺膜。
[0036]
基材11的厚度可以根据要求性能及用途适当设定，没有特别限定。通过于基材11上设置低反射喷涂层21，例如能够对作为成形体的基材11、或对作为膜状的基材11的基材膜、对膜状或层状的基材11，赋予表面反射率及表面光泽度小的表面。需要说明的是，使用作为膜状的基材11的基材膜时，从轻量化及薄膜化的观点来看，以基材11的厚度为0.5μm以上且小于250μm作为目标。从强度、刚性等观点来看，基材11的厚度优选为36μm以上且小于250μm。另一方面，从进一步的轻量化及薄膜化的观点来看，基材11的厚度优选为1μm以上且50μm以下，更优选为1μm以上且25μm以下，进一步优选为4μm以上且10μm以下，特别优选为5μm以上且7μm以下。需要说明的是，从提升与低反射喷涂层21、粘合层31的粘接性的观点来看，根据需要也能够对基材11表面进行锚定处理、电晕处理、防静电等各种公知的表面处理。
[0037]
需要说明的是，基材11的外观可以为透明、半透明、不透明的任意种，没有特别限定。例如也能够使用发泡聚酯膜等经发泡的合成树脂膜、含有各种颜料的合成树脂膜。例如，通过使用含有1种以上的黑色、灰色、紫色、蓝色、茶色、红色、绿色等暗色系的颜料或染料的合成树脂膜，能够成为光密度高的膜。作为此处使用的颜料、染料，可以从本领域公知物中适当选择使用，其种类没有特别限定。例如作为黑色系的颜料，可列举黑色树脂粒子、磁铁矿系黑、铜
·
铁
·
锰系黑、钛黑、碳黑等。这些当中，从遮盖性优异的角度考虑，优选为黑色树脂粒子、钛黑、碳黑。这些可以1种单独使用，此外也可以组合2种以上使用。基材11含有颜料或染料时，其含有比例可以根据要求性能及用途适当设定，没有特别限定。从尺寸稳定性、机械强度、轻量化等观点来看，颜料及染料的合计的含有比例相对于基材11的总量，优选为0.3～15质量％，更优选为0.4～12质量％，进一步优选为0.5～10质量％。
[0038]
对于本实施方式的低反射喷涂层21的表面21a侧(于本实施方式为向外方露出的表面21a)的表面粗糙度，rsm为80～180μm、且rsk小于0.5μm成为必要。这样的特殊的表面形状于现有技术的低反射膜、遮光膜中是没有被实现过的、或者是未曾被知悉的，由此可以实现更小的表面反射率及表面光泽度、并且可特别降低广角度侧的镜面光泽度。
[0039]
表面粗糙度rsm为表面凹凸的长度方向(横向方向)的参数，在基准长度中表示粗糙度曲线要素的长度xs的平均。此即可作为表面凹凸的平均波长把握。需要说明的是，表面凹凸的长度方向是指在表面粗糙度rsm的测定时所确定的低反射喷涂层21的面内的一个方向，例如以俯视为矩形状的低反射喷涂层21时，可以为纵向方向、面内的横向方向的任一种，其方向没有特别限定。低反射喷涂层21的表面粗糙度rsm为80～180μm，与现有技术的低反射膜、遮光膜的表面粗糙度rsm为约20～70μm相比较，成为较大的值。低反射喷涂层21的表面粗糙度rsm优选为90～170μm，更优选为100～160μm。表面粗糙度rsm越大，有表面反射率及表面光泽度变越小、并且有广角度侧的镜面光泽度变越小的倾向，另一方面，有涂膜强度降低的倾向。
[0040]
另一方面，表面粗糙度rsk为表面凹凸的高度方向(深度方向)的参数，在基准长度中表示粗糙度曲线的偏度(skewness)。此即可作为表示将平均线作为中心时的凸部与凹部的对称性的指标把握。低反射喷涂层21的表面粗糙度rsk小于0.5μm，与现有技术的低反射膜、遮光膜的表面粗糙度rsk为正值(约3～7μm)相比，对照性地成为极小的值或负值。低反射喷涂层21的表面粗糙度rsk优选小于0.5μm，更优选为0.0μm以下，进一步优选为-1.0μm以下，优选为-7μm以上，更优选为-5μm以上，进一步优选为-3μm以上。表面粗糙度rsk的绝对值越小，有表面反射率及表面光泽度变越小、并且有广角度侧的镜面光泽度变越小的倾向。
[0041]
如上所示，具有满足上述的表面粗糙度rsk及rsm的条件的表面形状的低反射喷涂层21，可以从概念上把握为具有表面凹凸的长度方向的平均波长比较大、且在高度方向上相较凹部存在比较多凸部的表面形状者。本发明人等发现，通过控制为这样的特殊的表面形状，与现有技术相比较，可以实现表面反射率及表面光泽度小、广角度侧的镜面光泽度特别小的低反射材。其理由虽尚未确定，但认为是因为满足上述的表面粗糙度rsk及rsm的条件的表面形状，其内部扩散性及外部扩散性与现有技术相比，可维持得充分大，即使对于来自于现有技术中对应困难的广角度侧的入射光，内部扩散性及外部扩散性亦有效发挥作用。
[0042]
需要说明的是，低反射喷涂层21的表面粗糙度ra(算术平均粗糙度)可以根据要求性能适当设定，虽没有特别限定，但从缩小表面反射率及表面光泽度、并且缩小广角度侧的镜面光泽度的观点来看，优选为0.5～15.0μm，更优选为0.6～14.0μm，进一步优选为0.7～12.0μm，特别优选为0.8～10.0μm。此处，表面粗糙度ra为如本领域所周知的，为表面凹凸的高度方向的参数，在基准长度中表示粗糙度曲线的高度zx的绝对值的平均。低反射喷涂层21的表面粗糙度ra虽可与现有技术的低反射膜、遮光膜的表面粗糙度ra为相同程度，但为了得到具有上述的表面粗糙度rsk及rsm的特殊表面形状，有相较现有技术的低反射膜、遮光膜的表面粗糙度ra，成为比较大的值的倾向。
[0043]
另外，低反射喷涂层21的表面粗糙度rz(最大高度)可以根据要求性能适当设定，虽没有特别限定，但从缩小表面反射率及表面光泽度、并且缩小广角度侧的镜面光泽度的观点来看，优选为3～70μm，更优选为4～67μm，进一步优选为5～65μm，特别优选为6～60μm。
需要说明的是，低反射喷涂层21的表面粗糙度rz如本领域所周知的，为表面凹凸的高度方向的参数，在基准长度中表示粗糙度曲线的凸部高度zp与凹部深度zv的最大值的和。低反射喷涂层21的表面粗糙度rz虽可与现有技术的低反射膜、遮光膜的表面粗糙度rz为相同程度，但为了得到具有上述的表面粗糙度rsk及rsm的特殊表面形状，有相较现有技术的低反射膜、遮光膜的表面粗糙度rz，成为比较大的值的倾向。
[0044]
需要说明的是，上述的表面粗糙度rsm、rsk、ra及rz，是指依照jis标准(jis b 0601-2001及jis b 0651-2001)所测定的值及所算出的值。具体而言，可以根据“产品几何技术规范(gps)-表面性状：轮廓曲线方式-用语、定义及表面性状参数、jis b0601：2001”，例如使用触针式表面粗糙度测定机(surfcom 1500sd2-3df：东京精密公司)等三维表面粗糙度计测定，并且表面粗糙度rsm等根据需要可使用附属的分析软件、通用的分析软件算出。更详细的测定条件如下所示。
[0045]
测定长度：4.0mm
[0046]
截止波长：0.8mm
[0047]
测定速度：0.6mm/s
[0048]
触针：前端半径2μm、顶角60
°
圆锥型的单晶金刚石制
[0049]
具有上述的特殊表面形状的低反射喷涂层21，可以通过将至少包含粘结剂树脂与遮光材与树脂粒子与分散介质的涂布液以喷涂法进行制膜来形成。在该喷涂涂布中，通过涂布液微小的液滴依次附着在基材11的主面11a上，并与其同时推进地挥发或去除分散介质的一部分，最终充分挥发或去除分散介质，由此通过依序堆积从涂布液微小的液滴去除了分散介质的微小涂粒(固形粒)，从而膜形成低反射喷涂层21。如此，通过以堆积微小涂粒的方式进行膜形成，首次得到具有上述的表面形状(特定的表面粗糙度rsk及rsm)的低反射喷涂层21。具有表面凹凸的长度方向的平均波长比较大、且在高度方向上相较凹部存在比较多凸部的表面形状的表面形状，无法用现有技术棒涂法获得。另外，根据喷涂法，例如即使为曲面、倾斜面、沟、突起等平面以外的表面，由于低反射喷涂层21的形成容易，故可以将表面反射率及表面光泽度小的表面形成在任意的场所。
[0050]
以下，列举实例，进一步说明低反射喷涂层21的新颖的表面形状所带来的作用效果。此处，将于厚度25μm的基材膜上使用包含1～30质量％的粘结剂树脂、与0.1～35质量％的平均粒径d
50
为25nm的着色材、与50～95质量％的平均粒径d
50
为4μm的树脂粒子、与根据需要配合的0.1～10质量％的固化剂及0.001～1质量％的流平剂、与需要量的分散液的涂布液，通过喷涂法进行膜形成，而设置具有新颖的表面形状的低反射喷涂层21的例子(例1～4)作为示例进行说明。另外，作为比较，将使用包含20～30质量％的粘结剂树脂、与20～45质量％的平均粒径d
50
为25nm的着色材、与30～45质量％的平均粒径d
50
为9.5μm的无定形二氧化硅粒子、与根据需要配合的0.1～10质量％的固化剂及0.001～1质量％的流平剂、与需要量的分散液的涂布液，通过棒涂法进行膜形成，而再现了现有技术范畴的表面形状的例子(例5～例7)，以及使用包含20～30质量％的粘结剂树脂、与20～45质量％的平均粒径d
50
为25nm的着色材、与30～45质量％的平均粒径d
50
为4μm的树脂粒子、与根据需要配合的0.1～10质量％的固化剂及0.001～1质量％的流平剂、与需要量的分散液的涂布液，通过棒涂法进行膜形成，而再现了现有技术范畴的表面形状的例子(例8)列举为例。
[0051]
[表1]
[0052][0053]
如表1所示，在例1～例8中的任一例中，均得到满足在本领域被认为优选的表面粗糙度ra(0.5～15.0μm)及表面粗糙度rz(3～70μm)的、光密度od为0.5以上的涂膜。此处，具有表面粗糙度rsm为80～180μm及表面粗糙度rsk小于0.5μm的表面形状的例1～例4，与不具有这样的特定的表面形状的例5～例8相比较，在表面反射率、表面光泽度显示出更卓越的性能。尤其，值得注意的是于具有这样的特定的表面形状的例1～例4中显示广角度侧的85
°
表面光泽度特别小的值这点。另一方面，在不具有这样的特定的表面形状的例5～例8中，表面反射率、表面光泽度停留在现有技术的水平。
[0054]
需要说明的是，本实施方式的低反射材100的表面反射率并不被限定于上述的例子，可以根据所期望性能适当设定。具体而言，低反射喷涂层21的表面21a侧的550nm漫反射率(包含镜面反射)优选小于3.0％，更优选小于2.5％，进一步优选小于2.0％，特别优选小于1.8％。此处，该550nm漫反射率的下限侧虽没有特别限定，但越低越好，因此，为0.0％以上即可。另外，低反射喷涂层21的表面21a侧的905nm漫反射率(包含镜面反射)优选小于3.0％，更优选小于2.5％，进一步优选小于2.0％，特别优选小于1.8％。此处，该905nm漫反射率的下限侧虽没有特别限定，但越低越好，因此，为0.0％以上即可。需要说明的是，在本说明书中，550nm漫反射率、905nm漫反射率是指使用分光光度计(例如solid spec-3700(岛津制作所公司制))，测定在入射各自的波长的光时的漫反射率(％)而得的值。此处，550nm漫反射率、905nm漫反射率可以通过增减表面粗糙度rsm、表面粗糙度rsk来调整，一般而言，表面粗糙度rsm越大、并且表面粗糙度rsk的负值越小，有越缩小550nm漫反射率、905nm漫反射率的倾向。
[0055]
另外，本实施方式的低反射材100的表面光泽度并不被限定于上述的例子，可以根据所期望性能适当设定。具体而言，从缩小广角度区域的镜面光泽、实现更高的消光性及低光泽性等的观点来看，低反射喷涂层21的表面21a侧的85度镜面光泽度(jis-z8741：1997)优选为0.0％以上且小于10.0％，更优选为0.0％以上且小于9.0％，进一步优选为0.0％以上且小于8.0％，特别优选为0.0％以上且小于6.0％。同样地，低反射喷涂层21的表面21a侧的75度镜面光泽度(jis-z8741：1997)优选为0.0％以上且小于5.0％，更优选为0.0％以上且小于4.5％，进一步优选为0.0％以上且小于4.0％，特别优选为0.0％以上且小于3.0％。另外同样地，低反射喷涂层21的表面21a侧的60度镜面光泽度(jis-z8741：1997)优选为0.0％以上且小于1.0％，更优选为0.0％以上且小于0.5％，进一步优选为0.0％以上且小于0.3％，特别优选为0.0％以上且小于0.2％。
[0056]
此时，从实现自低角度区域至广角度区域的幅度广的低光泽的观点来看、并且从低光泽、低反射性、光吸收性等的平衡的观点来看，对于本实施方式的低反射材100的低反射喷涂层21的表面21a侧的镜面光泽度，20
°
镜面光泽度、45
°
镜面光泽度、60
°
镜面光泽度、75
°
镜面光泽度及85
°
镜面光泽度的合计优选为15.0％以下，更优选为12.0％以下，进一步优选为11.0％以下，特别优选为10.0％以下，最优选为8.0％以下。需要说明的是，在本说明书中，镜面光泽度是指依照jis-z8741：1997，使用数字变角光泽计(gloss meter vg7000：日本电色公司)，分别测定规定的入射受光角(20
°
、45
°
、60
°
、75
°
、85
°
)时的低反射喷涂层21的表面21a侧的光泽度(镜面光泽度)(％)所得的值。
[0057]
另一方面，本实施方式的低反射材100的低反射喷涂层21的表面21a侧的cie 1976l
*a*b*
表色系中的l
*
值根据要求性能适当设定即可，没有特别限定。从寻求更深黑外观的观点来看、并且从低光泽、低反射性、光吸收性等的平衡的观点来看，低反射喷涂层21的表面21a侧的cie 1976l
*a*b*
表色系中的l
*
值优选为0～18，更优选为16以下，进一步优选为14以下，特别优选为13以下。需要说明的是，在本说明书中，l
*a*b*
表色系中的l
*
值是指依照jis z 8720：2012，使用cie标准照明体d
65
利用分光测色计(例如ze6000(日本电色公司制))测定的值。
[0058]
另外，本实施方式的低反射材100的低反射喷涂层21的遮光性根据要求性能适当设定即可，没有特别限定。从具备更高的遮光性的观点来看，低反射喷涂层21优选具有0.5以上的光密度od，更优选具有1.0以上的光密度od，进一步优选具有1.7以上的光密度od，特别优选具有2.0以上的光密度od。需要说明的是，在本说明书中，光密度(od)定为依照iso 5-2，使用光密度计(x-rite361t：x-rite公司)及正交滤镜(日文：
カルソフイルタ
)测定所得的值。
[0059]
另一方面，本实施方式的低反射材100的低反射喷涂层21可以具有光透射性(透光性)。通过采用具有光透射性的低反射喷涂层21，能够赋予调光功能。例如通过使led、背光等光源的点灯时的光透射低反射喷涂层21，由此能够用所期望照度显示所期望的文字、图形、模样等，因此，作为显示体、显示面板或照明面板等的低反射构件的应用价值增大。低反射喷涂层21的光透射性根据要求性能适当设定即可，没有特别限定。从具备更高的光透射性的观点来看，低反射喷涂层21优选具有小于2.0的光密度od，更优选具有小于1.7的光密度od，进一步优选具有小于1.0的光密度od，特别优选具有小于0.5的光密度od。
[0060]
如上所详述，本实施方式的低反射材100通过具备具有特定的表面形状的低反射
喷涂层21，作为表面反射率及表面光泽度小的低反射材发挥作用，于更优选的方式中，作为广角度侧的镜面光泽度特别降低了的新颖的低反射材发挥作用，可以实现例如l
*
值低、能够赋予深黑设计性的低反射构件、光学设备用低反射构件等。因此，通过将本实施方式的低反射材100直接用作低反射构件、或组合该低反射构件与遮光构件而作为低反射遮光构件或者光学设备用低反射遮光构件等使用，可以抑制例如光学传感器类的拍摄图像、检出精度的劣化或下降。需要说明的是，作为构成低反射喷涂层21的素材，可以使用本领域公知物，其种类没有特别限定。需要说明的是，通过喷涂上述的涂布液所得的低反射喷涂层21(喷涂层)，可定义为至少含有粘结剂树脂、与分散在该粘结剂树脂中的着色材、与分散在该粘结剂树脂中的树脂粒子的物质。于本实施方式中，作为着色材，使用碳黑、苯胺黑等黑色的颜料粒子，作为树脂粒子，使用黑色的着色有机树脂粒子。以下，针对低反射喷涂层21的构成要素，进一步详述。
[0061]
作为粘结剂树脂，可以使用本领域公知物，其种类没有特别限定。具体而言，虽可列举聚(甲基)丙烯酸系树脂、聚酯系树脂、聚乙酸乙烯酯系树脂、聚氯乙烯系树脂、聚乙烯醇缩丁醛系树脂、纤维素系树脂、聚苯乙烯/聚丁二烯树脂、聚氨酯系树脂、醇酸树脂、丙烯酸系树脂、不饱和聚酯系树脂、环氧酯系树脂、环氧系树脂、环氧丙烯酸酯系树脂、氨基甲酸酯丙烯酸酯系树脂、聚酯丙烯酸酯系树脂、聚醚丙烯酸酯系树脂、酚系树脂、三聚氰胺系树脂、尿素系树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯系树脂等热塑性树脂或热固性树脂，但并不特别限定于这些。另外，也能够使用热塑性弹性体、热固性弹性体、紫外线固化型树脂、电子束固化型树脂等。这些可以1种单独使用，此外也可以组合2种以上使用。需要说明的是，粘结剂树脂可以根据要求性能及用途适当选择使用。例如在要求耐热性的用途中，优选为热固性树脂。
[0062]
低反射喷涂层21中的粘结剂树脂的含量(总量)能够以膜形成所必要的程度适当设定，没有特别限定。考虑与其他必须成分及任意成分的配合平衡，从实现具有更优异的表面反射率及表面光泽度的低反射喷涂层21的观点来看，粘结剂树脂的含量(总量)相对于低反射喷涂层21的总量，优选合计为1～30质量％，更优选合计为2～25质量％，进一步优选合计为3～20质量％，特别优选合计为5～15质量％。需要说明的是，着色材、树脂粒子包含粘结剂树脂成分时，在此所谓的含有比例中，亦将这些粘结剂树脂成分纳入粘结剂树脂的合计量中。
[0063]
作为着色材，可以使用本领域公知的颜料、染料，其种类没有特别限定。通过适当选择着色材的种类、粒子尺寸、使用量，可以调整遮光性、光透射性。具体而言，虽可列举磁铁矿系黑、铜
·
铁
·
锰系黑、钛黑、碳黑、苯胺黑等，但并不特别限定于这些。作为着色材，从遮光性、光透射性、色调等的调整的容易性等观点来看，优选使用黑色的无机颜料、黑色的有机颜料。这些当中，作为着色材，期望为无机颜料，具体而言，优选为钛黑、碳黑、苯胺黑，更优选为碳黑、苯胺黑。作为碳黑，虽已知有油炉黑、灯黑、槽法碳黑、天然气炉黑、乙炔黑、热碳黑、科琴黑等以各种公知的制法所制作的物质，但其种类并没有特别限制。从对着色材赋予导电性、防止因静电导致的带电的观点来看，特别优选使用导电性碳黑。碳黑的历史悠久，例如由三菱化学股份有限公司、旭carbon股份有限公司、御国色素股份有限公司、resino color工业股份有限公司、cabot公司、degussa公司等，市售有各种等级的碳黑单体及碳黑分散液，根据要求性能、用途从这些当中适当选择即可。这些可以1种单独使用，此外也可以组合2种以上使用。
[0064]
需要说明的是，着色材的粒子尺寸可以根据使用的着色材的种类、作为目的的遮光性、光透射性、低光泽性等要求性能等适当设定，没有特别限定。例如着色材为碳黑时，平均粒径d
50
优选为0.01～2.0μm，更优选为0.05～0.1μm，进一步优选为0.08～0.5μm。需要说明的是，在本说明书中的平均粒径d
50
，是指以激光衍射式粒度分布测定装置(例如岛津制作所公司：sald-7000等)测定的体积基准的中值粒径(d
50
)。
[0065]
低反射喷涂层21中的着色材的含量(总量)可以根据作为目的的遮光性、光透射性、低光泽性等要求性能适当设定，没有特别限定。从考虑与其他必须成分及任意成分的配合平衡、实现具有更优异的表面反射率及表面光泽度的低反射喷涂层21的观点来看，着色材的含量(总量)相对于低反射喷涂层21的总量，优选合计为0.1～35质量％，更优选合计为1～30质量％，进一步优选合计为3～20质量％，特别优选合计为5～15质量％。需要说明的是，使用了经着色的树脂粒子作为树脂粒子时的着色材的含量，定为上述的着色材的质量与树脂粒子所包含的着色材的质量的合计(组合物中的着色材总量)。
[0066]
作为树脂粒子，可以使用本领域公知物，其种类没有特别限定。具体而言，虽可列举聚甲基丙烯酸甲酯系、聚苯乙烯系、聚酯系、聚氨酯系、橡胶系等的树脂粒子，但并不特别限定于这些。这些可以1种单独使用，此外也可以组合2种以上使用。另外，树脂粒子的外观可以为透明、半透明、不透明的任意种，没有特别限定。另外，树脂粒子虽可以为无色，但也可以被着色。例如通过使用着色成黑色、灰色、紫色、蓝色、茶色、红色、绿色等的树脂粒子，即使着色材的使用量比较少，也能够实现光密度、色彩度高的低反射喷涂层21。
[0067]
为了赋予上述的表面反射率及表面光泽度，树脂粒子优选具有比较粗大的粒径。从实现具有更优异的表面反射率及表面光泽度的低反射喷涂层21的观点来看，树脂粒子的平均粒径d
50
的下限优选为1μm以上，更优选为2μm以上，进一步优选为3μm以上，特别优选为4μm以上，最优选为5μm以上。另外，作为上限，优选为30μm以下，更优选为20μm以下，特别优选为15μm以下。需要说明的是，从生产率、操作性等观点来看，有时需要在涂布时抑制树脂粒子的凝聚，或者需要使用即使在树脂粒子发生了凝聚的情况下也具有凝聚物的粒子直径不过度变大程度的平均粒径d
50
的树脂粒子。
[0068]
低反射喷涂层21中的树脂粒子的含量(总量)可以根据遮光性、低光泽性等要求性能适当设定，没有特别限定。从考虑与其他必须成分及任意成分的配合平衡、实现具有更优异的表面反射率及表面光泽度的低反射喷涂层21的观点来看，树脂粒子的含量(总量)相对于低反射喷涂层21的总量，优选合计为50～90质量％，更优选合计为55～95质量％，进一步优选合计为60～85质量％。需要说明的是，使用经着色的树脂粒子作为树脂粒子时的树脂粒子的含量，以包含树脂粒子所包含的着色材的树脂粒子的质量作为基准。
[0069]
需要说明的是，为了控制色调，低反射喷涂层21可以含有上述的着色材以外的公知的色材。作为此色材，虽可列举二芳甲烷系；三芳甲烷系；噻唑系；部花青、吡唑啉酮次甲基等次甲基系；靛苯胺、苯乙酮偶氮甲碱、吡唑并偶氮甲碱、咪唑偶氮甲碱、咪唑并偶氮甲碱等偶氮甲碱系；呫吨系；噁嗪系；二氰基苯乙烯、三氰基苯乙烯等氰基亚甲基系；噻嗪系；吖嗪系；吖啶系；苯偶氮系；吡啶酮偶氮、噻吩偶氮、异噻唑偶氮、吡咯偶氮、咪唑偶氮、噻二唑偶氮、三唑偶氮、双偶氮等偶氮系；螺吡喃系；吲哚啉螺吡喃系；荧烷系；萘醌系；蒽醌系；喹酞酮系等，但并不特别限定于这些。例如可将黑色系、蓝色系、绿色系、黄色系、红色系的公知的色材1种单独使用，此外也可以组合2种以上使用。使用色材时，色材的含量(总量)可以
根据要求性能适当设定，没有特别限定，但从考虑与其他必须成分及任意成分的配合平衡、实现具有更优异的表面反射率及表面光泽度的低反射喷涂层21的观点来看，相对于低反射喷涂层21的总量，优选合计为0.1～10质量％，更优选合计为0.5～5质量％，进一步优选合计为1～3质量％。
[0070]
另外，为了调整低反射喷涂层21的表面光泽度、色调，低反射喷涂层21可以含有公知的消光剂(哑光剂)。作为消光剂，例如虽可列举高岭土、烧成高岭土、烧成粘土、未烧成粘土、二氧化硅(例如天然二氧化硅、熔融二氧化硅、非晶二氧化硅、中空二氧化硅、湿式二氧化硅、合成二氧化硅、气相二氧化硅等)、铝化合物(例如勃姆石、氢氧化铝、氧化铝、水滑石、硼酸铝、氮化铝等)、镁化合物(例如、偏硅酸铝酸镁、碳酸镁、氧化镁、氢氧化镁等)、钙化合物(例如碳酸钙、氢氧化钙、硫酸钙、亚硫酸钙、硼酸钙等)、钼化合物(例如氧化钼、钼酸锌等)、滑石(例如天然滑石、烧成滑石等)、云母(mica)、氧化钛、氧化锌、氧化锆、硫酸钡、硼酸锌、偏硼酸钡、硼酸钠、氮化硼、凝聚氮化硼、氮化硅、氮化碳、钛酸锶、钛酸钡、锡酸锌等锡酸盐等，但并不特别限定于这些。这些可以1种单独使用，此外也可以组合2种以上使用。使用消光剂时，消光剂的含量(总量)可以根据要求性能适当设定，没有特别限定，但从考虑与其他必须成分及任意成分的配合平衡、实现具有更优异的表面反射率及表面光泽度的低反射喷涂层21的观点来看，相对于低反射喷涂层21的总量，优选合计为0.1～10质量％，更优选合计为0.5～5质量％，进一步优选合计为1～3质量％。
[0071]
进而，低反射喷涂层21，可以含有本领域公知的各种添加剂。作为其具体例，虽可列举润滑剂、导电剂、阻燃剂、抗菌剂、防霉剂、抗氧化剂、增塑剂、树脂固化剂、固化剂、固化促进剂、流平剂、流动调整剂、消泡剂、分散剂等，但并不特别限定于这些。作为润滑剂，虽可列举聚乙烯、石蜡、蜡等烃系润滑剂；硬脂酸、12-羟基硬脂酸等脂肪酸系润滑剂；硬脂酸酰胺、油酸酰胺、芥酸酰胺等酰胺系润滑剂；硬脂酸丁酯、硬脂酸单甘油酯等酯系润滑剂；醇系润滑剂；金属皂、滑石、二硫化钼等固体润滑剂；硅酮树脂粒子；聚四氟乙烯蜡、聚偏二氟乙烯等氟树脂粒子等，但并不特别限定于这些。这些当中，特别优选使用有机系润滑剂。另外，作为粘结剂树脂使用紫外线固化型树脂、电子束固化型树脂的情况下，例如可以使用正丁基胺、三乙基胺、三正丁基膦等敏化剂、紫外线吸收剂等。这些可以1种单独使用，此外也可以组合2种以上使用。这些的含有比例虽没有特别限定，但以相对于低反射喷涂层21中所包含的全部树脂成分的固体成分换算，一般而言，优选各自为0.01～5质量％。
[0072]
低反射喷涂层21的厚度可以根据要求性能及用途适当设定，没有特别限定，但从高光密度、轻量化及薄膜化的平衡的观点来看，优选为3μm以上，更优选为5μm以上，进一步优选为10μm以上，特别优选为20μm以上，上限侧优选为100μm以下，更优选为70μm以下，进一步优选为50μm以下，特别优选为40μm以下。
[0073]
需要说明的是，在本说明书中，所谓喷涂法，如上所述，已被作为采用以堆积微小涂粒的方式进行膜形成的涂膜形成原理的涂布方法(即，喷吹微小液滴的涂布方法)的总称使用，是包含空气喷雾法、无空气喷雾法、超声波喷雾法、静电喷雾法(electrostatic spraying method)、喷墨法、静电喷墨法等的用语。需要说明的是，作为此处能够使用的分散介质，没有特别限定，虽可列举水；甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮系溶剂；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯系溶剂；甲基溶纤剂、乙基溶纤剂等醚系溶剂；甲基醇、乙基醇、异丙基醇等醇系溶剂；以及它们的混合溶剂等，但并不特别限定于这些。需要说明的是，
为了提升基材11与低反射喷涂层21的粘接，根据需要可以于基材11表面进行锚定处理、电晕处理等各种公知的表面处理。另外，根据需要可以预先于基材11上设置粘接层等中间层，并在该中间层上形成低反射喷涂层21。如此制膜后，根据需要进行电离辐射线处理、热处理和/或加压处理等，从而可以形成低反射喷涂层21。
[0074]
粘合层31被设置在上述的基材11的主面11b侧，为与未图示的被粘物粘合接合的层。如此，通过将粘合层31侧与被粘物粘合接合，可对被粘物赋予低反射率且低光泽的表面。构成粘合层31的素材可以使用本领域公知物，并且根据被粘物的表面素材(树脂成形体、使用了该树脂成形体的多层层叠体、无纺布及表皮材等、金属、合金等)适当选择即可，其种类没有特别限定。例如优选使用橡胶系粘合剂、丙烯酸系粘合剂、烯烃系粘合剂、硅酮系粘合剂、氨基甲酸酯系粘合剂。
[0075]
粘合层31的厚度可以根据要求性能及用途适当设定，虽没有特别限定，但从轻量化及薄膜化的平衡的观点来看，优选为0.1μm以上，更优选为0.2μm以上，进一步优选为0.5μm以上，特别优选为1.0μm以上，最优选为3.0μm以上，上限侧优选为40μm以下，更优选为30μm以下，进一步优选为25μm以下，特别优选为20μm以下，最优选为10μm以下。
[0076]
关于低反射材100整体的光密度(od)，从具备作为遮光构件的高遮光性的观点来看，优选为1.5以上，更优选为2.0以上，进一步优选为2.5以上，特别优选为3.0以上，最优选为4.0以上。需要说明的是，光密度(od)的上限值不用说为6.0。对于这样的低反射材100，例如如上所述通过采用光密度(od)高的低反射喷涂层21、和/或例如通过采用优选为1.0以上、更优选为2.0以上、进一步优选为3.0以上、特别优选为4.0以上、最优选为5.0以上的基材11(遮光性基材)，可以容易地实现。另外，通过组合光密度(od)高的其他遮光层或遮光膜与低反射材100，也能够实现高遮光性。
[0077]
另一方面，从具备光透射性的观点来看，低反射材100整体的光密度(od)优选小于5.0，更优选小于4.0，进一步优选小于3.0，特别优选小于2.0，最优选小于1.0。需要说明的是，光密度(od)的下限值不用说为0。对于这样的低反射材100，如上所述通过采用光密度(od)低的低反射喷涂层21、或例如采用光透射性高的基材11，可以容易地实现。
[0078]
(变形例)
[0079]
需要说明的是，于上述第一实施方式中，示出于基材11上设置有低反射喷涂层21的层叠结构的低反射材100，但本发明即使以省略了基材11、粘合层31的方式也能够实施。例如，能够作为剥离上述的基材11、仅由低反射喷涂层21所构成的单层结构的低反射材等实施。另外同样地，能够作为不设置粘合层31而于基材11上设置有低反射喷涂层21的2层层叠结构的低反射材等实施。进而，于上述第一实施方式中，示出于基材11上仅设置1层低反射喷涂层21的方式，但即使为于基材11的一个主面11a侧及另一主面11b侧分别设置有低反射喷涂层21的方式，也能够实施。
[0080]
另外，于上述第一实施方式中，示出于膜状的基材11的主面11a应用低反射喷涂层21的例子，但应用本发明的低反射喷涂层21的对象物，并不仅限定于上述的基材11。例如，通过于相机模块、镜头基座支座、镜筒等各种光学设备的表面(例如开口端面、外周面、内周面等)、遮光板、遮光环、快门、光圈构件等遮光构件的表面(例如表面、背面、外周端面、内周端面等)设置低反射喷涂层21，与上述相同地，无论这些表面为金属或合金或者树脂成形体或多色成形体或者玻璃等，都能够赋予表面反射率及表面光泽度小的表面，并且于优选的
方式中，l
*
值低，并能够赋予深黑设计性。
[0081]
产业上的可利用性
[0082]
本发明在要求低反射率及低光泽度的表面的用途，例如精密机械领域、半导体领域、光学设备领域等，或者在车载用途、剧院厅用途，能够作为高性能的低反射材被广泛且有效地利用。尤其，能够作为高性能单反相机、轻便相机、录像机、手机、智能型手机、pda信息终端、投影机等各种光学设备的低反射遮光构件(例如遮光板、遮光环等)、低反射遮光性滑动构件(例如快门、光圈构件等)特别有效地利用。
[0083]
附图标记说明
[0084]
100：低反射材
[0085]
11：基材
[0086]
11a：面(主面1
[0087]
11b：面(主面)
[0088]
21：低反射喷涂层
[0089]
21a：表面
[0090]
31：粘合层