显示面板及其制作方法、显示终端与流程

技术特征：
1.一种显示面板，其特征在于，包括：衬底；像素定义层，设置于所述衬底上，所述像素定义层包括阵列设置的多个第一开口和位于所述第一开口至少一侧的第二开口，所述第一开口与所述第二开口分离设置；发光器件层，设置于所述像素定义层上，所述发光器件层包括设置于多个所述第一开口内的多个发光器件；以及至少一支撑墙，设置于所述第二开口中；其中，在所述显示面板的出光方向上，所述支撑墙的高度大于所述像素定义层的高度。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在所述显示面板的俯视图内，所述支撑墙的正投影面积小于或等于所述第二开口的面积。3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，在所述显示面板的俯视图内，所述支撑墙与所述像素定义层分离设置。4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，在相邻两个所述发光器件的连线方向上，所述支撑墙的宽度与所述第二开口的宽度的比值为1/3至1/2。5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在所述显示面板的出光方向上，所述支撑墙的高度与所述像素定义层的高度的比值为1.1至1.5。6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括设置于所述支撑墙或/和所述像素定义层表面的抗刮擦层，所述抗刮擦层的表面摩擦系数小于所述支撑墙和所述抗刮擦层的表面摩擦系数。7.根据权利要求1至6任一项所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括设置于所述像素定义层上的第一封装层，所述第一封装层连续设置在所述发光器件、所述像素定义层和所述支撑墙的表面。8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述支撑墙和所述像素定义层中的至少一者包括纳米掺杂粒子，所述纳米掺杂粒子为无机氧化物。9.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：提供一衬底；在所述衬底上形成像素定义层，并在像素定义层上定义出多个阵列设置的第一开口和位于所述第一开口至少一侧的第二开口，所述第一开口与所述第二开口分离设置；在所述第二开口内形成至少一支撑墙，并使所述支撑墙的高度大于所述像素定义层的高度；在所述像素定义层上形成包括多个发光器件的发光器件层，多个所述发光器件位于多个所述第一开口内；在所述发光器件层上形成封装层。10.一种显示终端，其特征在于，包括终端主体和如权利要求1至8任一项所述的显示面板，所述终端主体与所述显示面板组合为一体。

技术总结
本申请提出了一种显示面板及其制作方法、显示终端；显示面板包括衬底、设置于衬底上的像素定义层、设置于像素定义层上的发光器件层和至少一支撑墙，像素定义层包括阵列设置的多个第一开口和位于第一开口至少一侧的第二开口，第一开口与第二开口分离设置。发光器件层包括设置于多个第一开口内的多个发光器件，支撑墙设置于第二开口中，在显示面板的出光方向上，支撑墙的高度大于像素定义层的高度；本申请通过设置高度大于像素定义层的支撑墙，使掩膜板与像素定义层的表面不接触，以避免或减少掩膜板对位过程中与像素定义层表面摩擦产生颗粒物导致的封装失效问题，进而有效减少因封装失效导致的小黑点等显示异常现象。装失效导致的小黑点等显示异常现象。装失效导致的小黑点等显示异常现象。


技术研发人员：黄思雨
受保护的技术使用者：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
技术研发日：2022.05.09
技术公布日：2022/8/9