一种半导体废气处理四方后段冷却装置及冷却方法与流程

技术特征：
1.一种半导体废气处理四方后段冷却装置，其特征在于：包括中空方管(7)，所述中空方管(7)的内端中部处安装有横杆(34)，且横杆(34)的中部处安装有调节电机组件，该调节电机组件上设有固定架组件，并在固定架组件上设有与调节电机组件相互配合的调节螺杆组件，所述调节螺杆组件的外侧套设有调节气囊盘组件，所述中空方管(7)的顶部开设有顶通口(8)，所述中空方管(7)的顶部设有与顶通口(8)连通的蒸汽导流发电罩组件，所述中空方管(7)的底端部处安装有液体导出管(11)，所述液体导出管(11)的内侧插入有集液板组件，所述中空方管(7)的底部设有调节集液板组件的调节盘组件，所述中空方管(7)的另一端连通有过滤仓(14)，所述过滤仓(14)的顶中部处设有螺杆升降组件，所述过滤仓(14)的顶部两侧设有滑轨(19)，所述滑轨(19)的外侧与所述螺杆升降组件之间设有可在过滤仓(14)内折叠滑动的过滤降温板组件。2.根据权利要求1所述的一种半导体废气处理四方后段冷却装置，其特征在于：固定架组件包括中固定板(27)和l型侧架(25)，所述横杆(34)的中部处安装有中固定板(27)，所述中固定板(27)的外侧等间距安装有l型侧架(25)，且所述l型侧架(25)和中固定板(27)一体成型，所述中固定板(27)上设有调节电机组件。3.根据权利要求2所述的一种半导体废气处理四方后段冷却装置，其特征在于：调节电机组件包括主动锥齿轮(29)和旋转电机(26)，所述中固定板(27)的外侧中部处安装有旋转电机(26)，所述旋转电机(26)贯穿所述中固定板(27)安装有主动锥齿轮(29)，所述主动锥齿轮(29)与所述调节螺杆组件相互配合。4.根据权利要求3所述的一种半导体废气处理四方后段冷却装置，其特征在于：调节螺杆组件包括从动锥齿轮(28)、调节螺杆(23)和限位滑杆(24)，所述l型侧架(25)的中部处贯穿设有调节螺杆(23)，所述调节螺杆(23)与所述l型侧架(25)之间通过轴承连接，所述l型侧架(25)的外侧安装有限位滑杆(24)，所述调节螺杆(23)的内端部安装有从动锥齿轮(28)，所述从动锥齿轮(28)与所述主动锥齿轮(29)相互啮合。5.根据权利要求4所述的一种半导体废气处理四方后段冷却装置，其特征在于：调节气囊盘组件包括连接罩(4)、端环(5)、柔性橡胶连接件(21)、气囊(6)和气泵，所述调节螺杆(23)和限位滑杆(24)的外侧套设有连接罩(4)，所述连接罩(4)的外侧边部处一体成型有端环(5)，所述端环(5)的内侧端部处设有气囊(6)，不同组的连接罩(4)和端环(5)之间通过柔性橡胶连接件(21)连接，所述气囊(6)连通有气泵。6.根据权利要求5所述的一种半导体废气处理四方后段冷却装置，其特征在于：蒸汽导流发电罩组件包括顶降温板(2)、顶盖(1)、风扇(3)和隔板(17)，所述中空方管(7)的顶部安装有与顶通口(8)连通的顶盖(1)，所述顶盖(1)的内中部处安装有隔板(17)，所述顶盖(1)的底部一端处设有风扇(3)，且风扇(3)的顶中部处安装有发电机，所述顶盖(1)的内中部处设有顶降温板(2)。7.根据权利要求6所述的一种半导体废气处理四方后段冷却装置，其特征在于：所述集液板组件包括推拉网板(12)、单向阀(31)、复位弹簧(22)、调节弹簧(33)和环型架(32)，所述液体导出管(11)的顶侧部插入有推拉网板(12)，所述推拉网板(12)的顶部等间距开设有复位弹簧(22)，所述复位弹簧(22)的内顶部处安装有环型架(32)，所述环型架(32)的底部安装有调节弹簧(33)，所述调节弹簧(33)的底部安装有单向阀(31)，且单向阀(31)塞入至复位弹簧(22)的内部。
8.根据权利要求7所述的一种半导体废气处理四方后段冷却装置，其特征在于：调节盘组件包括调节电机(13)、转盘(9)和铰接杆(10)，所述中空方管(7)的底端部处安装有调节电机(13)，所述调节电机(13)的输出端安装有转盘(9)，所述转盘(9)的底边部处铰接有铰接杆(10)，所述铰接杆(10)的另一端与所述推拉网板(12)侧中部处铰接。9.根据权利要求8所述的一种半导体废气处理四方后段冷却装置，其特征在于：螺杆升降组件包括升降电机(15)、螺杆(20)和升降滑块(18)，所述过滤仓(14)的顶中部处安装有升降电机(15)，所述升降电机(15)的输出端贯穿过滤仓(14)安装有螺杆(20)，所述螺杆(20)的外侧啮合有升降滑块(18)，所述升降滑块(18)与滑轨(19)之间铰接有过滤降温板组件；过滤降温板组件包括降温过滤网(16)和调节滑块(30)，所述滑轨(19)的外侧两端处套设有调节滑块(30)，且调节滑块(30)的顶部铰接有降温过滤网(16)，所述降温过滤网(16)的另一端与升降滑块(18)的外侧铰接。10.根据权利要求9所述的一种半导体废气处理四方后段冷却装置的冷却方法，其特征在于：包括如下步骤：步骤1：依据需要连接的管道，启动旋转电机(26)带动主动锥齿轮(29)转动；步骤2：通过主动锥齿轮(29)调节从动锥齿轮(28)的转动，使其从动锥齿轮(28)调节调节螺杆(23)旋转并调节连接罩(4)的扩展或收缩；步骤3：使其连接罩(4)、端环(5)和气囊(6)套在管道的端部上然后启动气泵使其气囊(6)膨胀进而连接管道；步骤4：高温过滤后的气体通过中空方管(7)，因为是高温气体进而会上流至顶盖(1)内，并带动风扇(3)旋转进行发电；步骤5：通过顶降温板(2)进行降温处理后液体和低温气体回流至中空方管(7)内，然后液体落入至推拉网板(12)进行聚集；步骤6：对于温度比较低的气体则直接通过中空方管(7)进而出现顶盖(1)与中空方管(7)的组合将不同温度的气体进行分流的结构；步骤7：水聚集在推拉网板(12)在压力下打开单向阀(31)流出然后通过调节弹簧(33)复位；步骤8：依据需要进行降温处理的气体需求可启动升降电机(15)调节螺杆(20)转动，进而带动升降滑块(18)运动调节降温过滤网(16)的角度对气体进行不同的温度过滤冷却，低温气体可通过中空方管(7)和过滤仓(14)的内底部流出。

技术总结
本发明公开了一种半导体废气处理四方后段冷却装置及冷却方法，属于半导体废气冷却装置技术领域，因为是高温气体进而会上流至顶盖内，并带动风扇旋转进行发电，通过顶降温板进行降温处理后液体和低温气体回流至中空方管内，然后液体落入至推拉网板进行聚集，对于温度比较低的气体则直接通过中空方管进而出现顶盖与中空方管的组合将不同温度的气体进行分流的结构，水聚集在推拉网板在压力下打开单向阀流出然后通过调节弹簧复位，依据需要进行降温处理的气体需求可启动升降电机调节螺杆转动，进而带动升降滑块运动调节降温过滤网的角度对气体进行不同的温度过滤冷却，低温气体可通过中空方管和过滤仓的内底部流出。可通过中空方管和过滤仓的内底部流出。可通过中空方管和过滤仓的内底部流出。


技术研发人员：崔汉宽 崔汉博
受保护的技术使用者：崔汉宽
技术研发日：2022.03.11
技术公布日：2022/7/12