显示系统的制作方法

技术特征：
1.一种显示系统，其特征在于，所述显示系统包括图像生成单元、扩散屏、曲面镜，其中，所述图像生成单元，用于生成实像并成像至所述扩散屏；所述扩散屏，用于对所述实像进行漫反射；所述曲面镜，用于根据所述经过漫反射后的实像进行成像，生成放大的虚像。2.如权利要求1所述的显示系统，其特征在于，所述图像生成单元包括光源、棱镜、透镜、成像芯片和投影镜头，其中，所述光源用于输出光束；所述棱镜用于对所述光源输出的光束进行合束；所述透镜用于将所述合束后的光束进行准直后入射所述成像芯片；所述成像芯片用于生成所述实像；所述投影镜头用于将所述实像成像至所述扩散屏。3.如权利要求2所述的显示系统，其特征在于，所述图像生成单元包括第一衍射光学元件，所述衍射光学元件位于所述光源与所述棱镜之间，所述衍射光学元件用于对所述光源输出的光束进行分束。4.如权利要求2所述的显示系统，其特征在于，所述显示系统还包括第二衍射光学元件，所述衍射光学元件位于所述曲面镜之后，所述衍射光学元件用于对所述经过曲面镜反射的光束进行分束。5.如权利要求1至4任一所述的显示系统，其特征在于，所述显示系统还包括偏振膜，所述偏振膜放置于所述扩散屏后，所述偏振膜用于滤除干扰光。6.如权利要求1至5任一所述的显示系统，其特征在于，所述显示系统还包括菲涅尔透镜，所述菲涅尔透镜放置于所述扩散屏后，所述菲涅尔透镜用于对经过所述扩散屏的实像放大。7.如权利要求1至6任一所述的显示系统，其特征在于，所述显示系统还包括黑白光栅、柱透镜阵列或微透镜阵列，所述黑白光栅、柱透镜阵列或微透镜阵列位于所述扩散屏后。8.如权利要求2至7任一所述的显示系统，其特征在于，所述图像生成单元还包括偏振处理元件，所述偏振处理元件用于调节所述入射到成像芯片的光束的偏振态。9.如权利要求1至8任一所述的显示系统，其特征在于，所述显示系统还包括反射镜，所述反射镜用于接收所述曲面镜成像的光束并反射回所述曲面镜，所述曲面镜还用于接收所述反射镜反射回来的光束进行放大成像。10.如权利要求1至8任一所述的显示系统，其特征在于，所述光源包括多个基色子光源。11.如权利要求9所述的显示系统，其特征在于，所述第一衍射光学元件包括多个子光学元件，分别放置于所述多个基色子光源前。12.如权利要求1至10所述的显示系统，其特征在于，所述扩散屏为反射型扩散屏或投射型扩散屏。13.如权利要求8所述的显示系统，其特征在于，所述偏振处理元件是如下元件的任意一种：偏振分波器pbs、四分之一波片、二分之一波片、偏振片和旋光片。14.如权利要求1至13所述的显示系统，其特征在于，所述曲面镜为多焦点曲面镜。
15.如权利要求1至13任一所述的显示系统，其特征在于，所述显示系统还包括扩散膜，所述扩散膜位于所述扩散屏的出光侧，用于扩大所述漫反射后的实像的横向散射角。16.如权利要求1至13任一所述的显示系统，其特征在于，所述显示系统还包括柱透镜阵列，所述柱透镜阵列设置于所述扩散屏的出光侧，覆盖所述扩散屏的像素。17.如权利要求16所述的显示系统，其特征在于，所述柱透镜阵列中的至少一个柱透镜覆盖所述扩散屏的至少2列像素。18.如权利要求17所述的显示系统，其特征在于，所述柱透镜阵列中的至少一个柱透镜覆盖所述扩散屏的3列像素。19.如权利要求17所述的显示系统，其特征在于，所述柱透镜阵列中的至少一个柱透镜覆盖的多个像素列分别显示不同的画面。20.如权利要求17所述的显示系统，其特征在于，所述柱透镜阵列中的至少一个柱透镜覆盖的多个像素列显示相同的画面。21.如权利要求16所述的显示系统，其特征在于，还包括全息元件或扩散元件，所述全息元件或扩散元件位于所述柱透镜阵列的出光侧。22.如权利要求1至13任一所述的显示系统，其特征在于，所述显示系统还包括第一反射元件，所述第一反射元件位于所述图像生成单元和所述扩散屏之间的光路上，所述第一反射元件用于将所述图像生成单元生成的实像反射至所述扩散屏。23.如权利要求1至13任一所述的显示系统，其特征在于，所述显示系统还包括第二反射元件，所述第二反射元件位于所述曲面镜和所述扩散屏之间的光路上，所述第二反射元件用于将所述扩散屏漫反射的实像反射至所述曲面镜。24.如权利要求22任一所述的显示系统，其特征在于，所述第一反射元件为平面镜、球面镜或自由曲面镜之一。25.如权利要求23任一所述的显示系统，其特征在于，所述第二反射元件为平面镜、球面镜或自由曲面镜之一。

技术总结
本申请涉及一种显示系统，该显示系统包括图像生成单元、扩散屏、曲面镜，其中，所述图像生成单元，用于生成实像并成像至所述扩散屏；所述扩散屏，用于对所述实像进行漫反射；所述曲面镜，用于根据所述经过漫反射后的实像进行成像，生成放大的虚像。生成放大的虚像。生成放大的虚像。


技术研发人员：毛磊 李肖 黄志勇 李仕茂 秦振韬
受保护的技术使用者：华为技术有限公司
技术研发日：2021.08.05
技术公布日：2022/7/1