连续真空镀膜系统及其功能单元和运行方法与流程

1.本发明涉及镀覆技术领域，具体地，涉及连续真空镀膜系统及其功能单元和运行方法。


背景技术：

2.为了提高工件(例如燃料电池的金属双极板)的耐腐蚀性能，可以利用真空镀膜的方式在工件的表面镀覆薄膜或涂层。真空镀膜是一种生成薄膜材料的技术，在真空室内镀膜材料的原子或分子从表面离析出来打到被镀物体的表面上。真空镀膜一般是指用物理的方法沉积薄膜，主要有蒸发镀膜、离子镀和溅射镀膜。


技术实现要素：

3.本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本发明的实施例提出一种连续真空镀膜系统及其功能单元和运行方法。
4.根据本发明实施例的连续真空镀膜系统包括：上料室和下料室；以及多个功能单元，每个功能单元包括依次相连的第一过渡室、功能室和第二过渡室，所述上料室、多个所述功能单元和所述下料室依次相连，其中所述上料室和相邻的所述功能单元的所述第一过渡室相连，所述下料室和相邻的所述功能单元的所述第二过渡室相连，相邻两个所述功能单元中的一者的所述第二过渡室和相邻两个所述功能单元中的另一者的所述第一过渡室相连。
5.根据本发明实施例的连续真空镀膜系统具有处理效率和处理量高、处理效果好、制造成本和制造难度低、运行成本低的优点。
6.可选地，多个所述功能单元包括：清洗单元，所述清洗单元包括依次相连的第一过渡室、清洗室和第二过渡室，所述清洗单元的所述第一过渡室和所述上料室相连；第一镀膜单元，所述第一镀膜单元包括依次相连的第一过渡室、第一镀膜室和第二过渡室，所述第一镀膜单元的所述第一过渡室和所述清洗单元的所述第二过渡室相连；和第二镀膜单元，所述第二镀膜单元包括依次相连的第一过渡室、第二镀膜室和第二过渡室，所述第二镀膜单元的所述第一过渡室和所述第一镀膜单元的所述第二过渡室相连，所述第二镀膜单元的所述第二过渡室和所述下料室相连。
7.可选地，所述第一镀膜室内设有第一靶材，所述第二镀膜室内设有第二靶材，所述第一靶材和所述第二靶材中的每一者的数量小于等于第一预设值，可选地，所述第一镀膜室内设有两个所述第一靶材，两个所述第一靶材在所述第一镀膜室的宽度方向上相对设置，所述第二镀膜室内设有两个所述第二靶材，两个所述第二靶材在所述第二镀膜室的宽度方向上相对设置。
8.可选地，所述第一镀膜室为磁控溅射镀膜室，所述第二镀膜室为磁控溅射镀膜室或电弧离子镀膜室。
9.可选地，所述连续真空镀膜系统进一步包括冷却室，所述冷却室设在所述第二镀
膜单元的所述第二过渡室与所述下料室之间，所述冷却室与所述第二镀膜单元的所述第二过渡室和所述下料室中的每一者相连。
10.可选地，所述上料室和相邻的所述功能单元的所述第一过渡室可拆卸地相连；和/或所述下料室和相邻的所述功能单元的所述第二过渡室可拆卸地相连；和/或相邻两个所述功能单元中的一者的所述第二过渡室和相邻两个所述功能单元中的另一者的所述第一过渡室可拆卸地相连。
11.可选地，所述功能室与所述第一过渡室和所述第二过渡室中的每一者可拆卸地相连。
12.可选地，所述上料室、所述下料室和所述功能单元中的每一者沿预设方向可移动地设置。
13.可选地，所述第一过渡室的宽度小于所述上料室、所述下料室和所述功能室中的至少一者的宽度；和/或所述第二过渡室的宽度小于所述上料室、所述下料室和所述功能室中的至少一者的宽度。
14.根据本发明实施例的用于连续真空镀膜系统的功能单元包括依次相连的第一过渡室、功能室和第二过渡室，所述功能室为清洗室或镀膜室。
15.通过利用根据本发明实施例的功能单元，可以提高连续真空镀膜系统的处理效率、处理量和处理效果，降低连续真空镀膜系统的制造成本、制造难度低和运行成本低。
16.可选地，所述镀膜室为磁控溅射镀膜室或电弧离子镀膜室，所述镀膜室内设有靶材，所述靶材的数量小于等于第一预设值，可选地，所述镀膜室内设有两个所述靶材，两个所述靶材在所述镀膜室的宽度方向上相对设置。
17.可选地，所述功能室与所述第一过渡室和所述第二过渡室中的每一者可拆卸地相连，所述功能室、所述第一过渡室和所述第二过渡室中的每一者沿预设方向可移动地设置。
18.可选地，所述第一过渡室的宽度小于所述功能室的宽度，和/或所述第二过渡室的宽度小于所述功能室的宽度。
19.根据本发明实施例的连续真空镀膜系统的运行方法，包括以下步骤：
20.工件通过进料室进入到功能单元内；
21.在所述功能单元内对工件进行处理，在至少一个所述功能单元内对所述工件进行多次处理，其中对所述工件进行一次处理后，先使所述工件进入到相应的第一过渡室或第二过渡室内，然后使所述工件再次进入到相应的功能室内以便进行再次处理；和
22.处理完毕后的工件通过出料室输出。
23.通过利用根据本发明实施例的连续真空镀膜系统的运行方法，可以提高连续真空镀膜系统的处理效率、处理量和处理效果，降低连续真空镀膜系统的运行成本低。
附图说明
24.图1是根据本发明实施例的连续真空镀膜系统的结构示意图。
25.图2是根据本发明实施例的连续真空镀膜系统的功能单元的结构示意图。
具体实施方式
26.下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出。下面通过参考
附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
27.如图1和图2所示，根据本发明实施例的连续真空镀膜系统100包括上料室2、下料室3和多个功能单元1。每个功能单元1包括依次相连的第一过渡室11、功能室12和第二过渡室13，即功能室12位于第一过渡室11与第二过渡室13之间。上料室2、多个功能单元1和下料室3依次相连，即上料室2、功能单元1、......、功能单元1和下料室3依次排列。
28.上料室2和相邻的功能单元1的第一过渡室11相连，下料室3和相邻的功能单元1的第二过渡室13相连。换言之，上料室2和多个功能单元1中的与其相邻的一者的第一过渡室11相连，下料室3和多个功能单元1中的与其相邻的一者的第二过渡室13相连。相邻两个功能单元1中的一者的第二过渡室13和相邻两个功能单元1中的另一者的第一过渡室11相连，即相邻两个功能单元1的功能室12之间存在至少两个过渡室。
29.来自上料室2或前一个(上游)功能单元1的工件进入到本功能单元1的第一过渡室11内，进而进入到功能室12内以便进行相应的处理。如果只需对工件进行一次处理，则处理后的工件可以进入到本功能单元1的第二过渡室13内，进而进入到后一个(下游)功能单元1或下料室3内。
30.如果需要对工件进行多次处理，则经过一次处理后的工件可以先进入到第二过渡室13内，再回到功能室12内以便对工件进行再次处理。如此反复，直至完成工件在该功能单元1的全部处理。由于对工件进行多次处理只需要占用功能室12和第二过渡室13，因此在对工件进行多次处理的同时，上料室2或前一个功能单元1的工件可以进入到本功能单元1的第一过渡室11内。由此可以避免工件留滞在上料室2或前一个功能单元1内，从而不会影响后续工件上料、也不会影响前一个功能单元1处理后续工件。
31.如果没有后续工件进入到本功能单元1的第一过渡室11内，工件也可以从功能室12回到第一过渡室11内，进而再次进入到功能室12内以便对工件进行再次处理。
32.根据本发明实施例的连续真空镀膜系统100通过使每个功能单元1包括功能室12以及位于功能室12两侧的第一过渡室11和第二过渡室13，从而能够在不影响后续工件进入该功能单元1的情况下、实现对工件进行多次处理。由此不仅可以提高连续真空镀膜系统100的处理效率和处理量，而且可以提高工件的处理效果。
33.相关技术中为了对工件进行多次处理，需要在功能室内设置多个处理装置，每个处理装置对工件进行一次处理。由于工件能够在本技术的功能室12与第二过渡室13(第一过渡室11)之间往返移动(来回移动)，因此只需要在功能室12内设置较少数量、甚至一个处理装置，就可以对工件进行多次处理。由此不仅可以简化功能单元1和连续真空镀膜系统100的结构、降低功能单元1和连续真空镀膜系统100的制造成本和制造难度，而且可以减小功能单元1和连续真空镀膜系统100占用的空间，降低维持功能单元1的真空度的成本。
34.此外，当功能单元1、下料室3因发生故障等原因而暂时无法使用时，可以将进行完相应处理的工件暂存在前一个功能单元1的第二过渡室13内。此时，前一个功能单元1可以利用其第一过渡室11和功能室12对后续工件进行处理，从而避免因功能单元1、下料室3暂时无法使用而导致整个连续真空镀膜系统100停止运行，以便进一步提高连续真空镀膜系统100的处理效率和处理量。
35.因此，根据本发明实施例的连续真空镀膜系统100具有处理效率和处理量高、处理效果好、制造成本和制造难度低、运行成本低等优点。
36.如图1和图2所示，根据本发明实施例的连续真空镀膜系统100包括上料室2、下料室3和多个功能单元1。多个功能单元1可以包括清洗单元1a、第一镀膜单元1b和第二镀膜单元1c。可以利用较大功率的真空发生装置对上料室2和下料室3抽真空，以便使上料室2和下料室3的真空度快速达到要求。
37.可选地，上料室2、多个功能单元1和下料室3沿预设方向依次相连。例如，上料室2、清洗单元1a、第一镀膜单元1b、第二镀膜单元1c和下料室3沿预设方向依次相连。
38.如图1所示，清洗单元1a包括依次相连的第一过渡室11a、清洗室12a和第二过渡室13a，清洗单元1a的第一过渡室11a和上料室2相连。可选地，清洗单元1a的第一过渡室11a和上料室2之间设有隔离密封门或隔离阀。
39.第一镀膜单元1b包括依次相连的第一过渡室11b、第一镀膜室12b和第二过渡室13b，第一镀膜单元1b的第一过渡室11b和清洗单元1a的第二过渡室13a相连。可选地，第一镀膜单元1b的第一过渡室11b和清洗单元1a的第二过渡室13a之间设有隔离密封门或隔离阀。
40.第二镀膜单元1c包括依次相连的第一过渡室11c、第二镀膜室12c和第二过渡室13c，第二镀膜单元1c的第一过渡室11c和第一镀膜单元1b的第二过渡室13b相连，第二镀膜单元1c的第二过渡室13c和下料室3相连。可选地，第二镀膜单元1c的第一过渡室11c与第一镀膜单元1b的第二过渡室13b之间设有隔离密封门或隔离阀，第二镀膜单元1c的第二过渡室13c和下料室3之间设有隔离密封门或隔离阀。
41.可选地，第一镀膜室12b可以是磁控溅射镀膜室，第二镀膜室12c可以是磁控溅射镀膜室或电弧离子镀膜室。
42.当利用磁控溅射法沉积碳层时，存在涂层生长速率低、产能小、膜层致密度低、与基材结合差的缺陷。而且，由于磁控溅射法是利用辉光放电的等离子体进行靶材的轰击，辉光放电的等离子体能量密度相对较低，对于石墨等高熔点材料，靶材离化率相对较低，从而导致涂层内部原子成键能力的降低，涂层内部缺陷相对较多。
43.如果利用磁控溅射法在燃料电池的金属双极板上沉积碳层(非晶碳涂层)，则该碳层在燃料电池工况条件下的耐腐蚀性能较差。燃料电池使用一段时间后，其金属双极板的该碳层的缺陷处会出现点状腐蚀，导致金属离子析出，进而引起燃料电池的膜电极的性能降低。
44.与磁控溅射法相比，利用电弧离子镀制备的涂层具有沉积速率高、膜层致密度高、与基材结合力好、耐腐蚀性能更优等优点。在燃料电池的金属双极板的工作环境下(80℃，ph＝3)，即使高电位(1.2v vs.she)情况下，依然能起到很好的防护效果。由于电弧离子镀技术沉积速率高，可大幅度地提升生产效率、快速地降低涂层的生产成本，有利于燃料电池的大规模产业化推广。
45.可选地，第一过渡室11a、第二过渡室13a、第一过渡室11b、第二过渡室13b、第一过渡室11c和第二过渡室13c中的每一者的宽度可以小于上料室2、清洗室12a、第一镀膜室12b、第二镀膜室12c和下料室3中的至少一者的宽度。工件可以沿第一过渡室11a、第二过渡室13a、第一过渡室11b、第二过渡室13b、第一过渡室11c和第二过渡室13c中的每一者的长度方向(例如该预设方向)移动。第一过渡室11a、第二过渡室13a、第一过渡室11b、第二过渡室13b、第一过渡室11c和第二过渡室13c中的每一者的宽度方向可以垂直于竖直方向和它
们的长度方向。
46.由此可以减小第一过渡室11a、第二过渡室13a、第一过渡室11b、第二过渡室13b、第一过渡室11c和第二过渡室13c中的每一者的空间，从而只需利用较小功率的真空发生装置(例如真空泵)，就可以维持第一过渡室11a、第二过渡室13a、第一过渡室11b、第二过渡室13b、第一过渡室11c和第二过渡室13c中的每一者的真空度，以便进一步降低连续真空镀膜系统100的制造成本和运行成本。
47.可选地，上料室2、第一过渡室11a、清洗室12a、第二过渡室13a、第一过渡室11b、第一镀膜室12b、第二过渡室13b、第一过渡室11c、第二镀膜室12c、第二过渡室13c和下料室3沿预设方向依次相连。例如，该预设方向可以是水平方向。
48.下面参考图1和图2详细描述连续真空镀膜系统100的工作过程。
49.首先，打开上料室2的进料门以便使待处理工件进入到上料室2内。关闭上料室2的进料门，关闭上料室2与清洗单元1a的第一过渡室11a之间的隔离密封门或隔离阀，然后对上料室2进行抽真空。可选地，利用较大功率(例如功率大于等于第二预设值)的真空发生装置41对上料室2进行抽真空，以便使上料室2的真空度快速达到要求，随后可以利用较小功率(例如功率小于等于第三预设值)的真空发生装置42维持上料室2的真空度。
50.待上料室2内的真空度达到要求后，打开上料室2与清洗单元1a的第一过渡室11a之间的隔离密封门或隔离阀，以便使工件进入到清洗单元1a的第一过渡室11a内，随后关闭上料室2与清洗单元1a的第一过渡室11a之间的隔离密封门或隔离阀、以及关闭清洗单元1a的第二过渡室13a和第一镀膜单元1b的第一过渡室11b之间的隔离密封门或隔离阀。恢复上料室2的气压，然后打开上料室2的进料门以便使下一批待处理工件进入到上料室2内。
51.清洗单元1a的第一过渡室11a内的工件进入到清洗室12a内，在清洗室12a内可以对工件进行清洗，以便去除工件表面的残留杂质、氧化层等。其中，该工件可以是燃料电池的金属双极板。当清洗单元1a内存在工件时(尤其是对清洗室12a内的工件进行清洗时)，利用较小功率(例如功率小于等于第三预设值)的真空发生装置43维持清洗单元1a的真空度。可选地，该第三预设值小于该第二预设值。真空发生装置43可以是两个，一个真空发生装置43与第一过渡室11a相连，另一个真空发生装置43与第二过渡室13a相连。
52.经过清洗后的工件可以进入到清洗单元1a的第二过渡室13a内。如果对工件的清洗未达到要求，还可以使第二过渡室13a内的工件回到清洗室12a内以便对工件进行再次清洗。再次清洗后的工件还可以回到第二过渡室13a内，如此重复，直至对工件的清洗达到要求。
53.由于可以对工件进行多次清洗，因此可以极大地减少清洗室12a内的清洗装置的数量。由此不仅可以进一步降低清洗单元1a和连续真空镀膜系统100的制造难度和制造成本，而且可以减小清洗室12a的空间，只需利用较小功率的真空发生装置就可以维持清洗室12a的真空度，以便进一步降低连续真空镀膜系统100的制造成本和运行成本。
54.而且，对工件的清洗无需占用清洗单元1a的第一过渡室11a，因此清洗工件不影响上料室2内的工件进入到清洗单元1a的第一过渡室11a内，也不影响后续待处理工件进入到上料室2内。
55.工件清洗完毕后，打开清洗单元1a的第二过渡室13a和第一镀膜单元1b的第一过渡室11b之间的隔离密封门或隔离阀，以便使工件进入到第一镀膜单元1b的第一过渡室11b
内，随后关闭第二过渡室13a和第一过渡室11b之间的隔离密封门或隔离阀、以及关闭第一镀膜单元1b的第二过渡室13b和第二镀膜单元1c的第一过渡室11c之间的隔离密封门或隔离阀。
56.第一镀膜单元1b的第一过渡室11b内的工件进入到第一镀膜室12b内，在第一镀膜室12b内可以对工件进行镀膜(例如打底)。其中，当第一镀膜单元1b内存在工件时(尤其是对第一镀膜室12b内的工件进行镀膜时)，利用较小功率(例如功率小于等于第三预设值)的真空发生装置44维持第一镀膜单元1b的真空度。真空发生装置44可以是两个，一个真空发生装置44与第一过渡室11b相连，另一个真空发生装置44与第二过渡室13b相连。
57.经过第一次镀膜后的工件可以进入到第一镀膜单元1b的第二过渡室13b内。第二过渡室13b内的工件可以回到第一镀膜室12b内以便对工件进行再次镀膜。再次镀膜后的工件还可以回到第二过渡室13b内，如此重复，直至镀膜完毕。对工件的镀膜无需占用第一镀膜单元1b的第一过渡室11b，因此不影响清洗单元1a内的工件进入到第一镀膜单元1b的第一过渡室11a内。
58.而且，通过对工件进行多次镀膜，可以极大地减小每次镀膜的膜层厚度，从而可以有效地降低膜层的内应力，以便进一步提高膜层的耐腐蚀性。
59.可选地，第一镀膜室12b内设有第一靶材，第一靶材的数量小于等于第一预设值。例如，第一镀膜室12b内设有两个第一靶材，两个该第一靶材在第一镀膜室12b的宽度方向上相对设置。由此工件可以从两个该第一靶材之间通过，以便同时对工件的两个相对的表面进行镀膜。
60.相关技术中的镀膜室内的靶材沿工件的移动方向排列，工件依次经过多个靶材，以便对工件进行多次镀膜。
61.由于可以对工件进行多次镀膜，因此可以极大地减少第一镀膜室12b内的第一靶材的数量，使第一靶材的数量小于等于第一预设值。由此不仅可以极大地减少用于安装第一靶材的装置的数量，以便进一步降低第一镀膜单元1b和连续真空镀膜系统100的制造难度和制造成本，而且可以减小第一镀膜室12b的空间，只需利用较小功率的真空发生装置就可以维持第一镀膜室12b的真空度，以便进一步降低连续真空镀膜系统100的制造成本和运行成本。
62.工件在第一镀膜单元1b内镀膜(例如打底)完毕后，打开第一镀膜单元1b的第二过渡室13b和第二镀膜单元1c的第一过渡室11c之间的隔离密封门或隔离阀，以便使工件进入到第二镀膜单元1c的第一过渡室11c内，随后关闭第二过渡室13b和第一过渡室11c之间的隔离密封门或隔离阀、以及关闭第二镀膜单元1c的第二过渡室13c和下料室3之间的隔离密封门或隔离阀。
63.第二镀膜单元1c的第一过渡室11c内的工件进入到第二镀膜室12c内，在第二镀膜室12c内可以对工件进行镀膜。其中，当第二镀膜单元1c内存在工件时(尤其是对第二镀膜室12c内的工件进行镀膜时)，利用较小功率(例如功率小于等于第三预设值)的真空发生装置45维持第二镀膜单元1c的真空度。真空发生装置45可以是两个，一个真空发生装置45与第一过渡室11c相连，另一个真空发生装置45与第二过渡室13c相连。
64.经过第一次镀膜后的工件可以进入到第二镀膜单元1c的第二过渡室13c内。第二过渡室13c内的工件可以回到第二镀膜单元1c内以便对工件进行再次镀膜。再次镀膜后的
工件还可以回到第二过渡室13c内，如此重复，直至镀膜完毕。对工件的镀膜无需占用第二镀膜单元1c的第一过渡室11c，因此不影响第一镀膜单元1b内的工件进入到第二镀膜单元1c的第一过渡室11c内。
65.而且，通过对工件进行多次镀膜，可以极大地减小每次镀膜的膜层厚度，从而可以有效地降低膜层的内应力，以便进一步提高膜层的耐腐蚀性。
66.可选地，第二镀膜室12c内设有第二靶材，第二靶材的数量小于等于第一预设值。例如，第二镀膜室12c内设有两个第二靶材，两个该第二靶材在第二镀膜室12c的宽度方向上相对设置。由此工件可以从两个该第二靶材之间通过，以便同时对工件的两个相对的表面进行镀膜。
67.由于可以对工件进行多次镀膜，因此可以极大地减少第二镀膜室12c内的第二靶材的数量，使第二靶材的数量小于等于第一预设值。由此不仅可以极大地减少用于安装第二靶材的装置的数量，以便进一步降低第二镀膜单元1c和连续真空镀膜系统100的制造难度和制造成本，而且可以减小第二镀膜室12c的空间，只需利用较小功率的真空发生装置就可以维持第二镀膜室12c的真空度，以便进一步降低连续真空镀膜系统100的制造成本和运行成本。
68.工件在第二镀膜单元1c内镀膜完毕后，打开第二镀膜单元1c的第二过渡室13c和下料室3之间的隔离密封门或隔离阀，以便使工件进入到下料室3内，随后关闭第二镀膜单元1c的第二过渡室13c和下料室3之间的隔离密封门或隔离阀。恢复下料室3的气压，然后打开下料室3的出料门以便使处理后的工件离开下料室3。
69.然后，关闭下料室3的出料门且对下料室3进行抽真空，使下料室3内的真空度达到要求，以便使下料室3处于能够接收工件的状态。可选地，利用较大功率(例如功率大于等于第二预设值)的真空发生装置46对下料室3进行抽真空，以便使下料室3的真空度快速达到要求，随后可以利用较小功率(例如功率小于等于第三预设值)的真空发生装置47维持下料室3的真空度。
70.在本发明的一些实施例中，上料室2和相邻的功能单元1的第一过渡室11可拆卸地相连，相邻两个功能单元1中的一者的第二过渡室13和相邻两个功能单元1中的另一者的第一过渡室11可拆卸地相连，下料室3和相邻的功能单元1的第二过渡室13可拆卸地相连。由此可以根据需要对上料室2、功能单元1和下料室3中的至少一者进行更换，从而可以使连续真空镀膜系统100能够对不同的工件进行不同的处理，以便扩大连续真空镀膜系统100的应用范围。
71.例如，上料室2、清洗单元1a、第一镀膜单元1b、第二镀膜单元1c和下料室3依次可拆卸地相连。
72.可选地，功能室12与第一过渡室11和第二过渡室13中的每一者可拆卸地相连。由此可以根据需要对功能室12进行更换，从而可以在减少更换操作工作量的情况下，使连续真空镀膜系统100能够对不同的工件进行不同的处理，以便扩大连续真空镀膜系统100的应用范围。
73.在本发明的一个具体实施例中，上料室2、第一过渡室11a、清洗室12a、第二过渡室13a、第一过渡室11b、第一镀膜室12b、第二过渡室13b、第一过渡室11c、第二镀膜室12c、第二过渡室13c和下料室3依次可拆卸地相连。由此可以根据需要对相应的部分进行更换，从
而可以增加连续真空镀膜系统100的使用灵活性。
74.上料室2、下料室3和功能单元1中的每一者沿预设方向可移动地设置。由此可以根据需要达到的产量，更换相应尺寸的上料室2、下料室3和功能单元1，并通过沿预设方向移动未更换部分来匹配新更换的部分。
75.可选地，上料室2、第一过渡室11a、清洗室12a、第二过渡室13a、第一过渡室11b、第一镀膜室12b、第二过渡室13b、第一过渡室11c、第二镀膜室12c、第二过渡室13c和下料室3中的每一者沿预设方向可移动地设置。由此可以更好地、更加容易地匹配新更换的部分。
76.在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
77.此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
78.在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接或彼此可通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
79.在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
80.在本发明中，术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
81.尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。