反向倾斜镀膜装置的制作方法

技术特征：
1.一种反向倾斜镀膜装置，其特征在于，所述反向倾斜镀膜装置包括依次连通的第一隔离室、第一过渡室、第一镀膜室、第二镀膜室、第二过渡室以及第二隔离室，所述第一镀膜室和所述第二镀膜室均设置在底架上并与竖直方向形成3-7
°
的夹角，设置在所述第一镀膜室和第二镀膜室内的基片架与竖直方向形成3-7
°
的夹角，所述第一过渡室和所述第二过渡室靠近底架一侧设有溅射阴极。2.根据权利要求1所述的反向倾斜镀膜装置，其特征在于，所述基片架包括架本体，所述架本体远离所述底架一侧形成有放置腔，所述架本体靠近所述底架一侧形成有与所述放置腔连通的溅镀腔，所述溅镀腔面对所述溅射阴极。3.根据权利要求2所述的反向倾斜镀膜装置，其特征在于，所述架本体的顶部和底部设置有凸出板，基片的两端抵靠在两个所述凸出板上。4.根据权利要求3所述的反向倾斜镀膜装置，其特征在于，所述溅镀腔与所述放置腔之间形成有投影位于所述基片上的溅镀孔。5.根据权利要求4所述的反向倾斜镀膜装置，其特征在于，所述第一镀膜室和所述第二镀膜室的顶部均设有磁导向，所述基片架的顶端与所述磁导向非接触连接。6.根据权利要求5所述的反向倾斜镀膜装置，其特征在于，所述第一镀膜室和所述第二镀膜室的底部均设有传动轮，所述基片架的底部滑动设置在所述传动轮上。

技术总结
本实用新型公开一种反向倾斜镀膜装置，其包括依次连通的第一隔离室、第一过渡室、第一镀膜室、第二镀膜室、第二过渡室以及第二隔离室，所述第一镀膜室和所述第二镀膜室均设置在底架上并与竖直方向形成3-7


技术研发人员：祝海生 刘柏桢 孙桂红 黄乐 潘继峰
受保护的技术使用者：湘潭宏大真空技术股份有限公司
技术研发日：2021.12.31
技术公布日：2022/6/24