在基板上沉积已蒸发源材料的方法和沉积设备与流程

技术特征：
1.一种用沉积设备(100)在基板(10)上沉积已蒸发源材料的方法，包括：-从蒸气源(20)的一个或多个喷嘴(22)引导所述已蒸发源材料穿过布置在所述一个或多个喷嘴(22)与所述基板之间的屏蔽装置(30)朝向所述基板(10)；-将所述沉积设备从沉积位置(i)传送到维护位置(ii)，在所述维护位置(ii)中所述屏蔽装置(30)面向材料收集单元(40)；-将加热单元(50)相对于所述屏蔽装置(30)从第一位置(a)移动到第二位置(b)，其中所述加热单元(50)至少在所述第二位置(b)中面向所述屏蔽装置(30)；和-用所述加热单元(50)加热所述屏蔽装置(30)来清洁所述屏蔽装置(30)。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述加热单元(50)在所述第一位置(a)和所述第二位置(b)两者中面向所述屏蔽装置(30)，并且与所述第二位置比所述第一位置更靠近所述屏蔽装置(30)。3.根据权利要求1或2所述的方法，其中在所述第二位置(b)中，所述加热单元(50)与所述屏蔽装置(30)之间的距离(d1)为10cm或更小，具体地为2cm或更小。4.根据权利要求1或2所述的方法，其中在第二位置(b)中，所述加热单元(50)至少部分布置在所述屏蔽装置(30)内侧。5.根据权利要求1或2所述的方法，其中将所述沉积设备(100)传送到所述维护位置(ii)包括将所述蒸气源(20)连同所述一个或多个喷嘴(22)和所述屏蔽装置(30)一起从所述沉积位置(i)枢转到所述维护位置(ii)，具体地枢转60
°
或更大的角度。6.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述加热单元(50)安装在所述材料收集单元(40)处，并且相对于所述屏蔽装置(30)移动所述加热单元(50)包括将所述材料收集单元连同所述加热单元一起朝向所述屏蔽装置从所述第一位置(a)移动到所述第二位置(b)，具体地其中所述加热单元至少部分地移动到所述屏蔽装置中。7.根据权利要求6所述的方法，其中所述材料收集单元包括蒸气收集盒(41)或可选地至少部分容纳所述加热单元(50)的另一屏蔽壁，并且所述材料收集单元能够连同所述加热单元一起从邻近所述沉积设备的侧面屏蔽件(42)的所述第一位置(a)移动到邻近所述屏蔽装置的所述第二位置(b)。8.根据权利要求5所述的方法，其中所述材料收集单元包括侧面屏蔽件(42)，并且将所述沉积设备传送到所述维护位置(ii)包括将所述蒸气源(20)连同所述一个或多个喷嘴(22)和所述屏蔽装置(30)一起从所述沉积位置(i)枢转到所述维护位置(ii)，在所述沉积位置(i)中所述一个或多个喷嘴未指向所述侧面屏蔽件，在所述维护位置(ii)中所述一个或多个喷嘴指向所述侧面屏蔽件。9.根据权利要求8所述的方法，其中所述加热单元(50)安装在蒸气可渗透支撑件处，并且相对于所述屏蔽装置移动所述加热单元包括连同所述加热单元一起移动所述蒸气可渗透支撑件。10.根据权利要求9所述的方法，其中所述蒸气可渗透支撑件连同所述加热单元一起从邻近所述侧面屏蔽件的所述第一位置(a)移动到邻近所述屏蔽装置的所述第二位置(b)。11.根据权利要求1或2所述的方法，其中相对于所述屏蔽装置移动所述加热单元(50)包括所述加热单元从所述第一位置(a)到所述第二位置(b)的枢转移动，在所述第一位置(a)中所述加热单元相对于所述屏蔽装置横向布置，在所述第二位置(b)中所述加热单元布
置在所述屏蔽装置前面。12.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述加热单元(50)包括用于清洁所述屏蔽装置的多个蒸气成形孔的红外灯或多个红外灯。13.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述加热单元(50)包括用于清洁所述屏蔽装置的多个蒸气成形孔的卤素灯或多个卤素灯。14.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述屏蔽装置(30)阻挡已蒸发源材料，所述已蒸发源材料具有相对于来自所述一个或多个喷嘴(22)的所述已蒸发源材料的主发射方向的大于45
°
的发射角。15.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述蒸气源包括具有多个喷嘴(22)的蒸气分配管，所述屏蔽装置(30)包括布置在所述多个喷嘴(22)的下游的多个蒸气成形孔，并且所述加热单元(50)包括多个加热灯，每个加热灯用于清洁所述多个蒸气成形孔的相应蒸气成形孔。16.一种用沉积设备(100)在基板(10)上沉积已蒸发源材料的方法，包括：-从一个或多个喷嘴(22)引导所述已蒸发源材料穿过布置在所述一个或多个喷嘴(22)与所述基板(10)之间的屏蔽装置(30)朝向所述基板(10)；-将加热单元(50)相对于所述屏蔽装置(30)从第一位置(a)移动到第二位置(b)，其中所述加热单元(50)在所述第一位置和所述第二位置中面向所述屏蔽装置(30)，并且所述第二位置比所述第一位置更靠近所述屏蔽装置；和-用所述加热单元(50)加热所述屏蔽装置(30)来清洁所述屏蔽装置。17.一种沉积设备(100)，包括：蒸气源(20)，具有用于朝向基板(10)引导已蒸发源材料的一个或多个喷嘴(22)；屏蔽装置(30)，布置在所述一个或多个喷嘴(22)的下游并且经构造以部分阻挡朝向所述基板传播的所述已蒸发源材料；第一驱动器，经构造以将所述沉积设备(100)从沉积位置(i)传送到维护位置(ii)，在所述维护位置(ii)中所述屏蔽装置(30)面向材料收集单元(40)；加热单元(50)，用于清洁处于所述维护位置(ii)中的所述屏蔽装置(30)；和第二驱动器，用以将所述加热单元(50)从第一位置(a)移动到第二位置(b)，其中所述加热单元至少在所述第二位置(b)中面向所述屏蔽装置。18.根据权利要求17所述的沉积设备，其中所述加热单元(50)包括用于清洁所述屏蔽装置的多个蒸气成形孔的红外灯或多个红外灯。19.根据权利要求17所述的沉积设备，其中所述第二驱动器经构造以将所述加热单元(50)至少部分地移动到所述屏蔽装置中，或者经构造以将所述加热单元(50)的多个红外灯至少部分地移动到所述屏蔽装置的多个蒸气成形孔中。20.根据权利要求17所述的沉积设备，其中所述加热单元包括具有1m或更大长度的一个细长的ir灯，并且所述第二驱动器经构造以将所述一个细长的ir灯移动到在距所述屏蔽装置的距离为10cm或更小处的位于所述屏蔽装置前面的所述第二位置(b)。21.根据权利要求17所述的沉积设备，其中所述第一驱动器经构造以将所述蒸气源(20)连同所述一个或多个喷嘴(22)和所述屏蔽装置(30)一起从所述沉积位置(i)枢转到所述维护位置(ii)。

技术总结
提供了一种用沉积设备(100)在基板(10)上沉积已蒸发源材料的方法。方法包括：从蒸气源(20)的一个或多个喷嘴(22)朝向基板(10)引导已蒸发源材料穿过布置在一个或多个喷嘴(22)与基板之间的屏蔽装置(30)；将沉积设备从沉积位置(I)输送到维护位置(II)，在所述维护位置中屏蔽装置(30)面向材料收集单元(40)；将加热单元(50)相对于屏蔽装置(30)从第一位置(a)移动到第二位置(b)，其中加热单元(50)至少在第二位置(b)中面向屏蔽装置(30)；和用加热单元(50)加热屏蔽装置(30)来清洁屏蔽装置(30)。根据另一个方面，提供了一种可以根据所描述方法操作的沉积设备。操作的沉积设备。操作的沉积设备。


技术研发人员：塞巴斯蒂安
受保护的技术使用者：应用材料公司
技术研发日：2020.12.21
技术公布日：2022/6/21