一种高耐热透明聚酰亚胺薄膜及制备方法和用途与流程

技术特征：
1.一种高耐热透明聚酰亚胺薄膜，其特征在于，由二胺和二酐混合溶解于溶剂中，经聚合反应和亚胺化制备而成；其中，所述二酐包括第一二酐、第二二酐和第三二酐，所述第一二酐结构如式ⅰ所示：r1和r2各自独立地选自氧原子、c
1-10
卤代烷基或c
6-20
卤代芳基；所述第二二酐结构如式ⅱ所示：r3和r4各自独立地选自氢原子、卤素原子、羟基、c
1-4
卤代烷氧基或c
1-10
卤代烷基；所述第三二酐包括均苯四甲酸二酐、萘四甲酸二酐、9,9-双(4-氨基苯基)芴、1,4-双(三氟甲基)-2,3,5,6-苯四羧酸二酐和1,4-二氟均苯四甲酸二酐中的至少一种。2.根据权利要求1所述的高耐热透明聚酰亚胺薄膜，其特征在于，所述二胺为含卤素原子取代基联苯结构二胺。3.根据权利要求1所述的高耐热透明聚酰亚胺薄膜，其特征在于，所述二胺包括2,2
’‑
三氟甲基联苯胺、4,4
’‑
二氨基八氟联苯、2,2,5’,5
’‑
四氯二苯胺和3,3
’‑
二氯联苯胺中的至少一种。4.根据权利要求1所述的高耐热透明聚酰亚胺薄膜，其特征在于，所述溶剂包括n,n-二甲基乙酰胺、n,n-二甲基甲酰胺、n-甲基-2-吡咯烷酮、二甲基亚砜、间甲酚、氯仿、四氢呋喃、γ-丁内酯和3-甲基-n,n-二甲基丙酰胺中的至少一种。5.根据权利要求1所述的高耐热透明聚酰亚胺薄膜，其特征在于，所述第一二酐包括9,9-双(三氟甲基)氧杂蒽四甲酸二酐、9,9-三氟甲基甲基氧杂蒽四甲酸二酐、9,9-三氟甲基苯基氧杂蒽四甲酸二酐和4,4’,5,5
’‑
双氧双邻苯二甲酸酐中的至少一种；所述第二二酐包括3,3’,4,4
’‑
联苯四甲酸二酐、2,3,3’,4
’‑
联苯四甲酸二酐、2,2
’‑
三氟甲基-4,4',5,5'-联苯四甲酸二酐和2,2
’‑
二氟-3,3’,4,4
’‑
联苯四甲酸二酐中的至少一
种。6.根据权利要求1所述的高耐热透明聚酰亚胺薄膜，其特征在于，所述二胺的总物质的量与所述二酐的总物质的量的摩尔比为0.95-1:1-1.10。7.根据权利要求1所述的高耐热透明聚酰亚胺薄膜，其特征在于，聚合反应前在溶剂中加入助剂和/或填料；所述助剂的物质的量为所述二胺的总物质的量的0.5-3％；所述助剂包括吡啶、甲基吡啶、1-甲基咪唑、1,2-二甲基咪唑、喹啉、异喹啉、2-甲基咪唑和二甲氨基吡啶中的至少一种。8.一种权利要求1-6任一所述的高耐热透明聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：s1、将二胺和二酐混合溶解于溶剂中，搅拌均匀得到前驱液；s2、将步骤s1得到的前驱液浇筑到基材上，干燥，去除部分溶剂，得到半干燥薄膜；s3、将s2得到的半干燥薄膜进行亚胺化，即得所述高耐热透明聚酰亚胺薄膜。9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，步骤s1中在溶剂中加入助剂和/或填料；步骤s2中所述干燥为在50-180℃温度下干燥5-60min；步骤s3中所述亚胺化为在200-450℃惰性气体条件下继续加热1-30min。10.权利要求1-7任一所述的高耐热透明聚酰亚胺薄膜或权利要求8-9任一所述的制备方法制备得到的高耐热透明聚酰亚胺薄膜在制备用于柔性显示器或透明显示器的基材、结构件或补强层中的应用。

技术总结
本发明属于聚酰亚胺制备技术领域，具体涉及一种高耐热透明聚酰亚胺薄膜及制备方法和用途。所述高耐热透明聚酰亚胺薄膜由二胺和三种二酐混合溶解于溶剂中，经聚合反应和亚胺化制备而成，具有优良的耐热性能、光学透明性和力学性能。力学性能。


技术研发人员：王振中 任茜 林占山 陈学冬 徐飞
受保护的技术使用者：嘉兴瑞华泰薄膜技术有限公司
技术研发日：2022.03.29
技术公布日：2022/6/14