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输送反应物气体的处理系统和方法与流程

2022-06-09 02:32:02 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种注入锥,包含:主体,包含:第一部分,配置成输送反应物气体,所述第一部分包含:底表面;和线性舵;和第二部分,配置成接收所述反应物气体,所述第一部分和所述第二部分由划分线分隔。2.如权利要求1所述的注入锥,其中每个线性舵与平行于所述底表面的轴线所成的角度为从约10
°
至约40
°
。3.如权利要求2所述的注入锥,其中每个线性舵与所述底表面所成的所述角度为从约20
°
至约30
°
。4.如权利要求1所述的注入锥,其中所述线性舵的长度为约25mm至约75mm。5.如权利要求4所述的注入锥,其中所述注入锥通过注入分隔线被分隔成顶部分和底部分,其中所述线性舵设置在所述注入锥的所述顶部分中。6.如权利要求1所述的注入锥,其中所述线性舵的端部设置成距所述底表面约12mm至约40mm。7.一种处理系统,包含:基板支撑系统,包含基板支撑件;注入锥,包含:主体,包含:第一部分,配置成朝向所述基板支撑件的较高生长部分输送反应物气体,所述第一部分包含:底表面;线性舵;和第二部分,配置成接收所述反应物气体;和进口,耦接到所述注入锥,所述进口配置成将所述反应物气体输送至所述注入锥。8.如权利要求7所述的处理系统,其中所述注入锥通过注入分隔线被分隔成顶部分和底部分,所述处理系统配置成仅通过所述注入锥的所述顶部分输送反应物气体。9.如权利要求8所述的处理系统,其中所述基板支撑件被支撑件分隔线划分为所述较高生长部分和较低生长部分,且所述支撑件分隔线平行于所述注入分隔线。10.如权利要求9所述的处理系统,其中所述支撑件分隔线将所述较高生长部分和所述较低生长部分分隔,使得所述较高生长部分和所述较低生长部分各自具有大约相等的面积。11.如权利要求7所述的处理系统,其中所述注入锥设置成使得所述注入锥与所述基板支撑件的边缘成角度,其中所述角度为从约20
°
至约30
°
。12.一种输送反应物气体的方法,所述方法包含以下步骤:使所述反应物气体流动通过进口;使所述反应物气体流动通过注入锥,所述注入锥包含:主体,包含:第一部分,配置成输送所述反应物气体,所述第一部分包含:
底表面;和线性舵;和第二部分,配置成接收所述反应物气体;和将所述反应物气体输送到设置在基板支撑件上方的基板的表面,使得在所述基板的所述表面上形成膜。13.如权利要求12所述的方法,其中所述注入锥通过划分线被分隔成顶部分和底部分,所述注入锥配置成仅通过所述注入锥的所述顶部分输送反应气体。14.如权利要求13所述的方法,其中所述基板被分隔线划分为较高生长部分和较低生长部分,并且大于约60%的膜形成发生在所述基板的所述较高生长部分上。15.如权利要求14所述的方法,其中所述分隔线平行于所述划分线。16.如权利要求13所述的方法,其中所述反应物气体通过所述注入锥的流为层流。17.如权利要求16所述的方法,其中所述反应物气体通过所述注入锥的所述流的雷诺数(re)为约100或更小。18.如权利要求12所述的方法,其中每个线性舵与所述底表面所成的角度为从约10
°
至约40
°
。19.如权利要求12所述的方法,其中在所述方法期间,使所述基板连续地旋转。20.如权利要求12所述的方法,进一步包含以下步骤:在输送所述反应物气体之后,使所述基板旋转约180
°
,并且重复使所述反应物气体流动通过进口、使所述反应物气体流动通过注入锥和输送所述反应物气体。

技术总结
本文描述的实施方式总体涉及输送反应物气体的处理系统和方法。处理系统包括基板支撑系统、注入锥和进口。注入锥包括线性舵。线性舵设置成使得反应物气体通过注入锥的流动造成在基板的特定部分上的膜生长。方法包括以下步骤:使气体流动通过注入锥并且将气体输送到下面的基板上。反应物气体的局部化允许在基板的特定部分上的膜生长。特定部分上的膜生长。特定部分上的膜生长。


技术研发人员:维希瓦
受保护的技术使用者:应用材料公司
技术研发日:2020.09.09
技术公布日:2022/6/7
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