蒸镀盖板及蒸镀装置的制作方法

1.本技术涉及蒸镀设备技术领域，尤其涉及一种蒸镀盖板及蒸镀装置。


背景技术：

2.在oled面板制备过程中，蒸镀工艺是其中十分重要的关键工序。在蒸镀过程中，先采用掩膜板遮挡基材，蒸镀材料被蒸镀装置加热挥发并从掩膜板开口蒸镀到对应的基材位置上。
3.目前蒸镀工艺采用较多的是“点源蒸镀”和“线源蒸镀”的方式，这两种蒸镀方式需要蒸镀装置与基材发生相对移动才能使得基材被蒸镀，一方面降低了蒸镀效率，另一方面由于蒸镀装置存在移动，从而使蒸镀喷嘴在不同位置喷出的蒸镀材料相互影响，导致有机镀膜层不均匀。
4.目前也有蒸镀工艺尝试采用“面源蒸镀”的方式，在蒸镀盖板开设面源排布的蒸发口，蒸镀装置与基材不用发生相对，但是这种蒸镀方式在对基材进行一次性蒸镀时易出现“孤岛效应”，导致基材局部出现未被蒸镀或者基材局部蒸镀过厚的问题。


技术实现要素：

5.有鉴于此，本技术提供了一种蒸镀盖板及蒸镀装置，用以解决现有技术中“面源蒸镀”方式的蒸镀装置在蒸镀时易导致基材局部出现未被蒸镀或基材局部蒸镀过厚的问题。
6.本技术提供的蒸镀盖板包括盖板本体；
7.所述盖板本体至少设置有三个同心设置的遮盖区，且所述遮盖区中开设有均匀间隔的蒸镀口；
8.所述盖板本体朝向待蒸镀基材的一侧还设置有喷嘴，所述喷嘴与所述蒸镀口一一对应设置；
9.其中，沿所述盖板本体的径向，位于所述盖板本体的中心部的所述喷嘴竖直向上设置；
10.位于所述盖板本体的中间部的所述喷嘴向上倾斜并朝向所述盖板本体的中心设置；
11.位于所述盖板本体的外周部的所述喷嘴向上倾斜并背离所述盖板本体的中心设置。
12.该蒸镀盖板在盖合于面蒸发源使用时，盖板本体的遮盖区开设有均匀间隔的蒸镀口，因此蒸镀材料会通过多个蒸镀口较为均匀的穿过遮盖区，而且由于位于盖板本体的中间部的喷嘴向上倾斜并朝向盖板本体的中心设置；位于盖板本体的外周部的喷嘴向上倾斜并背离盖板本体的中心设置，这样喷嘴喷出的蒸镀材料会有水平方向的运动分量，因此蒸镀材料从喷嘴通过掩膜板的开口蒸镀到基材的过程中，蒸镀材料能够更均匀逸散混合，从而在蒸镀时使基材的各个待蒸镀部位都能够被均匀等厚地蒸镀。
13.在一种可能的设计中，所述遮盖区同心设置三个，分别为：
14.第一遮盖区，设置成圆形，位于所述盖板本体的中心；
15.第二遮盖区，设置成环形，紧邻位于所述第一遮盖区的外周部；
16.第三遮盖区，设置成环形，紧邻位于所述第二遮盖区的外周部。
17.这样与第一遮盖区对应设置的喷嘴喷出蒸镀材料能够以“圆形”的方式向上逸散、与第二遮盖区对应设置的喷嘴喷出蒸镀材料能够以“聚拢环形”的方式向上逸散、与第三遮盖区对应设置的喷嘴喷出蒸镀材料能够以“发散环形”的方式向上逸散，而且由于第一遮盖区、第二遮盖区同心位于第三遮盖区的内部，与第一遮盖区、第二遮盖区对应设置的喷嘴喷出蒸镀材料也会在“聚拢”上升逸散的过程中向浓度较低的外周发散，因此所有喷嘴喷出蒸镀材料在上升逸散的过程中能够在水平方向相互窜动混合成等浓度，从而确保基材的各个待蒸镀部位都能够被均匀等厚地蒸镀。
18.在一种可能的设计中，所述第一遮盖区中设置一个或多个所述蒸镀口；
19.当设置一个所述蒸镀口时，所述蒸镀口位于所述第一遮盖区的中心；
20.当设置多个所述蒸镀口时，多个所述蒸镀口以所述第一遮盖区的中心呈环形阵列设置。
21.这样与第一遮盖区中蒸镀口对应的喷嘴喷出的蒸镀材料便能够以第一遮盖区的中心向第一遮盖区的周部均匀逸散。
22.在一种可能的设计中，所述第二遮盖区中设置有多个所述蒸镀口；
23.多个所述蒸镀口在所述第二遮盖区中以所述盖板本体的中心呈环形阵列设置，且至少设置三圈。
24.这样与第二遮盖区中蒸镀口一一对应的喷嘴也便可以盖板本体的中心呈环形阵列设置三圈并位于第二遮盖区的上方，多个喷嘴喷出的蒸镀材料便能够以三个“聚拢环形”的方式均匀的向上逸散。
25.在一种可能的设计中，多圈呈环形阵列的所述蒸镀口沿所述盖板本体的径向等间距设置，且相邻两圈呈环形阵列的所述蒸镀口相互交错设置。
26.这样能够使蒸镀口在第二遮盖区中更为均匀的分布，从而使蒸镀材料便能够更均匀地通过第二遮盖区。
27.在一种可能的设计中，所述第三遮盖区中设置有多个所述蒸镀口；
28.多个所述蒸镀口在所述第三遮盖区中以所述盖板本体的中心呈环形阵列设置，且至少设置两圈。
29.这样与第三遮盖区中蒸镀口一一对应的喷嘴也便可以盖板本体的中心呈环形阵列设置两圈并位于第三遮盖区的上方，多个喷嘴喷出的蒸镀材料便能够以两个“扩散环形”的方式均匀的向上逸散。
30.在一种可能的设计中，多圈呈环形阵列的所述蒸镀口沿所述盖板本体的径向等间距设置，且相邻两圈呈环形阵列的所述蒸镀口相互交错设置。
31.这样能够使蒸镀口在第三遮盖区中更为均匀的分布，从而使蒸镀材料便能够更均匀地通过第三遮盖区。
32.在一种可能的设计中，所述第三遮盖区中最外圈所述蒸镀口的口径小于所述第三遮盖区中最内圈所述蒸镀口的口径。
33.这样会使相对较少的蒸镀材料通过第三遮盖区中最外圈呈环形阵列蒸镀口，从而
可以避免蒸镀材料在蒸镀过程中向外逸散过多、造成蒸镀材料浪费的问题。
34.在一种可能的设计中，在倾斜设置的所述喷嘴中，所述喷嘴与竖直方向形成夹角θ；
35.所述夹角θ的取值范围为5
°
～30
°
。
36.这样可以避免喷嘴的与竖直方向倾斜较大或较小、造成蒸镀材料从喷嘴喷出时在水平方向的运动分量过大或过小的问题，保证蒸镀材料可以在水平方向能够以一个适当的运动分量逸散混合。
37.另外，本技术还提供了一种蒸镀装置，该蒸镀装置包括：加热源、蒸镀坩埚和上述的蒸镀盖板；
38.所述蒸镀盖板盖合于所述蒸镀坩埚的开口；
39.所述加热源用于加热所述蒸镀坩埚。
40.该蒸镀装置包括上述的蒸镀盖板，能够实现其所有的有益效果，在此不再赘述。
41.本技术实施例的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本技术实施例而了解。本技术实施例的目的和其他优点在说明书以及附图所特别指出的结构来实现和获得。
附图说明
42.图1为本技术实施例提供的蒸镀盖板的俯视图；
43.图2为本技术实施例提供的蒸镀装置的主视图。
44.附图标记：
45.1-盖板本体；
46.11-第一遮盖区；
47.12-第二遮盖区；
48.13-第三遮盖区；
49.14-蒸镀口；
50.15-喷嘴；
51.2-加热源；
52.3-蒸镀坩埚；
53.4-掩膜板；
54.5-基材。
55.此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本技术的实施例，并与说明书一起用于解释本技术的原理。
具体实施方式
56.为了更好的理解本技术的技术方案，下面结合附图对本技术实施例进行详细描述。
57.应当明确，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。
58.在本技术实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本技术。在本技术实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。
59.应当理解，本文中使用的术语“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，a和/或b，可以表示：单独存在a，同时存在a和b，单独存在b这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
60.需要注意的是，本技术实施例所描述的“上”、“下”、“左”、“右”等方位词是以附图所示的角度来进行描述的，不应理解为对本技术实施例的限定。此外，在上下文中，还需要理解的是，当提到一个元件连接在另一个元件“上”或者“下”时，其不仅能够直接连接在另一个元件“上”或者“下”，也可以通过中间元件间接连接在另一个元件“上”或者“下”。
61.下面根据本技术实施例提供的蒸镀盖板及的蒸镀装置结构，对其具体实施例进行说明。
62.图1为本技术实施例提供的蒸镀盖板的俯视图；
63.图2为本技术实施例提供的蒸镀装置的注视图。
64.如图1和图2所示，本技术实施例提供了一种蒸镀盖板，该蒸镀盖板包括盖板本体1；盖板本体1至少设置有三个同心设置的遮盖区，且遮盖区中开设有均匀间隔的蒸镀口14；盖板本体1朝向待蒸镀基材的一侧还设置有喷嘴15，喷嘴15与蒸镀口14一一对应设置；其中沿盖板本体1的径向，位于盖板本体1的中心部的喷嘴15竖直向上设置；位于盖板本体1的中间部的喷嘴15向上倾斜并朝向盖板本体1的中心设置；位于盖板本体1的外周部的喷嘴15向上倾斜并背离盖板本体1的中心设置。
65.该蒸镀盖板在盖合于面蒸发源使用时，盖板本体1的遮盖区开设有均匀间隔的蒸镀口14，因此蒸镀材料会通过多个蒸镀口14较为均匀的穿过遮盖区，而且由于位于盖板本体1的中间部的喷嘴15向上倾斜并朝向盖板本体1的中心设置；位于盖板本体1的外周部的喷嘴15向上倾斜并背离盖板本体1的中心设置，这样喷嘴15喷出的蒸镀材料会有水平方向的运动分量，因此蒸镀材料从喷嘴15通过掩膜板4的开口蒸镀到基材5的过程中，蒸镀材料能够更均匀逸散混合，从而在蒸镀时使基材5的各个待蒸镀部位都能够被均匀等厚地蒸镀，解决了现有技术中“面源蒸镀”方式的蒸镀装置在蒸镀时易导致基材局部出现未被蒸镀或基材局部蒸镀过厚的问题。
66.本实施例的可选方案中，遮盖区同心设置三个，分别为第一遮盖区11、第二遮盖区12和第三遮盖区13；第一遮盖区11设置成圆形，位于盖板本体1的中心；第二遮盖区12设置成环形，紧邻位于第一遮盖区11的外周部；第三遮盖区13设置成环形，紧邻位于第二遮盖区12的外周部。
67.具体的，如图1所示，将遮盖区同心设置三个，且第一遮盖区11为圆形、第二遮盖区12为紧邻第一遮盖区11外周部的环形、第三遮盖区13为紧邻第二遮盖区12外周部的环形，这样与第一遮盖区11对应设置的喷嘴15便可竖直向上设置；与第二遮盖区12对应设置的喷嘴15便可向上倾斜并朝向盖板本体1的中心设置；与第三遮盖区13对应设置的喷嘴15便可向上倾斜并背离盖板本体1的中心设置。
68.这样与第一遮盖区11对应设置的喷嘴15喷出蒸镀材料能够以“圆形”的方式向上逸散、与第二遮盖区12对应设置的喷嘴15喷出蒸镀材料能够以“聚拢环形”的方式向上逸
散、与第三遮盖区13对应设置的喷嘴15喷出蒸镀材料能够以“发散环形”的方式向上逸散，而且由于第一遮盖区11、第二遮盖区12同心位于第三遮盖区13的内部，与第一遮盖区11、第二遮盖区12对应设置的喷嘴15喷出蒸镀材料也会在“聚拢”上升逸散的过程中向浓度较低的外周发散，因此所有喷嘴15喷出蒸镀材料在上升逸散的过程中能够在水平方向相互窜动混合成等浓度，从而确保基材5的各个待蒸镀部位都能够被均匀等厚地蒸镀。
69.本实施例的可选方案中，第一遮盖区11中设置一个或多个蒸镀口14；当设置一个蒸镀口14时，蒸镀口14位于第一遮盖区11的中心；当设置多个蒸镀口14时，多个蒸镀口14以第一遮盖区11的中心呈环形阵列设置。
70.具体的，如图1所示，此时第一遮盖区11中仅设置一个蒸镀口14，蒸镀口14便设置位于第一遮盖区11的中心，这样与第一遮盖区11中蒸镀口14对应的喷嘴15便对应位于第一遮盖区11的中心上方，喷嘴15喷出的蒸镀材料便能够以第一遮盖区11的中心向第一遮盖区11的周部均匀逸散。
71.当第一遮盖区11中设置多个蒸镀口14时，将多个蒸镀口14以第一遮盖区11的中心呈环形阵列设置，这样与第一遮盖区11中蒸镀口14一一对应的喷嘴15也便可以第一遮盖区11的中心呈环形阵列设置并位于第一遮盖区11的中心上方，使喷嘴15喷出的蒸镀材料也能够均匀逸散。
72.本实施例的可选方案中，第二遮盖区12中设置有多个蒸镀口14；多个蒸镀口14在第二遮盖区12中以盖板本体1的中心呈环形阵列设置，且至少设置三圈。
73.具体的，如图1所示，此时是将第二遮盖区12中的多个蒸镀口14以盖板本体1的中心呈环形阵列设置三圈，这样与第二遮盖区12中蒸镀口14一一对应的喷嘴15也便可以盖板本体1的中心呈环形阵列设置三圈并位于第二遮盖区12的上方，多个喷嘴15喷出的蒸镀材料便能够以三个“聚拢环形”的方式均匀的向上逸散。
74.本实施例的可选方案中，多圈呈环形阵列的蒸镀口14沿盖板本体1的径向等间距设置，且相邻两圈呈环形阵列的蒸镀口14相互交错设置。
75.具体的，如图1所示，将第二遮盖区12中多圈环形阵列的蒸镀口14沿盖板本体1的径向等间距设置且相邻两圈呈环形阵列的蒸镀口14相互交错设置，这样能够使蒸镀口14在第二遮盖区12中更为均匀的分布，从而使蒸镀材料便能够更均匀地通过第二遮盖区12。
76.本实施例的可选方案中，第三遮盖区13中设置有多个蒸镀口14；多个蒸镀口14在第三遮盖区13中以盖板本体1的中心呈环形阵列设置，且至少设置两圈。
77.具体的，如图1所示，此时是将第三遮盖区13中的多个蒸镀口14以盖板本体1的中心呈环形阵列设置两圈，这样与第三遮盖区13中蒸镀口14一一对应的喷嘴15也便可以盖板本体1的中心呈环形阵列设置两圈并位于第三遮盖区13的上方，多个喷嘴15喷出的蒸镀材料便能够以两个“扩散环形”的方式均匀的向上逸散。
78.本实施例的可选方案中，多圈呈环形阵列的蒸镀口14沿盖板本体1的径向等间距设置，且相邻两圈呈环形阵列的蒸镀口14相互交错设置。
79.具体的，如图1所示，将第三遮盖区13中多圈环形阵列的蒸镀口14沿盖板本体1的径向等间距设置且相邻两圈呈环形阵列的蒸镀口14相互交错设置，这样能够使蒸镀口14在第三遮盖区13中更为均匀的分布，从而使蒸镀材料便能够更均匀地通过第三遮盖区13。
80.本实施例的可选方案中，第三遮盖区13中最外圈呈环形阵列蒸镀口14的口径小于
第三遮盖区13中最内圈呈环形阵列蒸镀口14的口径。
81.具体的，如图1所示，将第三遮盖区13中最外圈呈环形阵列蒸镀口14的口径设置成小于第三遮盖区13中最内圈呈环形阵列蒸镀口14的口径，这样会使相对较少的蒸镀材料通过第三遮盖区13中最外圈呈环形阵列蒸镀口14，从而可以避免蒸镀材料在蒸镀过程中向外逸散过多、造成蒸镀材料浪费的问题。
82.本实施例的可选方案中，在倾斜设置的喷嘴15中，喷嘴15与竖直方向形成夹角θ；夹角θ的取值范围为5
°
～30
°
。
83.具体的，如图2所示，倾斜设置的喷嘴15具体可以设置成与竖直方向倾斜5
°
、10
°
、15
°
、20
°
、25
°
、30
°
等，将夹角θ的取值范围限定在5
°
～30
°
之间，这样可以避免喷嘴15的与竖直方向倾斜较大或较小、造成蒸镀材料从喷嘴15喷出时在水平方向的运动分量过大或过小的问题，保证蒸镀材料可以在水平方向能够以一个适当的运动分量逸散混合。
84.另外，本技术实施例还提供了一种蒸镀装置，该蒸镀装置包括加热源2、蒸镀坩埚3和上述的蒸镀盖板；蒸镀盖板盖合于蒸镀坩埚3的开口；加热源2用于加热蒸镀坩埚3。
85.具体的，如图2所示，上述的加热源2具体可以设置成电加热丝，而且可以具体设置于蒸镀坩埚3背离蒸镀盖板的侧壁；上述的蒸镀盖板具体可以采用嵌装的方式盖合于蒸镀坩埚3的开口。
86.由于该蒸镀装置包括上述的蒸镀盖板，能够实现其所有的有益效果，在此不再赘述。
87.以上所述仅为本技术的较佳实施例而已，并不用以限制本技术，凡在本技术的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术保护的范围之内。