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在由不导电陶瓷材料制成的制品的表面上沉积装饰性和/或功能性金属层的方法与流程

2022-06-01 04:20:52 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种在由最初不导电的陶瓷材料制成的成品或半成品制品的至少一部分表面上沉积装饰性和/或功能性层的方法,这种沉积方法包括下列操作:-对所述制品的该至少一部分表面施以渗碳或渗氮处理,在此期间碳或氮原子在所述制品的该至少一部分表面中扩散,然后-在已经过渗碳或渗氮处理的所述制品的该至少一部分表面上,通过金属材料的电镀生长沉积装饰性和/或功能性层。2.根据权利要求1的沉积装饰性和/或功能性层的方法,其特征在于所述渗碳或渗氮处理在能够创建反应性气氛的等离子体反应器或热丝反应器中进行。3.根据权利要求2的沉积装饰性和/或功能性层的方法,其特征在于在渗碳或渗氮步骤前,对所述成品或半成品制品的该至少一部分表面施以还原处理,在此期间从所述成品或半成品制品的该表面向其中心发生脱氧。4.根据权利要求2和3之一的沉积装饰性和/或功能性层的方法,其特征在于当对所述制品施以等离子体渗碳处理时,将所述制品引入反应器,在其中创建至少部分真空,然后创建由氢气、中性气体和痕量碳的混合物的电离获得的等离子体。5.根据权利要求4的沉积装饰性和/或功能性层的方法,其特征在于用于形成等离子体的痕量碳获自烃或此类烃的混合物。6.根据权利要求5的沉积装饰性和/或功能性层的方法,其特征在于所述烃选自乙烷、甲烷和乙炔。7.根据权利要求4至6之一的沉积装饰性和/或功能性层的方法,其特征在于所述中性气体是氩气。8.根据权利要求4至7之一的沉积装饰性和/或功能性层的方法,其特征在于所述制品在由等离子体创建的反应性气氛中保持在15至240分钟之间的持续时间的持续时间,优选等于150分钟的持续时间。9.根据权利要求4至8之一的沉积装饰性和/或功能性层的方法,其特征在于在等离子体渗碳处理的过程中所述制品的平均温度在600℃至1300℃之间不等。10.根据权利要求2和3之一的沉积装饰性和/或功能性层的方法,其特征在于当对所述制品施以等离子体渗氮处理时,将所述制品引入反应器,在其中创建至少部分真空,然后创建由氢气、中性气体和氮气的混合物的电离获得的等离子体。11.根据权利要求10的沉积装饰性和/或功能性层的方法,其特征在于所述中性气体是氩气或氖气。12.根据权利要求10至11之一的沉积装饰性和/或功能性层的方法,其特征在于所述制品在由等离子体创建的反应性气氛中保持在15至240分钟之间的持续时间,优选等于150分钟的持续时间。13.根据权利要求10至12之一的沉积装饰性和/或功能性层的方法,其特征在于在等离子体渗氮处理的过程中建立在500至900℃之间的所述制品的平均温度。14.根据权利要求1至13之一的沉积装饰性和/或功能性层的方法,其特征在于使用直流电放电、通过射频(rf)波或微波生成等离子体。15.根据权利要求2或3之一的沉积装饰性和/或功能性层的方法,其特征在于,当对所述制品施以在热丝型反应器中进行的渗碳或渗氮处理时,在其中创建至少部分真空,然后
创建原子碳或原子氮的反应性气氛,其如果适当,可补充原子氢。16.根据权利要求15的沉积装饰性和/或功能性层的方法,其特征在于所述长丝的温度达到至少1500℃。17.根据权利要求16的沉积装饰性和/或功能性层的方法,其特征在于至少一个长丝由耐火金属材料制成。18.根据权利要求1至17之一的沉积装饰性和/或功能性层的方法,其特征在于所述陶瓷制品在10至1000nm的厚度内转化,所述陶瓷制品的最外层在大约20至200nm的厚度内对应于碳化锆或氮化锆。19.根据权利要求1至18之一的沉积装饰性和/或功能性层的方法,其特征在于所述制品由氧化锆zro2、氧化铝al2o3或氧化硅sio3制成。20.根据权利要求19的沉积装饰性和/或功能性层的方法,其特征在于所述氧化锆为四方相t-zro2。21.根据权利要求20的沉积装饰性和/或功能性层的方法,其特征在于通过加入3摩尔%的氧化钇y2o3而在室温下稳定四方相t-zro2。22.根据权利要求1至21之一的沉积装饰性和/或功能性层的方法,其特征在于用于电镀生长步骤的金属材料选自金、银、铜、铂、铟、钯、铑、白青铜和黄青铜、镍以及这些金属的合金。23.根据权利要求22的沉积装饰性和/或功能性层的方法,其特征在于所述电镀生长步骤在温度在60℃至70℃之间的浴中进行并在其中循环具有0.1至1.0a/dm2的电流密度的电流。24.根据权利要求23的沉积装饰性和/或功能性层的方法,其特征在于,对于在渗碳部件上通过电镀生长沉积金-铜合金,使用氰化钾作为催化剂。25.根据权利要求24的沉积装饰性和/或功能性层的方法,其特征在于,对于通过电镀生长沉积18开金,电流密度在0.4至0.5a/dm2之间。26.根据权利要求1至25之一的沉积装饰性和/或功能性层的方法,其特征在于在渗碳或渗氮处理后所述制品的表面电阻小于10ω/

。27.用于钟表或首饰的由最初不导电的陶瓷材料制成的制品,其经根据权利要求1至26任一项的方法处理。28.根据权利要求27的制品,其特征在于其是手表中间部分、手表表圈、手表表盘、腕带连接、钟表机芯的夹板、护板或摆动块、戒指或耳环。

技术总结
本发明涉及一种在由不导电陶瓷材料制成的成品或半成品制品的至少一部分表面上沉积装饰性和/或功能性层的方法,这种沉积方法包括下列操作:-对所述制品的该至少一部分表面施以渗碳或渗氮处理,在此期间碳或氮原子在所述制品的至少一部分表面中扩散,然后-在已经过渗碳或渗氮处理的所述制品的该至少一部分表面上,通过金属材料的电镀生长沉积装饰性和/或功能性层。和/或功能性层。


技术研发人员:L
受保护的技术使用者:斯沃奇集团研究和开发有限公司
技术研发日:2021.11.08
技术公布日:2022/5/31
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