一种残膜回收机防缠绕挑膜装置的制 一种秧草收获机用电力驱动行走机构

全自动液晶玻璃切割机的制作方法

2022-06-01 02:48:10 来源:中国专利 TAG:


1.本发明涉及玻璃加工技术领域,特别涉及一种全自动液晶玻璃切割机。


背景技术:

2.随着科技的发展生产水平的提高,对玻璃生产加工工艺提出来更高的要求。相关技术中,通过切割机可在玻璃基板上切割出预设图形,以供后续制备电路图案。每次切割工作完成后,需要通过下料机构将玻璃基板从切割机构转移至翻转机构进行翻转,或转移至下料区进行出料。下料机构通过吸附平台来吸取玻璃基板,但在吸附平台接触玻璃基板进行吸附的过程中,吸附平台容易对玻璃基板造成过大压力而损坏玻璃基板,影响成品效果。


技术实现要素:

3.本发明的主要目的是提出一种全自动液晶玻璃切割机,旨在解决如何提高全自动液晶玻璃切割机成品效果的技术问题。
4.为实现上述目的,本发明提出的全自动液晶玻璃切割机包括:
5.切割机构,包括承载平台和切割刀头,所述承载平台用以支撑玻璃基板,所述切割刀头用以切割所述玻璃基板;
6.上料机构,用以将玻璃基板从上料区移取至所述承载平台;
7.翻转机构,用以将来自所述切割机构的玻璃基板翻面;
8.下料机构,用以将玻璃基板从所述承载平台移取至所述翻转机构,以及将玻璃基板从所述承载平台移取至下料区;
9.所述下料机构包括横移模组、升降模组、支撑板和真空吸附平台,所述升降模组安装于所述横移模组,所述支撑板连接于所述升降模组的底部,所述真空吸附平台位于所述支撑板的下方,且所述真空吸附平台与所述支撑板之间形成缓冲间隙;所述支撑板与所述真空吸附平台通过弹性组件连接;
10.所述真空吸附平台的下表面铺设有柔性缓冲层,所述柔性缓冲层的硬度小于所述真空吸附平台的硬度。
11.可选地,所述支撑板开设有通孔,所述弹性组件包括连接柱、连接筒、弹性件和挡片,所述连接柱连接于所述真空吸附平台的顶面并穿过所述通孔;所述连接筒可活动套设于所述连接柱并与所述通孔固定配合,所述连接筒两端的外周壁分别凸设有上挡台和下挡台,所述支撑板位于所述上挡台与下挡台之间;所述挡片连接于所述连接柱的顶端,所述弹性件套设于所述连接柱并位于所述挡片与所述上挡台之间。
12.可选地,所述柔性缓冲层的厚度设置为0.1mm至1mm;和/或,所述柔性缓冲层设置为聚氨酯层或特氟龙层
13.可选地,所述升降模组连接于所述支撑板的中部;所述支撑板与所述真空吸附平台通过多个所述弹性组件连接,多个所述弹性组件分为两组以分别靠近所述真空吸附平台的两相对侧边,各组所述弹性组件沿所述真空吸附平台侧边的长度方向间隔设置。
14.可选地,所述下料机构还包括支撑架和导向柱,所述支撑架安装于所述横移模组,所述升降模组安装于所述支撑架;所述支撑架开设有导向孔,所述导向柱与所述导向孔可活动配合,所述导向柱的底端连接于所述支撑板;所述导向柱的数量为多个,在所述支撑板自四周朝中心的方向上,多个所述导向柱位于所述弹性组件与所述升降模组之间;多个所述导向柱环绕所述升降模组间隔设置。
15.可选地,所述柔性缓冲层的硬度自四周朝中部渐增。
16.可选地,所述下料机构还包括与所述升降模组电连接的控制器,所述控制器用以控制所述升降模组的升降速度,以控制所述真空吸附平台的下降速度自远离所述承载平台的位置朝靠近所述承载平台的位置递减。
17.可选地,所述下料机构还包括安装于所述真空吸附平台的压力传感器,所述压力传感器用以检测所述真空吸附平台作用于玻璃基板的压力;所述控制器还用以在所述真空吸附平台作用于玻璃基板的压力大于或等于预设压力时,控制所述升降模组上升。
18.可选地,所述下料机构还包括安装于所述真空吸附平台的距离传感器,所述距离传感器用以检测所述真空吸附平台与玻璃基板的纵向间距;所述控制器还用以在所述真空吸附平台与玻璃基板的纵向间距为零时,控制所述升降模组上升。
19.可选地,所述承载平台设置为可升降平台,所述切割机构还包括驱动装置和控制装置,所述驱动装置用以驱动所述承载平台升降,所述控制装置用以控制所述驱动装置,以控制所述承载平台升降;所述控制装置与所述压力传感器可通讯连接,以在所述真空吸附平台作用于玻璃基板的压力大于或等于预设压力时,控制所述承载平台下降。
20.本发明技术方案中,下料机构包括升降模组、连接于升降模组的支撑板和连接于支撑板的真空吸附平台;支撑板与真空吸附平台通过弹性组件连接。真空吸附平台未接触玻璃基板时,真空吸附平台的重力会通过连接柱和挡片作用于弹性件,弹性件会被压缩在挡片与支撑板之间。真空吸附平台朝下接触玻璃基板时,由于玻璃基板支撑力的作用,连接柱和挡片受到的真空吸附平台重力会减小,即弹性件受到的压缩力会减少;此时弹性件会减小压缩量,即通过弹性势能形成恢复原长的趋势,从而将弹性势能转化为作用于挡片的动能;此时挡片受到朝上的弹力,会通过连接柱带动真空吸附平台形成上升的运动趋势。如此,可使真空吸附平台在接触玻璃基板的瞬间产生上升趋势,从而可减小真空吸附平台对玻璃基板造成的压力,以避免损坏玻璃基板。此外,真空吸附平台的下表面还铺设有柔性缓冲层,柔性缓冲层的硬度小于真空吸附平台的硬度,从而可在接触玻璃基板的瞬间对玻璃基板产生柔性缓冲作用,以防止玻璃基板所接触面硬度过大而被碰损。如此,进一步提高了全自动液晶玻璃切割机的切割良品率。
附图说明
21.为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
22.图1为本发明全自动液晶玻璃切割机一实施例的结构示意图;
23.图2为本发明全自动液晶玻璃切割机一实施例的俯视投影示意图;
24.图3为本发明中切割机构一实施例的结构示意图;
25.图4为本发明中下料机构一实施例的结构示意图;
26.图5为本发明中下料机构一实施例的结构示意图;
27.图6为本发明中下料机构一实施例的投影示意图;
28.图7为图6中a处的局部放大图;
29.图8为图6中b处的局部放大图。
30.附图标号说明:
31.标号名称标号名称标号名称10切割机构11承载平台12切割刀头20上料机构30翻转机构40下料机构41横移模组42升降模组43支撑板44真空吸附平台45弹性组件451连接柱452连接筒453上挡台454下挡台46挡片47弹性件48柔性缓冲层49支撑架50导向柱60压力传感器
32.本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。
具体实施方式
33.下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
34.需要说明,若本发明实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
),则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相应地随之改变。
35.另外,若本发明实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述,则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外,全文中出现的“和/或”的含义为,包括三个并列的方案,以“a和/或b为例”,包括a方案,或b方案,或a和b同时满足的方案。另外,各个实施例之间的技术方案可以相互结合,但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础,当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在,也不在本发明要求的保护范围之内。
36.本发明提出一种全自动液晶玻璃切割机。
37.在本发明实施例中,如图1至图3所示,该全自动液晶玻璃切割机包括:切割机构10,包括承载平台11和切割刀头12,所述承载平台11用以支撑玻璃基板,所述切割刀头12用以切割所述玻璃基板;上料机构20,用以将玻璃基板从上料区移取至所述承载平台11;翻转机构30,用以将来自所述切割机构10的玻璃基板翻面;下料机构40,用以将玻璃基板从所述承载平台11移取至所述翻转机构30,以及将玻璃基板从所述承载平台11移取至下料区。
38.在本实施例中,玻璃基板会先被放置在上料区,上料区可以位于上料机构20上,也
可以位于上料机构20的一侧,在此不做限制。上料机构20会将玻璃基板从上料区移取至切割平台的承载平台11。上料机构20对玻璃基板的移取过程可以通过平移模组平移至玻璃基板的上方,再通过可升降的机械手吸取玻璃基板,而后将玻璃基板输送至承载平台11上方,最后将玻璃基板放置于承载平台11上。
39.切割刀头12可在预设控制程序的控制下对玻璃基板的表面进行切割,以在玻璃基板表面形成预设图形。举例而言,在玻璃基板的表面切割出电路图形,以使玻璃基板用于制备显示屏。为了提高切割效率,在对玻璃基板的其中一面切割完成后,需要将玻璃基板移取至翻转机构30,通过翻转机构30对玻璃基板进行翻面,以使玻璃基板的另一面朝上。翻面后的玻璃基板会被移回承载平台11,以供切割刀头12继续切割。在玻璃基板两面都被切割完成后,玻璃基板会被移送至下料区,以被出料或输送至下一加工流程。
40.玻璃基板在切割机构10被切割好一面后,由下料机构40移取至翻转机构30;翻面后的玻璃基板在切割机构10被切割好另一面后,也由下料机构40移取至下料区。具体的,如图4和图5所示,所述下料机构40包括横移模组41、升降模组42、支撑板43和真空吸附平台44,所述升降模组42安装于所述横移模组41,所述支撑板43连接于所述升降模组42的底部,所述真空吸附平台44位于所述支撑板43的下方,且所述真空吸附平台44与所述支撑板43之间形成缓冲间隙。
41.真空吸附平台44开设有多个吸附孔,用以在负压装置的作用下产生吸附力;真空吸附平台44的下表面接触玻璃基板时,玻璃基板可将吸附孔有效遮盖,从而使吸附孔的吸附力仅作用于玻璃基板,如此,可将玻璃基板有效吸贴在真空吸附平台44的下表面。升降模组42用以驱动真空吸附平台44升降,以使真空吸附平台44能下降至与玻璃基板接触,在吸贴住玻璃基板后再上升复位。横移模组41用以驱动升降模组42在承载平台11上方与反转机构上方之间横移,以及在承载平台11上方与下料区上方之间横移;从而可将被真空吸附平台44吸附住的玻璃基板进行横向转移。
42.如图6和图7所示,所述支撑板43与所述真空吸附平台44通过弹性组件45连接;所述支撑板43开设有通孔,所述弹性组件45包括连接柱451、连接筒452、弹性件47和挡片46,所述连接柱451连接于所述真空吸附平台44的顶面并穿过所述通孔;所述连接筒452可活动套设于所述连接柱451并与所述通孔固定配合,所述连接筒452两端的外周壁分别凸设有上挡台453和下挡台454,所述支撑板43位于所述上挡台453与下挡台454之间;所述挡片46连接于所述连接柱451的顶端,所述弹性件47套设于所述连接柱451并位于所述挡片46与所述上挡台453之间。
43.在下料机构40的自然状态下,升降模组42吊着支撑板43,支撑板43通过弹性组件45吊着真空吸附平台44。对弹性组件45而言,真空吸附平台44的重力作用于连接柱451,再通过连接柱451作用于挡片46;由于连接柱451与通孔是可活动配合,因此连接柱451会被真空吸附平台44往下拉,从而将挡片46往下拉。被下拉的挡片46会将作用力传递至弹性件47,将弹性件47压缩在挡片46与上挡台453之间,从而弹性件47可将真空吸附平台44的重力势能转化为弹性势能,即弹性件47处于被压缩状态,一旦弹性件47受到的压力减小,弹性势能会转化为动能,使弹性件47产生恢复伸长的形变过程;此时弹性件47会对挡片46产生向上的弹力,弹力会通过挡片46传递至连接柱451和真空吸附平台44,从而可使真空吸附平台44出现朝上运动的趋势。
44.弹性件47可设置为压缩弹簧,以使弹性件47对受力变化的反应更加及时。上挡台453和下挡台454可对支撑板43起到限位作用,以防止连接筒452与支撑板43相互脱离。
45.下料机构40吸取玻璃基板时,升降模组42驱动支撑板43下降,以使真空吸附平台44逐渐靠近玻璃基板。在真空吸附平台44与玻璃基板接触的瞬间,玻璃基板会对真空吸附平台44产生向上的作用力,该作用力可抵消部分弹性件47受到的压力,从而使弹性件47受到的压力减小,因此,弹性件47会朝上推动挡片46,从而使真空吸附平台44产生朝上运动的趋势。由此,可使真空吸附平台44在接触玻璃基板的瞬间上升,从而可及时减小真空吸附平台44对玻璃基板的作用力,防止玻璃基板被压损。同时,真空吸附平台44与玻璃基板接触时,玻璃基板会同步被真空吸附平台44吸附住,从而可随真空吸附平台44一起被弹力上拉,如此,可减小真空吸附平台44通过玻璃基板传递至承载平台11的作用力,以避免玻璃基板因承载平台11的反作用力而损坏,进一步提高对玻璃基板的保护效果。
46.真空吸附平台44通常由铝材料制成,铝材料可保证真空吸附平台44的平整度,以保证真空吸附平台44与玻璃基板之间的真空度,从而保证对玻璃基板的吸附效果。真空吸附平台44朝下接触玻璃基板时,虽然会通过被弹力上拉而减少对玻璃基板的压力,但铝材质本身的硬度还是可能会造成玻璃基板表面被碰损。具体地,如图8所示,所述真空吸附平台44的下表面铺设有柔性缓冲层48,所述柔性缓冲层48的硬度小于所述真空吸附平台44的硬度。需要说明,柔性缓冲层48应开设与吸附孔对应的过气孔,以保证真空吸附平台44对玻璃基板的吸附效果。
47.柔性缓冲层48会代替真空吸附平台44与玻璃基板接触,从而可对玻璃基板起到缓冲保护作用,既可避免玻璃基板的表面被碰损,也可减小真空吸附平台44因运动惯性而作用至玻璃基板的力,从而可对玻璃基板起到进一步的保护效果。
48.柔性缓冲层48可设置为聚氨酯层,聚氨酯的化学稳定性较高,可保证柔性缓冲层48的结构稳定性;且聚氨酯在生产加工时硬度更易于控制,更方便满足柔性缓冲层48的硬度需求。当然,柔性缓冲才能够也可设置为特氟龙层,特氟龙除了具有缓冲效果还具有防静电效果,从而可避免玻璃基板上的电路图形被静电击穿,进一步提高对玻璃基板的保护作用。
49.在一实施例中,柔性缓冲层48的厚度d可设置为0.1mm至1mm,具体可为0.2mm、0.3mm、0.4mm、0.5mm、0.6mm、0.7mm、0.8mm或0.9mm。若柔性缓冲层48的厚度d小于0.1mm,则缓冲效果较差;若柔性缓冲层48的厚度d大于1mm,则会影响柔性缓冲层48与玻璃基板接触面的平整度;因此,将柔性缓冲层48的厚度d设置为0.1mm至1mm,既可有效保证缓冲效果,又可保证真空吸附平台44对玻璃基板的吸附效果。
50.在一实施例中,如图4和图5所示,所述升降模组42连接于所述支撑板43的中部;所述支撑板43与所述真空吸附平台44通过多个所述弹性组件45连接,多个所述弹性组件45分为两组以分别靠近所述真空吸附平台44的两相对侧边,各组所述弹性组件45沿所述真空吸附平台44侧边的长度方向间隔设置。
51.支撑板43对应各弹性组件45的位置均开设有通孔,以供各连接柱451穿过。升降模组42对支撑板43的朝上的力作用于支撑板43的中部,真空吸附平台44对支撑板43的重力作用于支撑板43的两相对侧边,如此,可避免支撑板43的单一位置集中受力,即综合作用力可从支撑板43的中部朝四周分散,以提高支撑板43的受力稳定性。真空吸附平台44的横向面
积与支撑板43的相当,因此弹性组件45也靠近真空吸附平台44的两相对侧边,如此,可使弹性组件45避开真空吸附平台44中部的真空吸附区,以保证吸附区的吸附效果。
52.真空吸附平台44与玻璃基板接触时,连接有弹性组件45的位置对玻璃基板造成的压力会相比其它位置更大;而将弹性组件45靠近真空吸附平台44的两相对侧边,将升降模组42连接于支撑板43的中部,有助于将这种作用力自真空吸附平台44的四周朝支撑板43的中部分散,从而可使真空吸附平台44对玻璃基板各个位置的作用力更加均匀。
53.在一实施例中,如图4和图5所示,所述下料机构40还包括支撑架49和导向柱50,所述支撑架49安装于所述横移模组41,所述升降模组42安装于所述支撑架49;所述支撑架49开设有导向孔,所述导向柱50与所述导向孔可活动配合,所述导向柱50的底端连接于所述支撑板43;所述导向柱50的数量为多个,在所述支撑板43自四周朝中心的方向上,多个所述导向柱50位于所述弹性组件45与所述升降模组42之间;多个所述导向柱50环绕所述升降模组42间隔设置。
54.导向柱50可对真空吸附平台44和支撑板43起到限位导向作用,以避免真空吸附平台44升降过程中沿横向晃动或偏移。将导向柱50沿升降模组42的周向分布在升降模组42与弹性组件45之间,可使支撑板43的整体受力更加均匀。并且更有利于将真空吸附平台44作用于玻璃基板的力分散均匀。真空吸附平台44接触玻璃基板时,玻璃基板四周受到的压力更大,因此,可使所述柔性缓冲层48的硬度自四周朝中部渐增,以使柔性缓冲层48对玻璃基板各个位置的缓冲效果更加均匀,进一步提高对玻璃基板的保护效果。
55.在一实施例中,所述下料机构40还包括与所述升降模组42电连接的控制器(图未示),所述控制器用以控制所述升降模组42的升降速度,以控制所述真空吸附平台44的下降速度自远离所述承载平台11的位置朝靠近所述承载平台11的位置递减。真空吸附平台44接触玻璃基板时,下降速度应尽量降低至零,以避免真空吸附平台44的动能冲击玻璃基板。若真空吸附平台44的下降速度在靠近玻璃基板的位置才降低,可能会使真空吸附平台44在惯性作用下,或减速不到位而撞击玻璃基板。因此,将真空吸附平台44的下降速度控制为自远离所述承载平台11的位置朝靠近所述承载平台11的位置递减,可使真空吸附平台44在远离玻璃基板的位置更快地靠近玻璃基板,而在靠近玻璃基板的位置能更稳定地减速至停止,从而既可提高下料机构40的工作效率,又可提高对玻璃基板的保护效果。
56.在一实施例中,如图8所示,所述下料机构40还包括安装于所述真空吸附平台44的压力传感器60,所述压力传感器60用以检测所述真空吸附平台44作用于玻璃基板的压力;所述控制器还用以在所述真空吸附平台44作用于玻璃基板的压力大于或等于预设压力时,控制所述升降模组42上升。
57.压力传感器60与控制器可通讯连接,以将检测到的压力信号传递至控制器。控制器会将检测压力与预设压力比较,若真空吸附平台44对玻璃基板的压力过大,控制器会控制升降模组42上升,以带动真空吸附平台44及时上升,从而避免将玻璃基板压损。可以理解,真空吸附平台44对玻璃基板造成的压力大于预设压力时,玻璃基板已足以被真空吸附平台44吸附,从而真空吸附平台44上升时会带动玻璃基板上升,以继续完成对玻璃基板的转移工作,无需重新吸附玻璃基板。在实际应用中,压力传感器60可被埋设在柔性缓冲层48与真空吸附平台44的下表面之间,以避免压力传感器60直接接触玻璃基板,防止玻璃基板被碰损。
58.在一实施例中,所述承载平台11设置为可升降平台,所述切割机构10还包括驱动装置(图未示)和控制装置(图未示),所述驱动装置用以驱动所述承载平台11升降,所述控制装置用以控制所述驱动装置,以控制所述承载平台11升降;所述控制装置与所述压力传感器60可通讯连接,以在所述真空吸附平台44作用于玻璃基板的压力大于或等于预设压力时,控制所述承载平台11下降。
59.压力传感器60可将检测到的压力信号发送至控制装置,控制装置会将检测压力与预设压力比较,若真空吸附平台44对玻璃基板的压力过大,控制装置会控制承载平台11及时下降,以避免玻璃基板被真空吸附平台44压损在承载平台11上。可以理解,真空吸附平台44对玻璃基板造成的压力大于预设压力时,玻璃基板已足以被真空吸附平台44吸附,从而即使此时承载平台11下降,也不会影响玻璃基板被吸附于真空吸附平台44上。
60.在一实施例中,所述下料机构40还包括安装于所述真空吸附平台44的距离传感器(图未示),所述距离传感器用以检测所述真空吸附平台44与玻璃基板的纵向间距;所述控制器还用以在所述真空吸附平台44与玻璃基板的纵向间距为零时,控制所述升降模组42上升。
61.距离传感器与控制器可通讯连接,以将检测到的距离信号传递至控制器。控制器会将检测距离与预设距离(零)比较,若真空吸附平台44与玻璃基板的间距为零,控制器会控制升降模组42上升,以带动真空吸附平台44及时上升,从而避免将玻璃基板压损。可以理解,真空吸附平台44与玻璃基板的间距为零时,玻璃基板已足以被真空吸附平台44吸附,从而真空吸附平台44上升时会带动玻璃基板上升,以继续完成对玻璃基板的转移工作,无需重新吸附玻璃基板。在实际应用中,距离传感器可被埋设在柔性缓冲层48与真空吸附平台44的下表面之间,以避免距离传感器直接接触玻璃基板,防止玻璃基板被碰损。
62.在一实施例中,所述承载平台11设置为可升降平台,所述切割机构10还包括驱动装置(图未示)和控制装置(图未示),所述驱动装置用以驱动所述承载平台11升降,所述控制装置用以控制所述驱动装置,以控制所述承载平台11升降;所述控制装置与所述距离传感器可通讯连接,以在所述真空吸附平台44与玻璃基板的间距为零时,控制所述承载平台11下降。
63.距离传感器可将检测到的距离信号发送至控制装置,控制装置会将检测距离与预设距离(零)比较,若真空吸附平台44与玻璃基板的间距为零,控制装置会控制承载平台11及时下降,以避免玻璃基板因真空吸附平台44继续下降而被压损在承载平台11上。可以理解,真空吸附平台44与玻璃基板的距离为零时,玻璃基板已足以被真空吸附平台44吸附,从而即使此时承载平台11下降,也不会影响玻璃基板被吸附于真空吸附平台44上。
64.本发明技术方案中,下料机构40包括升降模组42、连接于升降模组42的支撑板43和连接于支撑板43的真空吸附平台44;支撑板43与真空吸附平台44通过弹性组件45连接。真空吸附平台44未接触玻璃基板时,真空吸附平台44的重力会通过连接柱451和挡片46作用于弹性件47,弹性件47会被压缩在挡片46与支撑板43之间。真空吸附平台44朝下接触玻璃基板时,由于玻璃基板支撑力的作用,连接柱451和挡片46受到的真空吸附平台44重力会减小,即弹性件47受到的压缩力会减少;此时弹性件47会减小压缩量,即通过弹性势能形成恢复原长的趋势,从而将弹性势能转化为作用于挡片46的动能;此时挡片46受到朝上的弹力,会通过连接柱451带动真空吸附平台44形成上升的运动趋势。如此,可使真空吸附平台
44在接触玻璃基板的瞬间产生上升趋势,从而可减小真空吸附平台44对玻璃基板造成的压力,以避免损坏玻璃基板。此外,真空吸附平台44的下表面还铺设有柔性缓冲层48,柔性缓冲层48的硬度小于真空吸附平台44的硬度,从而可在接触玻璃基板的瞬间对玻璃基板产生柔性缓冲作用,以防止玻璃基板所接触面硬度过大而被碰损。如此,进一步提高了全自动液晶玻璃切割机的切割良品率。
65.以上所述仅为本发明的可选实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是在本发明的发明构思下,利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换,或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本发明的专利保护范围内。
再多了解一些

本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

发表评论 共有条评论
用户名: 密码:
验证码: 匿名发表

相关文献