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用于校准灌装设备中的填充构件的方法与流程

2022-05-21 02:02:02 来源:中国专利 TAG:


1.本发明涉及一种用于校准用于将填充产品灌装到容器中的灌装设备中的填充构件的方法。本发明还涉及一种用于将填充产品灌装到容器中的灌装设备。


背景技术:

2.为了在饮料灌装设备中灌装填充产品例如饮料,已知有不同结构方式的填充构件。填充产品流过填充构件以及因此填充产品向容器中的导入主要由填充阀控制,该填充阀包括阀锥,该阀锥位于与阀锥互补成形的阀收纳部中。因此,通过将阀锥从阀收纳部或从阀座升高来开始填充过程,并且随后通过将阀锥降低到阀座上来再次结束填充过程。
3.为了可以无级控制流入容器中的填充体积并相应地根据填充产品和工艺环境遵循优化的体积流量曲线,可以使用比例阀作为填充阀,比例阀能够实现对体积流量的基本无级控制。与只能呈现打开/关闭两种状态的截止阀不同,可以如此控制比例阀,使得可以可靠且可重复地设定连续或准连续的打开位置范围。为此目的,比例阀通常通过步进电机被致动,由此以结构方式为条件,具有间隔小的离散开启位置范围的阀也属于比例阀。
4.还已知通过流量测量装置来确定在填充期间流入待填充容器中的体积流量,例如以便确定填充结束或通常确保预期的填充曲线。在这里,流量测量装置通常布置在填充阀上方并测量在填充过程中流入容器中的体积流量。
5.已知在填充技术中使用感应式流量测量装置和质量流量测量装置。在感应式流量测量装置的情况下,通过施加垂直于产品的流动方向的可变电磁场来在限定的横截面中通过流速确定体积流量,由此进行液体中存在的电荷载体例如离子的电荷分离。由电荷分离产生的电压与电荷载体的流速成正比并且可以被测量用于确定体积流量。
6.在使用流量测量装置来确定流体量或液体量时,不可避免地会出现测量偏差。测量偏差表示测量值与真实的实际值之间的差异。测量值是由流量测量装置输出的值。实际值是真实值或与真实值相差可忽略不计的所谓正确值。
7.在使用多个流量测量装置时,多个流量测量装置的测量偏差通过两个特征变量被量化:一方面是最大测量偏差,另一方面是平均测量偏差。最大测量偏差表示与实际值的差值,所有流量测量装置的平均测量偏差在该范围内移动。平均测量偏差表示单个流量测量装置在多个测量周期中平均偏离实际值的量。平均测量偏差可以进一步通过可重复性被量化。可重复性量化了单个流量测量装置在相同流量下提供不同测量值的程度,这在很大程度上是随机偏差。
8.从欧洲专利申请ep3078627a1已知一种灌装设备。该灌装设备在产品罐的下游具有附加的测量装置,该附加的测量装置与中央控制单元配合来实现灌装构件的各个测量装置的校准。
9.德国专利申请de102006062536a1公开了一种用于填充容器的装置和方法。通过填充高度测量装置可以确定每个容器的填充度。各个填充高度测量装置可以与控制装置通信,以便实现改进的校准。


技术实现要素:

10.测量偏差会是系统性或随机性。本发明的目的是使系统性的测量偏差最小化。
11.从已知的现有技术出发,本发明的目的是提供一种用于校准用于将填充产品灌装到容器中的至少一个填充构件的改进方法。本发明的另一目的是提供一种用于将填充产品灌装到容器中的改进的灌装设备。
12.该目的通过根据独立权利要求所述的方法和灌装设备来实现。有利的改进方案从从属权利要求、说明书以及附图中给出。
13.相应地,提出了一种用于校准灌装设备中的填充构件的方法,其中,所述灌装设备具有用于将填充产品灌装到容器中的多个填充构件,所述方法包括以下步骤:将填充产品导入到被选为参考填充构件的填充构件的参考管线中以生成参考流量;测量参考填充构件中的参考流量以获得参考测量值;将参考流量导入到第一填充构件中以生成第一填充流量;测量第一填充构件中的第一填充流量以获得第一填充构件测量值;以及通过将参考测量值与第一填充构件测量值进行比较来确定第一校准参数。
14.校准可以理解为一方面为了确定和记录单个流量测量装置的测量偏差而执行的过程。另一方面,校准过程可以用于使测量偏差最小化。校准参数可以是这样的参数,其修改所输出的测量值以使其更接近实际值。所述方法可以在新的灌装批次开始时执行,以便在校准期间考虑相应的填充产品。
15.所述方法也可以按预限定的时间间隔执行,例如每周一次或每月一次。所述方法也可以在灌装设备安装之后以及在维护和维修工作之后执行用于调试。
16.多个填充构件应理解为两个或更多个填充构件。
17.填充产品可以是流体,例如液体,尤其是饮用液体,例如碳酸水或啤酒。参考管线可以是与参考填充构件的其他管线分开的管线。参考管线可以在校准方法之外使用,例如在灌装操作中或在清洁操作中,也就是说,当在灌装设备中实际填充容器或者在产品更换之前或定期清洁设备时,参考管线会发挥不同的功能。参考填充构件可以是这样的填充构件,其在校准方法之外,即例如在灌装操作期间,在多个填充构件中不发挥特殊作用。
18.参考流量可以是限定的质量流量,其值可以以固定或可变的方式设定。
19.所述方法具有这样的步骤:测量参考填充构件中的参考流量以获得参考测量值和分配给该参考测量值的参考参数。可以通过流量测量装置进行测量。参考测量值和/或参考参数可以临时或永久地存储在与流量测量装置连接的控制装置上或流量测量装置本身上。
20.参考流量可以等于第一填充流量。第一填充构件可以通过诸如环形管线的管线与参考填充构件连接,其他填充构件也可以连接到该管线。
21.可以通过流量测量装置进行第一填充流量的测量。第一填充构件测量值可以临时或永久地存储在与流量测量装置连接的控制装置上或流量测量装置本身上。
22.为了将参考测量值与第一填充构件测量值进行比较以获得第一校准参数,可以将参考测量值和第一填充构件测量值存储在相同的控制装置上或两个彼此通信的控制装置上并在那里进行比较。
23.由于参考测量值基于参考流量,并且第一填充构件测量值基于第一填充流量,并且参考流量等于填充流量,因而第一校准参数可以检测和/或减少在参考填充构件和/或第一填充构件中出现的特性和/或测量偏差。这样,可以通过布置在环形管线中的填充构件实
现对各个填充构件的从参考构件观察到的串联连接的流量测量装置的校准。为此,无需将附加的校准部件集成到灌装设备中,而可以使用本来设置的部件。
24.换句话说,所述方法能够通过比较由布置在相应的填充构件中的流量测量装置输出的各个值来以更高的精度进行对相应的填充构件的校准。这样,可以使由相应的填充构件在灌装操作中而不是在校准期间输出的液体量适配于预定的理想量。
25.因此,通过首先确定相应的填充构件及其流量测量装置的平均测量偏差并确定每个填充构件的相应的校准参数,使由测量偏差引起的填充量偏差最小化。在随后的灌装过程中,可以通过校准参数补偿各个流量测量装置的各个平均测量偏差。一旦各个平均测量偏差减小,最大测量偏差也会减小。
26.因此可以提高灌装的均匀性并且尤其是可以实现的是,所有容器的填充量仅在可重复性的范围内波动,而使平均测量偏差在很大程度上得到匹配。
27.所述方法可以这样的步骤:依赖于第一校准参数适配第一填充构件的填充特性。适配第一填充构件的填充特性可以理解为,在实际灌装量中产生的、在灌装操作中离开第一填充构件的流量与借助各个流量测量装置测量的流量相比增加或减少。因此,第一校准参数对灌装设备的灌装结果直接产生影响。尤其地,可以就此实现的是,使灌装设备的所有填充构件的灌装量彼此匹配。
28.所述方法可以包括这样的步骤:将第一校准参数存储在第一填充构件中以用于灌装设备的灌装操作中。这样,可以实现的是,在校准阶段中所确定的校准参数可用于后续的灌装过程中并且实现了无摩擦的且在均匀性方面得到改善的灌装结果。
29.所述方法可以包括这样的步骤:将参考流量导入到第二填充构件中以生成第二填充流量。这种导入可以在时间上在将参考流量导入到第一填充构件中之后进行。通过第一填充构件被引导的参考流量可以等于通过第二填充构件被引导的参考流量。因此,第一填充流量可以对应于第二填充流量。优选地,在获得第一校准参数之后,将参考流量导入到第二填充构件中。
30.所述方法可以包括这样的步骤:测量第二填充构件中的第二填充流量以获得第二填充构件测量值。该步骤可以类似于测量第一填充构件中的第一填充流量以获得第一填充构件测量值来进行。优选地,在时间上在第一填充构件测量值之后获得第二填充构件测量值。
31.所述方法可以包括这样的步骤:将参考测量值和第二填充构件测量值进行比较以获得第二校准参数。该步骤可以类似于将参考测量值与第一填充构件测量值进行比较以获得第一校准参数来进行。优选地,在时间上在第一校准参数之后获得第二校准参数。因此,可以依次针对所有填充构件分别确定各个校准参数。
32.所述方法可以包括这样的步骤:依赖于第二校准参数适配第二填充构件的填充特性。该步骤可以类似于依赖于第一校准参数适配第一填充构件来进行。
33.所述方法可以包括这样的步骤:将第二校准参数存储在第二填充构件中以用于灌装设备的灌装操作中。这样,可以实现的是,校准参数可用于常规灌装操作中。
34.所述方法可以包括这样的步骤:在将填充产品导入到参考填充构件的参考管线中之前,用填充产品完全填充灌装设备的所有填充产品引导区域。这样,可以实现的是,由参考填充构件导入的参考流量也实际上通过测量的填充构件退出并且不用于填充可能存在
的空腔。
35.所公开的基本思想,即通过与参考填充构件比较来校准填充构件的填充流量,不限于仅两个填充构件和一个参考填充构件。替代地,除了参考填充构件之外,还可以布置任意许多、即多个填充构件,通过该多个填充构件分别导入参考流量。在相同流量下的许多测量的流量值提高了可确定每个参考构件或相关联的流量测量装置的平均测量误差的精度。只要可以以高精度确定每个参考构件的平均测量误差,就可以通过相关联的校准参数更精确地确定灌装操作中的实际灌装量。
36.优选地,被选为参考填充构件的填充构件在灌装设备的灌装操作中用于将填充产品灌装到容器中。换句话说,参考填充构件是常规填充构件,其除了被选为参考填充构件用于校准操作之外,与灌装设备的其他填充构件相比没有任何区别。在灌装操作中,参考填充构件无法与其他填充构件区分。
37.优选地,针对所有填充构件确定各个校准参数,以实现的是,通过所有填充构件实现均匀灌装。
38.所述方法包括这样的步骤:针对每个填充构件执行在至少两个不同的参考流量下对校准参数的确定。在这里考虑的是,流量测量装置在不同的流量下可能具有不同的平均测量偏差,这些平均测量偏差可以通过这种方式来考虑。在灌装操作中,然后可以基于由灌装设备指定的期望流量来选择要使用哪个校准参数。
39.参考填充构件的参考管线可以是与布置在参考填充构件中的填充产品管线分开的清洁介质通道,所述清洁介质通道适配于在灌装设备的冲洗过程中收纳冲洗剂。冲洗过程可以是除了校准和灌装操作之外的第三种配置。在该冲洗过程期间,可以通过清洁介质通道引导冲洗剂。清洁介质通道可以与填充产品管线不同。由于参考管线在校准期间与相同管线在冲洗过程期间执行不同的功能,因而可以有效地使用相同的填充构件。因此,也能够在冲洗过程期间和在没有特殊辊的灌装操作中处理参考填充构件。
40.本发明还涉及一种用于将填充产品灌装到容器中的灌装设备。
41.相应地,所述灌装设备具有用于引导填充产品的环形管线。环形管线可以是这样的管线,多个填充构件布置在该管线处。环形管线可以从中心管线被供应填充产品。中心管线又可以由罐供给。
42.灌装设备具有参考填充构件,该参考填充构件布置在环形管线中,并且该参考填充构件具有由环形管线供应的填充产品管线和与其大致分开的清洁介质通道。在灌装期间,填充产品可以从中心管线通过环形管线被引导到填充产品管线中。在冲洗期间,冲洗剂可以从冲洗储存器通过清洁介质通道以及填充产品管线被引导。
43.灌装设备除了参考填充构件之外还具有至少一个另外的填充构件。该另外的填充构件可以在环形管线中串联连接到参考填充构件。不仅一个另外的填充构件,而且多个另外的填充构件可以布置在环形管线中。
44.所述灌装设备的参考填充构件的填充产品管线从参考填充构件与环形管线的接口伸展到填充产品出口。参考填充构件与环形管线的接口可以在连接销的中间切换下设计。通过填充产品出口可以将填充产品从填充构件引导到容器中。
45.所述灌装设备的清洁介质通道与填充产品管线分开地从参考填充构件与冲洗储存器的接口伸展到填充产品出口。
46.在所述灌装设备的参考填充构件的填充产品出口上可以布置有封闭盖,该封闭盖使流体能够从清洁介质通道流入填充产品管线中。封闭盖可以以形状配合的方式例如可套设地或可夹紧地和/或以力配合的方式例如可旋拧地布置在填充产品出口上。因此,封闭盖实现了在填充产品管线和清洁介质通道之间的桥接。朝填充产品出口的方向流入清洁介质通道中的流体会在没有配置在其上的封闭盖的情况下从填充产品出口流出。利用布置在填充产品出口上的封闭盖,不会使相应的介质逸出。替代地,流体流从清洁介质通道偏转到流体管线中。
47.流体流的这种偏转在校准期间是有利的。因此,可以通过本来存在于填充构件中的管线生成参考流量。该参考流量实现了根据此处公开的优化校准。
48.封闭盖可以布置在填充产品出口上。替代于此或除此之外,至少一个另外的填充构件可以设计成与参考填充构件结构相同,其中,至少一个另外的填充构件的填充产品出口没有封闭盖。因此,参考填充构件仅在布置于其上的封闭盖方面会与至少一个另外的填充构件不同。封闭盖可以设计为就地清洁(cleaning-in-place)盖,也称为cip盖。该cip盖也可以在灌装设备的冲洗过程中使用。
49.参考填充构件具有流量测量装置,并且另外的填充构件具有可以使用上述方法校准的流量测量装置。
50.应当注意,结合所述方法公开的那些特征、效果和优点,只要在技术上是合理的,也可以应用于所述灌装设备,反之亦然。
附图说明
51.通过以下对附图的描述更详细地说明本发明的其他优选实施方式。在附图中:
52.图1示意性示出了可以应用该方法的灌装设备;
53.图2a和图2b示出了灌装设备的片段,其具有根据本公开的所提到的方法步骤;
54.图3示出了参考填充构件和另外的填充构件;
55.图4示出了另一实施方式中的灌装设备;以及
56.图5示出了另一实施方式中的灌装设备。
具体实施方式
57.以下,参照附图描述优选实施例。在这里,不同图中的相同、相似或作用相同的元件附有相同的附图标记,并且部分省略了这些元件的重复描述,以避免冗余。
58.在图1中示意性示出了灌装设备1。该灌装设备1具有用待灌装到容器中的填充产品2填充的罐,该罐通过中心管线9与环形管线10连接。与环形管线10连接有多个填充构件3、4、5,该多个填充构件3、4、5各自具有填充阀8,使用这些填充阀8来控制填充产品到布置在其下方的容器中的实际填充过程。填充构件3、4、5以及因此其填充阀8相应地在环形管线10处彼此并联连接。
59.填充阀8用于如此控制填充产品2向此处未示出的、但布置在填充构件3、4、5下方的容器中的流入,使得每个容器被填充有预定体积的填充产品。换句话说,填充阀8打开以开始填充产品的流动,并且一旦预定体积的填充产品被导入到相应的容器中就再次关闭。
60.在填充构件3、4、5中各自设置有填充产品管线13,该填充产品管线13用于在常规
填充操作中将填充产品供应给相应的填充阀8。此外,每个填充构件3、4、5在填充产品管线13中具有流量测量装置7。
61.相应的填充构件3、4、5还具有填充产品出口15和它们相应的填充产品管线13与环形管线10的接口16。在常规填充操作中,填充产品2从环形管线10经由接口16通过填充产品管线13被引导到填充产品出口15并且此时不仅流经流量测量装置7而且流经填充阀8。这样,能够通过相应的填充构件3、4、5有效地填充各个容器(未示出)。
62.为了确定流过特定的填充阀8的填充产品的体积,在每个填充构件3、4、5中或之前设置有流量测量装置7。流量测量装置7各自与控制器耦合,该控制器基于由相应分配的流量测量装置7传输的信号,依赖于所测量的填充产品流量并因此依赖于流入容器中的全部填充产品来控制填充阀8的打开和关闭。
63.为了可以在所有填充构件3、4、5处实现均匀灌装,并且尤其是可以在所有填充构件3、4、5处不依赖于相应的流量测量装置7的测量精度的偏差及其在灌装设备1中的具体安装情况而灌装基本相同的体积,有利的是,将流量测量装置7校准到一个或多个参考体积流量。
64.尤其有利的是,考虑各个流量测量装置7的平均测量误差并将各个填充构件3、4、5的各个流量测量装置7如此校准到参考体积流量,使得填充产品的实际灌装体积的偏差不再依赖于各个填充构件的各个流量测量装置7的各个平均测量误差,而在此仅可重复性起作用。换句话说,通过将各个流量测量装置7校准到参考体积流量,可以实现灌装均匀性的改进。
65.为此,在所提出的实施例中填充构件3、4、5中的一个被选为参考填充构件。这里,填充构件3例示性用作参考填充构件并且在下文中也被称为

参考填充构件3

。应注意的是,参考填充构件3的结构与灌装设备1的其他填充构件4、5没有区别。更确切地说,参考填充构件3在常规灌装操作中,也像每一个其他的填充构件3、4、5一样,用于填充待填充容器。
66.所有其他填充构件4、5进一步通过环形管线10与参考填充构件3并联连接,至少当从中心管线9进行观察时。然而,如果填充产品流通过参考填充构件3进入环形管线10中,则相应的其他填充构件4、5从参考填充构件3观察分别串联连接。换句话说,在这样的设计中,填充产品通过参考填充构件3流入环形管线10中,然后通过未被选为参考填充构件3的一个或多个其余的填充构件4、5再次从环形管线10中流出。
67.相应地,参考填充构件3可以使用分配给其的流量测量装置7提供参考填充产品流,该参考填充产品流可以随后由另外的填充构件4、5引导,以便这样实现另外的填充构件4、5的流量测量装置7针对参考填充产品流的校准。
68.填充构件3、4、5具有多个通道,这些通道设置成不仅通过填充产品管线供应实际填充产品,而且导入和导出气体和其他介质。
69.例如,为了保证低氧灌装,在用填充产品实际填充之前先用co2冲洗容器,从而可以相应地设置用于供应co2的冲洗气体通道。此外,可以在灌装碳酸填充产品时在导入填充产品之前用通过偏置气体通道供应的co2偏置容器,以便减少co2从充填产品中的过量释放以及随之产生的在充填时的发泡。在实际填充期间,由填充产品从容器中排挤出的气体可以通过回气通道被导出。
70.此外,通常在填充构件3、4、5中分别设置有至少一个清洁介质通道,借助该清洁介
质通道可以将清洁介质通过填充构件导入,并且在这里例如通过关闭填充产品出口可以构成由填充产品管线和清洁介质通道形成的回路,该回路实现了对填充产品的填充产品接触区域的

就地清洁

(cip,cleaning in place)式清洁。
71.例如,在参考填充构件3中集成有清洁介质通道12,该清洁介质通道12用于在清洁阶段中清洁填充构件。在作为参考填充构件3的功能中,清洁介质通道12设置为参考管线6。
72.在图2a中示意性示出了填充构件3、4、5。根据本公开的校准方法通过虚线或点划线表示如下。
73.首先,与灌装方向相反地将参考流量fr导入到参考填充构件3。参考流量fr在点p1处通过参考填充构件3的流量测量装置7,该流量测量装置7然后输出参考测量值vr,如离开流量测量装置7的箭头所示。
74.随后,参考流量fr通过环形管线10进入第一填充构件4,如虚线所示。随着进入第一填充构件4中,参考流量fr被称为第一填充流量ff1。因此,参考流量fr等于第一填充流量ff1。第一填充流量ff1在点p2处通过第一填充构件3的流量测量装置7,该流量测量装置7然后输出第一填充构件测量值vf1,如离开流量测量装置7的箭头所示。
75.将参考流量导入到第一填充构件4中是通过以下方式实现的,即,仅参考填充构件3和第一填充构件4打开,而所有其他填充构件5关闭。为了确保参考流量fr实际施加到第一填充构件4,还确保的是,所涉及的所有填充产品管线都被完全填充,也就是说,尤其是填充构件的环形管线10、中心管线9和填充产品管线13。
76.通过将第一填充构件测量值vf1与参考测量值vr进行比较来确定第一校准参数c1。该第一校准参数c1可以用于在给定的参考流量fr下确定第一填充构件4的流量测量装置7的平均测量误差,以便因此相应地适配在灌装操作中离开第一填充构件4的灌装量并因此通过补偿平均测量误差来改善灌装结果。
77.第一校准参数c1可以例如给定为c1=vf1/vr,从而在灌装操作中灌装时通过乘以校准参数重新测量vf1即可得出参考值。
78.一旦已知第一填充构件4的第一校准参数c1,就关闭第一填充构件4并将参考流量fr导入到第二填充构件5,如点划线所示。随着进入第二填充构件5,参考流量fr被称为第二填充流量ff2。因此,参考流量fr也等于第二填充流量ff2。第二填充流量ff2在点p3处通过第二填充构件5的流量测量装置7,该流量测量装置7然后输出第二填充构件测量值vf2,如离开流量测量装置7的箭头所示。通过将第二填充构件测量值vf2与参考测量值vr进行比较来确定第二校准参数c2。该第二校准参数c2可以用于更精确地确定第二填充构件5的流量测量装置7的测量偏差,以便因此相应地适配在灌装操作中离开第二填充构件5的灌装量并因此改善灌装结果。
79.如图2b中示意性所示,然后可以针对灌装设备的所有填充构件21逐渐地执行这些步骤,从而针对每个填充构件存在校准参数,该校准参数然后可以用于相应灌装量的单独适配。
80.还可以在其他参考流量下确定另外的校准参数,以便考虑流量测量装置7在不同流量下的任何非线性。换句话说,可以针对每个填充构件确定多个校准参数,这些校准参数然后根据预定的期望流量予以使用。
81.在图3中示出了一个具体实施方式中的参考填充构件3和第一填充构件4。两个填
充构件3、4通过它们的填充产品管线13与环形管线10的接口16并因此也通过环形管线10彼此串联。
82.参考填充构件3与第一填充构件4的不同仅在于,在填充产品出口15处布置有封闭盖11。这防止流体会不依赖于填充阀8的切换而离开参考填充构件3。对于在当前情况下处理的校准,在清洁介质通道12的接口17处提供填充产品以构成参考流量fr。该参考流量fr通过构成为参考管线6的清洁介质通道12流入参考填充构件3中。参考流量fr的流动方向由参考填充构件3中的箭头表示。
83.在参考流量fr已通过参考填充构件3的填充阀8之后,参考流量fr由封闭盖11偏转到填充产品管线13中并且现在与在常规填充操作中设置的灌装方向相反地流过填充产品管线13并且此时也流过流量测量装置7。在与环形管线的接口16处,参考流量fr然后离开参考填充构件3并进入环形管线10中。
84.一旦参考流速fr被施加到第一填充构件4,参考流速fr就被称为第一填充流速ff1。第一填充流量ff1在与第一填充构件4的环形管线10的接口16处进入第一填充构件4中并且沿着填充产品管线13被引导。因此,填充流量ff1对应于常规灌装方向流过第一填充构件4的流量测量装置7。在第一填充流量ff1已通过第一填充构件4的填充阀8之后,第一填充流量ff1在填充产品出口15处离开第一填充构件4。由于不存在封闭盖11,此处不会发生方向反转。第一填充构件4的清洁介质通道12在此处处理的校准工艺中没有作用。
85.通过用参考填充构件3中的流量测量装置7测量参考流量fr并且随后在第一填充构件4的流量测量装置7中测量填充流量ff1,可以确定校准参数c1,例如作为用于第一填充构件4的vf1/vr。
86.校准参数的这种确定也可以以与上述相同的方式针对多个不同的参考流量fr1、fr2、...执行,以便考虑各个流量测量装置7在不同流量下的行为。然后,在灌装操作中基于由灌装设备指定或期望的填充产品流来选择分别针对各个填充构件所确定的校准参数c11、c12、c21、c22。
87.这也可以针对不是参考填充构件的所有其他填充构件执行。
88.在随后的灌装操作中,然后可以借助针对每个填充构件单独确定的校准参数使相应的填充构件的流量彼此匹配。例如,可以因此实现的是,不依赖于相应的流量测量装置的各个信号,在指定期望的填充体积时,最终在所有填充构件处的各个流量测量装置的测量的可重复性的框架内将基本上相同的体积输出到相应的容器中。
89.在图4中示意性示出了另一灌装设备1。作为上述方法的替代,该另一灌装设备1通过单独的流量校准装置18进行校准。该流量校准装置18实现了调节并且与布置在环形管线10中的相应的填充构件中的流量测量装置7通信,以便依赖于相应测量的测量流量值增加对测量偏差的了解。在技术上合理的情况下,上述公开可以完全应用于本实施方式。
90.在图5中示意性示出了另一灌装设备1。该另一灌装设备1在其环形管线10中具有不同的中断器19。这些中断器19分别布置在两个填充构件之后,以便中断填充产品在环形管线10中的进一步流动。此外,设置有桥接管线20,这些桥接管线20在每两个相邻的填充构件的填充产品出口之间提供连接并因此桥接相应的中断器19。因此,尽管有中断器19,也可以实现各个填充构件之间的通信。
91.这样确保的是,参考流量fr流经多个或甚至所有填充构件,由此可以精确地确定
每个流量测量装置7或填充构件的各自主要的测量误差,因为在所有流量测量装置7中存在相同的参考流量。在技术上合理的情况下,上述公开可以完全应用于本实施方式。
92.在适用的情况下,可以在不脱离本发明的范围的情况下将实施例中示出的所有单独特征相互组合和/或交换。
93.附图标记说明:
[0094]1ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
灌装设备
[0095]2ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
填充产品
[0096]3ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
填充构件/参考填充构件
[0097]4ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
填充构件
[0098]5ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
填充构件
[0099]6ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
参考管线
[0100]7ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
流量测量装置
[0101]8ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
填充阀
[0102]9ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
中心管线
[0103]
10
ꢀꢀꢀꢀꢀ
环形管线
[0104]
11
ꢀꢀꢀꢀꢀ
封闭盖
[0105]
12
ꢀꢀꢀꢀꢀ
清洁介质通道
[0106]
13
ꢀꢀꢀꢀꢀ
填充产品管线
[0107]
15
ꢀꢀꢀꢀꢀ
填充产品出口
[0108]
16
ꢀꢀꢀꢀꢀ
与环形管的接口
[0109]
17
ꢀꢀꢀꢀꢀ
与冲洗储存器的接口
[0110]
18
ꢀꢀꢀꢀꢀ
流量校准装置
[0111]
19
ꢀꢀꢀꢀꢀ
中断器
[0112]
20
ꢀꢀꢀꢀꢀ
桥接管线
[0113]
21
ꢀꢀꢀꢀꢀ
另外的填充构件
[0114]
vf1
ꢀꢀꢀꢀ
第一填充构件测量值
[0115]
vf2
ꢀꢀꢀꢀ
第二填充构件测量值
[0116]
fr
ꢀꢀꢀꢀꢀ
参考流量
[0117]
fr1
ꢀꢀꢀꢀ
第一参考流量
[0118]
fr2
ꢀꢀꢀꢀ
第二参考流量
[0119]
c1
ꢀꢀꢀꢀꢀ
第一校准参数
[0120]
c2
ꢀꢀꢀꢀꢀ
第二校准参数
[0121]
c11
ꢀꢀꢀꢀ
第一填充构件在第一参考流量下的校准参数
[0122]
c12
ꢀꢀꢀꢀ
第一填充构件在第二参考流量下的校准参数
[0123]
c21
ꢀꢀꢀꢀ
第二填充构件在第一参考流量下的校准参数
[0124]
c22
ꢀꢀꢀꢀ
第二填充构件在第二参考流量下的校准参数
[0125]
p1
ꢀꢀꢀꢀꢀ
点1
[0126]
p2
ꢀꢀꢀꢀꢀ
点2
[0127]
p3
ꢀꢀꢀꢀꢀ
点3
再多了解一些

本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

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