一种防静电型多颜色多膜种离型膜及其生产方法与流程

1.本发明涉及离型膜生产技术领域，具体为一种防静电型多颜色多膜种离型膜及其生产方法。


背景技术：

2.离型膜又称隔离膜，保护膜，是指表面具有分离性的薄膜，通常情况下是为了增加塑料薄膜的离型力，离型膜目前被广泛应用于包装、印刷、丝印、移印、铭板、薄膜开关、柔性线路、绝缘制品、线路板、激光防伪、贴合、电子产品、密封材料用膜、反光材料、防水材料、膏药用纸、卫生用纸、胶粘制品、模切冲型加工等行业领域，因此需要使用到防静电型多颜色多膜种离型膜及其生产方法以便满足生产需求。
3.经检索，专利公告号为cn1315961c公开了一种离型涂布膜及其生产方法，由基材及基材表面涂覆的离型涂料层构成，所述的基材为塑料薄膜，所述的离型涂料层由溶剂型有机硅涂料涂覆并烘干及固化形成，所述的溶剂型有机硅涂料通过含有下述重量含量的原料配制成：固含量为20-40％的有机硅氧烷涂料10-70％、有机溶剂29.5-89.5％、催化剂0.03-0.1％、单一硅锚固剂0.03-0.1％和架桥剂0.1-0.7％；所述的基材塑料薄膜的厚度为8-250μm。
4.现有的防静电型多颜色多膜种离型膜及其生产方法存在的缺陷：1、目前的防静电型多颜色多膜种离型膜抗粘性较为一般，在生产后使离型膜在卷收时容易发生粘连的情况，导致容易使离型膜发生破裂的情况，降低了物料质量，给生产加工带来较多的麻烦。
5.2、一般的防静电型多颜色多膜种离型膜张力较为一般，降低了印刷油墨或真空镀铝层对离型膜表面的附着力，导致无法进行印刷或者镀铝操作，降低了适用范围，给使用带来较多的不便。


技术实现要素：

6.本发明的目的在于提供一种高效复合型净水剂及加工方法，以解决上述背景技术中提出的问题。
7.为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种防静电型多颜色多膜种离型膜，它的主要成分是含硅母料切片、有光切片、添加剂、聚乙烯、二氧化钛、聚对苯二甲酸乙二醇酯、长链烷烃有机溶剂、六氟乙烯基甲基硅氧烷、有机铂络合物、颜料。
8.一种防静电型多颜色多膜种离型膜的生产方法，包括步骤一，选取原料；步骤二，原料混合；步骤三，表面处理；步骤四，烘干；步骤五，卷收分切；其中上述步骤一中，工作人员按照需求选取含硅母料切片、有光切片、添加剂、聚乙烯、二氧化钛、聚对苯二甲酸乙二醇酯、长链烷烃有机溶剂、六氟乙烯基甲基硅氧烷、有机铂络合物、颜料；其中上述步骤二中，工作人员将含硅母料切片导入至高温熔炼炉内，在加入添加
剂与含硅母料切片进行加热混合，然后加入有光切片至高温熔炼炉，与含硅母料切片进行混合，再将二氧化钛与聚乙烯添加至高温熔炼炉内继续进行混合操作，然后加入颜料，将混合后的物料进行预结晶，然后在预结晶后进行干燥工序，将干燥后的物料加入双螺杆挤出机内，进行熔融挤出得到半成品膜，将半成品膜进行拉伸；其中上述步骤三中，工作人员将选取的六氟乙烯基甲基硅氧烷与长链烷烃有机溶剂导入至混合罐内，通过搅拌器对其进行搅拌混合，使六氟乙烯基甲基硅氧烷溶解于长链烷烃有机溶剂中，制得六氟乙烯基甲基硅氧烷溶液，静置2min后加入有机铂络合物，通过搅拌器将有机铂络合物与六氟乙烯基甲基硅氧烷溶液进行搅拌混合，然后将混合后的六氟乙烯基甲基硅氧烷溶液涂布到制得的半成品膜表面，进行均匀涂布；其中上述步骤四中，工作人员将步骤三中涂布有的半成品膜导入烘干箱的烘道，进行烘干操作，经过烘干后形成六氟甲基硅氧烷皮膜的防粘隔离层，静置后制得成品；其中上述步骤五中，将步骤四中获得的带有防粘隔离层的成品导入至收卷机进行卷收，通过张力控制辊、展平辊、跟踪辊，最后完成收卷工作，在收卷的过程中利用电晕处理机进行电晕处理，将电晕处理收卷的成品从收卷机卸下的大膜卷，根据标准要求，在分切机上切成一定的规格，然后经过检验、包装转运至仓库进行储存。
9.优选的，所述步骤一中的添加剂是由二氧化硅、碳酸钙、硫酸钡、高岭土混合而成。
10.优选的，所述步骤二中的预结晶与干燥工序采用带有结晶床的填充塔，同时配有干空气制备装置，包括空压机、分子筛去湿器、加热器，预结晶和干燥温度控制带在150℃至170℃之间，干燥的时间为3h至4h。
11.优选的，所述步骤二中的拉伸利用横拉机进行横向拉伸，在横向拉伸后进行热定型处理，热定型温度选择pet结晶速率最大的温度段，即190℃至230℃，热定型时间3至6s，热定型后进行热松弛处理，最后进入冷却段风冷至100℃以下，在步骤四中的烘干操作入烘道时，控制行进速度，使其匀速行进，在步骤五中的电晕处理通过在电极上施加高频高压电流，使电极产生电晕放电，气体电离产生高能离子，在强电场作用下冲击塑料薄膜表面，使薄膜表面活化，以增加薄膜的表面湿张力。
12.与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明的通过六氟乙烯基甲基硅氧烷溶液涂布到聚酯薄膜的表面，在离型膜表面形成六氟甲基硅氧烷皮膜的防粘隔离层，防粘隔离效果优异、不粘卷，抗张强度高，防粘隔离层不会损失，工艺简单、具有经济价值，通过选用含硅母料切片与有光切片配用，其作用是通过母料切片中的二氧化硅微粒在薄膜中均匀分布，以增加薄膜表面微观上的粗糙度，收卷时薄膜之间可容纳少量的空气，可防止薄膜黏连，加强了抗粘效果，通过电晕处理的表面张力可达0.50—0.55 n / m，可以有效的提高印刷油墨或真空镀铝层对离型膜表面的附着力，提高了使用效果。
附图说明
13.图1为本发明的流程图。
具体实施方式
14.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完
整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
15.在本发明的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
16.在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
17.请参阅图1，本发明提供的一种实施例：实施例1一种防静电型多颜色多膜种离型膜，它的主要成分是含硅母料切片、有光切片、添加剂、聚乙烯、二氧化钛、聚对苯二甲酸乙二醇酯、长链烷烃有机溶剂、六氟乙烯基甲基硅氧烷、有机铂络合物、颜料。
18.一种防静电型多颜色多膜种离型膜的生产方法，包括步骤一，选取原料；步骤二，原料混合；步骤三，表面处理；步骤四，烘干；步骤五，卷收分切；其中上述步骤一中，工作人员按照需求选取含硅母料切片、有光切片、添加剂、聚乙烯、二氧化钛、聚对苯二甲酸乙二醇酯、长链烷烃有机溶剂、六氟乙烯基甲基硅氧烷、有机铂络合物、颜料；其中上述步骤二中，工作人员将含硅母料切片导入至高温熔炼炉内，在加入添加剂与含硅母料切片进行加热混合，然后加入有光切片至高温熔炼炉，与含硅母料切片进行混合，再将二氧化钛与聚乙烯添加至高温熔炼炉内继续进行混合操作，然后加入颜料，将混合后的物料进行预结晶，然后在预结晶后进行干燥工序，将干燥后的物料加入双螺杆挤出机内，进行熔融挤出得到半成品膜，将半成品膜进行拉伸；其中上述步骤三中，工作人员将选取的六氟乙烯基甲基硅氧烷与长链烷烃有机溶剂导入至混合罐内，通过搅拌器对其进行搅拌混合，使六氟乙烯基甲基硅氧烷溶解于长链烷烃有机溶剂中，制得六氟乙烯基甲基硅氧烷溶液，静置2min后加入有机铂络合物，通过搅拌器将有机铂络合物与六氟乙烯基甲基硅氧烷溶液进行搅拌混合，然后将混合后的六氟乙烯基甲基硅氧烷溶液涂布到制得的半成品膜表面，进行均匀涂布；其中上述步骤四中，工作人员将步骤三中涂布有的半成品膜导入烘干箱的烘道，进行烘干操作，经过烘干后形成六氟甲基硅氧烷皮膜的防粘隔离层，静置后制得成品；其中上述步骤五中，将步骤四中获得的带有防粘隔离层的成品导入至收卷机进行卷收，通过张力控制辊、展平辊、跟踪辊，最后完成收卷工作，在收卷的过程中利用电晕处理机进行电晕处理，将电晕处理收卷的成品从收卷机卸下的大膜卷，根据标准要求，在分切机上切成一定的规格，然后经过检验、包装转运至仓库进行储存。
19.实施例2步骤一中的添加剂是由二氧化硅、碳酸钙、硫酸钡、高岭土混合而成；步骤二中的预结晶与干燥工序采用带有结晶床的填充塔，同时配有干空气制备装置，包括空压机、分子筛去湿器、加热器，预结晶和干燥温度控制带在150℃至170℃之间，干燥的时间为3h至4h；步骤二中的拉伸利用横拉机进行横向拉伸，在横向拉伸后进行热定型处理，热定型温度选择pet结晶速率最大的温度段，即190℃至230℃，热定型时间3至6s，热定型后进行热松弛处理，最后进入冷却段风冷至100℃以下，在步骤四中的烘干操作入烘道时，控制行进速度，使其匀速行进，在步骤五中的电晕处理通过在电极上施加高频高压电流，使电极产生电晕放电，气体电离产生高能离子，在强电场作用下冲击塑料薄膜表面，使薄膜表面活化，以增加薄膜的表面湿张力。本发明未详述之处，均为本领域技术人员的公知技术。
20.最后所要说明的是：以上具体实施方式仅用以说明本发明的技术方案而非限制，尽管参照实施例对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改和等同替换，而不脱离本发明技术方案的精神和范围，其均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。