技术特征：
1.一种坩埚盖，其特征在于，所述坩埚盖包括：盖片，具有第一开口；喷嘴，在所述盖片的一侧与所述第一开口的边缘连接；螺旋结构，在所述第一开口之外的区域且在所述盖片背离所述喷嘴一侧与所述盖片连接；所述螺旋结构在所述盖片的正投影与所述第一开口具有交叠。2.根据权利要求1所述的坩埚盖，其特征在于，所述螺旋结构包括：至少一组螺旋叶片。3.根据权利要求2所述的坩埚盖，其特征在于，所述至少一组螺旋叶片在所述盖片的正投影覆盖所述第一开口。4.根据权利要求3所述的坩埚盖，其特征在于，所述螺旋叶片的螺旋轴线在所述盖片的正投影与所述第一开口的中心重合。5.根据权利要求2～4任一项所述的坩埚盖，其特征在于，在所述螺旋叶片的螺旋轴线延伸方向上，每层所述螺旋叶片的高度大于等于1厘米且小于等于1.5厘米。6.一种蒸镀坩埚，其特征在于，所述蒸镀坩埚包括：坩埚本体，以及根据权利要求1～5任一项所述的坩埚盖；所述坩埚盖与所述坩埚本体盖合。7.根据权利要求6所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述螺旋结构在所述盖片的正投影的形状与所述坩埚本体横截面的形状相似。8.根据权利要求7所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述螺旋结构与所述坩埚本体内壁之间的间隙小于等于1.5毫米。9.根据权利要求8所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述螺旋结构靠近所述坩埚本体底部的一端与所述坩埚本体的侧壁接触。10.一种蒸镀设备，其特征在于，包括根据权利要求6～9任一项所述的蒸镀坩埚。
技术总结
本申请公开了一种坩埚盖、蒸镀坩埚及蒸镀设备，用以提高蒸镀稳定性、提升蒸镀品质。本申请实施例提供的一种坩埚盖，坩埚盖包括：盖片，具有第一开口；喷嘴，在盖片的一侧与第一开口的边缘连接；螺旋结构，在第一开口之外的区域且在盖片背离喷嘴一侧与盖片连接；螺旋结构在盖片的正投影与第一开口具有交叠。盖片的正投影与第一开口具有交叠。盖片的正投影与第一开口具有交叠。
技术研发人员：晋亚杰 肖昂 罗楠 加新星 刘金彪 胡斌 李靖 刘文豪 姬磊 李元星 周杰 兰代江 李端瑞 党博谭 刘飞 祁泽宙 刘雅楼
受保护的技术使用者：成都京东方光电科技有限公司
技术研发日：2022.02.25
技术公布日：2022/5/17
再多了解一些
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