一种高纯铱的制备方法与流程

技术特征：
1.一种高纯铱的制备方法，其特征在于：所述方法步骤如下：(1)将铱原料与三氟化氮在50℃～500℃下进行氟化反应，生成氟化铱和氮气；铱原料三氟化氮的摩尔比为2:1～1:4；(2)将氟化铱进行纯化处理，得到纯化后的氟化铱，纯度为99.9％～99.9999％；(3)利用化学气相沉积将纯化后的氟化铱与氢气进行反应，生成厚度为4.0mm～80.0mm高纯铱沉积在基体材料上；氢气与氟化铱的摩尔比为7:1～1:1，反应温度为450℃～1000℃，反应压力为0.01mpa～0.3mpa，基体材料为铜、铱、钨、镍、钛、不锈钢或合金。2.根据权利要求1所述的一种高纯铱的制备方法，其特征在于：所述铱原料为铱粉、铱条、铱块或铱碎料。3.根据权利要求1所述的一种高纯铱的制备方法，其特征在于：所述三氟化氮反应前进行预热，预热温度为10℃～200℃，压力为0.01mpa～2.0mpa，预热时间为30min～200min。4.根据权利要求1所述的一种高纯铱的制备方法，其特征在于：所述铱原料为铱粉、铱条、铱块或铱碎料；所述三氟化氮反应前进行预热，预热温度为10℃～200℃，压力为0.01mpa～2.0mpa，预热时间为30min～200min。5.根据权利要求1～4任意一项所述的一种高纯铱的制备方法，其特征在于：所述纯化的具体步骤为：将氟化铱通入精馏釜中，温度在55℃～180℃，压力在0.01mpa～1.5mpa，从精馏釜中气化的氟化铱，再进入到冷凝器中进行冷凝液化；冷凝器的温度为44℃～54℃；被液化的氟化铱通过液相回流又到达精馏釜中，轻组分杂质停留在冷凝器中，抽真空去除杂质。

技术总结
本发明涉及一种高纯铱的制备方法，属于难熔金属制备领域。所述方法通过将铱原料与三氟化氮在50～500℃下进行氟化反应，生成氟化铱和氮气；得到的氟化铱进行纯化处理，得到纯化后纯度为99.9～99.9999％的氟化铱；再利用化学气相沉积将纯化后的氟化铱与氢气进行反应，生成的高纯铱沉积在基体材料上，得到厚度为4.0～80.0mm的高纯铱。所述方法需要设备种类少，步骤简单，工艺稳定，能够批量化生产，制得高纯铱纯度提升至99.999％以上，达到国际领先水平；得到毫米级的厚度的高纯铱能够实现切割基材，突破了CVD工艺还只是制备铱薄膜或涂层的技术壁垒，有效拓宽了高纯铱产品的应用领域。域。


技术研发人员：王亚峰 王占卫 彭立培 林坤 冀嘉梁 童莹 张长金 郭晓彬
受保护的技术使用者：中国船舶重工集团公司第七一八研究所
技术研发日：2021.10.27
技术公布日：2022/5/10