一种基片转运装置的制作方法

本申请涉及基片加工设备技术领域，具体涉及一种基片转运装置。

背景技术

半导体基片、Micro-LED外延片基片作为微透镜阵列曝光加工的常用材料，其在加工的过程中，通常需要在不同的加工区域(匀胶区域、烘干区域和曝光区域等)内进行转运，以实现对晶圆或基片进行不同类型的加工处理。

目前，对基片加工过程中的转运主要采用搬运机器人进行夹取，其成本较高，而且转运过程中振动现象明显且基片的位姿变化幅度大，因此无法保证基片的质量，此外，搬运机器人搬运的过程中，基片直接暴露在空气中，造成基片上的光刻胶容易因附着上空气中的颗粒物而被污染，从而导致基片加工工艺所需的光刻精度及基片的品质无法得到保证。

针对上述问题，现有技术主要通过建立无尘室的方法来进行解决，该方法中，基片的转运均在无尘室中进行，然而无尘室的建造需要高额成本，此外，使用过程中，无尘室需要耗费大量电力、能源耗费严重且维护成本极高，不利于提升生产效益。

鉴于此，基片加工过程中，如何可靠地对基片进行固定并避免基片出现机械损伤以及如何保持基片的清洁度是目前行业内亟待解决的问题。

技术实现要素：

本申请的目的在于克服背景技术中存在的上述缺陷或问题，提供一种基片转运装置，其能够可靠地对基片进行转运，降低基片受损风险，以及保证基片及其表面上的光刻胶的清洁度。

为达成上述目的，采用如下技术方案：

第一技术方案涉及一种基片转运装置，包括真空发生器、气体吹送器、转运机构和吹扫器，所述转运机构包括托架；所述托架适于平移，设有用于承载基片的承载面；所述承载面设有若干吸附孔，各所述吸附孔均连通所述真空发生器；所述吹扫器安装于所述托架且设有吹气通道；所述吹气通道连通所述气体吹送器，所述吹气通道相对所述承载面倾斜朝上延伸且出气口朝向所述承载面所在一侧；所述吹气通道的出气口的下端设有倾斜朝下的第一导风面；所述第一导风面所在平面与所述承载面所在平面的交线相对吸附于所述承载面上的基片的任意部位均较靠近于所述吹气通道的出气口。

第二技术方案：其基于第一技术方案，所述吹气通道的出气口为水平延伸的长条形开口，所述吹气通道的长度延伸方向与所述吹气通道的延伸方向垂直。

第三技术方案：其基于第二技术方案，所述吹气通道的出气口的上端设有第二导风面；所述第二导风面所在的平面相对所述吹气通道的延伸方向倾斜朝上。

第四技术方案：其基于第三技术方案，所述吹扫器包括吹气件和俯仰动力元件；所述吹气件上设有所述吹气通道；所述俯仰动力元件装设于所述托架，所述俯仰动力元件的输出端与所述吹气件上远离所述吹气通道的出气口的部分固接且适于带动所述吹气件绕与所述吹气通道的延伸方向垂直的水平轴线在预设角度范围内转动；所述吹气件转动时，所述第一导风面所在平面与所述承载面所在平面的交线始终相对基片上的任意部位较靠近于所述吹气通道的出气口。

第五技术方案：其基于第一至第四技术方案中的任一个，还包括真空压力传感器和节流阀及控制器；所述真空压力传感器装设于所述真空发生器且用于检测所述真空发生器工作时的真空度；所述节流阀装设于所述真空发生器的正压气源端；所述控制器与所述真空压力传感器和所述节流阀均电连接，用于接收所述真空压力传感器的信号，并在满足控制条件时控制所述节流阀工作。

第六技术方案：其基于第五技术方案，还包括粉尘传感器；所述粉尘传感器装设于所述托架且适于检测空气中的颗粒物浓度；所述控制器还与所述俯仰动力元件和所述粉尘传感器电连接，用于基于所述粉尘传感器的信号控制所述气体吹送器和所述俯仰动力元件以预设模式工作；所述预设模式包括所述气体吹送器的气体吹送量及所述俯仰动力元件输出端的转动角度和转动速度。

第七技术方案：其基于第五技术方案，还包括与所述控制器电连接的水平传感器；所述水平传感器装设于所述托架，用于检测所述承载面的水平度；所述转运机构还包括移动主体和转动动力元件；所述转动动力元件装设于所述移动主体且适于由所述移动主体带动平移，所述转动动力元件的输出端与所述托架固接且适于带动所述托架绕水平轴向转动；所述控制器还适于基于所述水平传感器的信号控制所述转动动力元件运行以使所述承载面始终保持水平。

第八技术方案：其基于第七技术方案，所述托架包括固定座和托臂；所述固定座与所述转动动力元件的输出端固接；所述托臂沿平行于所述转动动力元件的输出端的转动轴的方向延伸，其一端与所述固定座固接，其另一端的上表面设有所述承载面。

第九技术方案：其基于第七技术方案，还包括机架；所述移动主体包括第一水平驱动组件、竖向驱动组件、第二水平驱动组件、第一移动座、第二移动座和第三移动座；所述第一水平驱动组件装设于所述机架，其输出端与所述第一移动座固接且适于带动所述第一移动座沿水平的第一方向移动；所述竖向驱动组件装设于所述第一移动座，其输出端与所述第二移动座固接且适于带动所述第二移动座沿竖直方向移动；所述第二水平驱动组件装设于所述第二移动座，其输出端与所述第三移动座固接且适于带动所述第三移动座沿与所述第一方向垂直的水平的第二方向移动；所述转动动力元件装设于所述第三移动座。

第十技术方案：其基于第八技术方案，还包括与所述控制器电连接的振动传感器；所述振动传感器装设于所述托架且适于检测所述托架的振动情况；所述控制器适于接收所述振动传感器的信号，并在满足控制条件时控制所述气体吹送器、所述俯仰动力元件、所述转动动力元件和所述移动主体停止运行。

相对于现有技术，上述方案具有的如下有益效果：

1.第一技术方案中，托架设有承载面，承载面设有若干吸附孔，各吸附孔均连通真空发生器，因此，基片在放置于承载面上时，通过开启真空发生器，使真空发生器对各吸附孔内的空气进行抽吸并使各吸附孔内部呈现真空状态，即可使基片在大气压力的作用下可靠地吸附于托架的承载面上，以真空吸附的固定方式，对基片造成损伤的风险小，因而有利于确保基片的品质。

2.第一技术方案中，吹扫器设有吹气通道，吹气通道相对承载面倾斜朝上延伸且连通气体吹送器，吹气通道的出气口朝向承载面一侧，吹气通道的出气口下端设有倾斜朝下的第一导风面；转运的过程中，通过开启气体吹送器，吹气通道即可朝向承载面一侧吹送气体并在承载面的上方空间形成可靠的气流屏障，具体来讲，由吹气通道输出的气流主要分成两个部分，其中一部分气流由吹气通道的出气口直接倾斜朝上输出并逐渐扩散，这一部分的气流的流速较大，因而能够有效地阻止空气进入该气流的流动路径内；另一部分气流则在第一导风面的导向下倾斜朝下流动并逐渐扩散，由于第一导风面所在平面与承载面所在平面的交线相对吸附于承载面上的基片的任意部位均较靠近于吹气通道的出气口，因此，由第一导风面导出的气流能够完全覆盖承载面上的基片并在基片表面形成可靠的气流屏障，此外，这一部分的气流还能够防止外部空气因吹气通道出气口输出流速较大的气流形成负压现象而被吸入至承载面的上方区域内，因此，本技术方案中，由吹气通道吹出的气流能够在承载面的上方区域形成可靠地气流屏障，从而能够有效地阻止空气到达承载面及基片，并能够防止空气中的颗粒物落至基片表面的光刻胶上，保证基片表面的清洁度、光刻精度及基片的品质，结构简单、制造成本较低。

3.在实际应用中，基片在匀胶工序、烘干工序和曝光工序依次流转的过程中，由于位于基片上表面的光刻胶始终处于未干或未完全干透的状态，这个情况下，基片上表面的光刻胶如果受到流速较大的气流的吹拂，其会出现表面的胶层会快速固化而内部胶层还未来得及固化的现象，此时，光刻胶就很容易出现波纹、褶皱等缺陷，此外，如果该流速较大的气流还垂直朝向光刻胶表面吹送，那么，由于气流的压力作用还会进一步加强光刻胶的波纹、褶皱缺陷。

本申请的第一技术方案中，由吹气通道的出气口直接输出的气流倾斜朝上，该部分的气流未直接朝向承载面，因此，虽然该部分的气流流速较大，但其不会对位于基片上表面的光刻胶产生影响，因而，也就能够避免使光刻胶形成波纹和褶皱等现象；而本技术方案中，由第一导风面导出的气流虽然会完全地拂过基片上的光刻胶，但由于这一部分气流的流速较慢，倾斜朝下吹出且未直接作用于基片，因此，这一部分气流不会对光刻胶产生向下的压力，也就能够避免光刻胶出现波纹和褶皱的现象。

基于上述原因，本申请的技术方案一所提供的气流吹送方案，其在实现为基片的上方区域形成可靠的气流屏障的同时，还不会对基片上的光刻胶的质量造成影响，因此，其能够有效地保证基片表面的清洁度、光刻精度及基片的品质。

4.第一技术方案中，吹扫器装设于托架上，其占用空间小，且由于其能够随托架发生位移，因而，无论托架转运至何处，吹扫器均能够形成气流屏障以保护基片，其防护的实时性好，防护更为到位。

5.第二技术方案中，吹气通道的出气口为水平延伸的长条形开口，出气口高度方向上的尺寸较小，保证出气口具有较小的面积以形成流速较大的气流；出气口水平方向上的尺寸较大，因而由其输出的气流在水平面上能够形成较大的覆盖范围，保证气流能够覆盖于整个承载面的上方。

6.第三技术方案中，吹气通道的出气口的上端设有第二导风面，第二导风面所在的平面相对吹气通道的延伸方向倾斜朝上，其能够将气流的一部分朝向上方导出，以此扩大气流屏障在高度方向的厚度，提升气流屏障的体积，以加大对基片的防护力度。

7.第四技术方案中，吹扫器包括吹气件和俯仰动力元件，俯仰动力元件用于带动吹气件转动，进而带动吹气通道的出气口上下摆动，以此使得由吹气通道输出的气流能够在高度方向上覆盖到更大的范围，也即形成体积更大的气流屏障，从而进一步加强对基片的防护力度。

8.第五技术方案中，真空发生器上装设真空压力传感器及节流阀，控制器对真空发生器的负压值进行检测并以检测结果对真空发生器的工作状态进行控制，以此确保真空发生器始终能够为基片提供可靠的负压作用，保证基片能够可靠地被吸附并在转运过程中具有良好的稳定性。

9.第六技术方案中，控制器通过粉尘传感器反馈的空气中的颗粒物浓度信息，控制气体吹送器和俯仰动力元件以预设模式工作，如当空气中的颗粒物浓度较大时，则可以提升气体吹送器的气体吹送量，以及加大俯仰动力元件的转动范围及转动速度，而当空气中的颗粒物浓度较小时，则可以相应的减小气体吹送器的气体吹送量以及俯仰动力元件的转动范围和转动速度，如此，即可在保证形成可靠的气流防护屏障的同时，合理利用能源，减少能源浪费。

10.第七技术方案中，控制器通过水平传感器反馈的水平度信息，控制转动动力元件运动，以使基片在转运的过程中始终能够处于水平姿态并稳定地被吸附于承载面，降低基片在转运过程中因位姿发生变化而受损的概率。

11.第八技术方案中，托臂的占用空间小，因而能够进入空间狭小的区域对基片进行转运，灵活性较强。由于承载面设置于托臂远离转动动力元件的一端，其周围的阻碍较小，因此能够方便地对基片进行装载或取下。

12.第九技术方案中，第一水平驱动组件、竖向驱动组件和第二水平驱动组件能够实现带动托架进行三个维度的位置变化，其灵活度高，能够转运的范围较大，有利于满足生产需求。

13.第十技术方案中，控制器通过振动传感器反馈的信息，对转运过程中基片所处的环境状态进行监控，当振动情况超过预设的控制条件时，控制器控制气体吹送器、俯仰动力元件、转动动力元件和移动主体停止运行，以避免基片因振动强度过大而碎裂。

附图说明

为了更清楚地说明实施例的技术方案，下面简要介绍所需要使用的附图：

图1为基片转运装置实施例的局部立体分解结构示意图；

图2为基片转运装置实施例的局部立体结构示意图；

图3为基片转运装置实施例中托臂的结构示意图；

图4为基片转运装置实施例中移动主体侧面的结构示意图；

图5为基片转运装置实施例中移动主体正面的结构示意图；

图6为基片转运装置实施例中吹扫器的结构示意图；

图7为基片转运装置实施例中吹气件的剖面结构示意图。

主要附图标记说明：

转运机构1；托架11；固定座111；托臂112；安装槽1121；台阶面11211；吸气通道1122；吸盘113；承载面1131；吸附孔1132；移动主体12；第一水平驱动组件121；竖向驱动组件122；第二水平驱动组件123；第一移动座124；第二移动座125；第三移动座126；转动动力元件13；吹扫器2；吹气件21；吹气通道211；出气口2111；第一导风面212；第二导风面213；俯仰动力元件22；粉尘传感器3；水平传感器4；振动传感器5。

具体实施方式

权利要求书和说明书中，除非另有限定，术语“中心”、“横向”、“纵向”、“水平”、“垂直”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系乃基于附图所示的方位和位置关系，且仅是为了便于简化描述，而不是暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位或以特定的方位构造和操作。

权利要求书和说明书中，除非另有限定，术语“固接”或“固定连接”，应作广义理解，即两者之间没有位移关系和相对转动关系的任何连接方式，也就是说包括不可拆卸地固定连接、可拆卸地固定连接、连为一体以及通过其他装置或元件固定连接。

权利要求书和说明书中，除非另有限定，术语“包括”、“具有”以及它们的变形，意为“包含但不限于”。

下面将结合附图，对实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。

参见图1至图7，图1至图7示出了实施例中的基片转运装置。如图1至图7所示，基片转运装置包括真空发生器(图中未示出)、气体吹送器(图中未示出)、转运机构1、吹扫器2、真空传感器(图中未示出)、节流阀(图中未示出)、控制器(图中未示出)、粉尘传感器3、水平传感器4、机架(图中未示出)和振动传感器5。

真空发生器是利用正压气源产生负压并实现对空气进行抽吸的器件；气体吹送器能够输出正压气源；由于真空发生器和气体吹送器均为机械领域中分别用于抽吸空气和吹送气体的常规器件，因此，此处不对其结构进行赘述。

如图1、图2、图4和图5所示，转运机构1包括托架11、移动主体12和转动动力元件13。

托架11适于平移，其设有用于承载基片的承载面1131，承载面1131设有若干吸附孔1132，各吸附孔1132均连通真空发生器。

托架11通过移动主体12实现平移，托架11包括固定座111、托臂112和吸盘113。其中，固定座111与转动动力元件13的输出端固接，具体地，如图1和图2所示，固定座111呈L型结构，其竖直部分与转动动力元件13的输出端固接，其水平部分用于供托臂112固接。托臂112沿平行于转动动力元件13的输出端的转动轴的方向延伸，其一端与固定座111固接，其另一端的上表面设有承载面1131；具体地，如图1至图3所示，本实施例中，托臂112水平延伸且其延伸方向与固定座111的水平部分的延伸方向一致，其的一个端部置放于固定座111的水平部分上且与固定座111的该水平部分通过螺钉或螺栓等锁紧件进行固接，其另一各端部的上表面凹设有安装槽1121；安装槽1121用于供吸盘113安装及连通真空发生器，具体地，安装槽1121的侧槽壁设有环形的台阶面11211和通气孔；通气孔低于台阶面11211设置；此外，托臂112上还设有吸气通道1122，该吸气通道1122的一端用于与真空发生器通过软管连通，其另一端形成了通气孔并用于与安装槽1121连通，当真空发生器工作时，其通过吸气通道1122抽取安装槽1121及吸附孔1132内的空气；本实施例提供的托臂112的占用空间小，因而能够进入空间狭小的区域对基片进行转运，灵活性较强，又由于承载面1131设置于托臂112远离转动动力元件13的一端，其周围的阻碍较小，因此能够方便地对基片进行装载或取下。吸盘113匹配置入于安装槽1121内，其底面与台阶面11211抵接，其上设有沿竖直方向贯穿的若干的吸附孔1132，其上表面构成了承载面1131，当基片于承载面1131上放置到位且安装槽1121及吸附孔1132内的空气被抽吸时，基片上表面承受大气压力大于其下表面所受的气压，因而能够可靠地被吸附于承载面1131上。应当理解，为了提升吸盘113在托臂112上的稳定性及确保吸盘113与安装槽1121配合的密封性，本实施例中的吸盘113的周缘可以采用胶粘的方式与安装槽1121的侧槽壁和/或台阶面11211进行固接。

移动主体12适于带动托架11在XYZ三个彼此垂直的纬度内活动，三个维度的活动均为平移运动。具体地，如图4和图5所示，移动主体12包括第一水平驱动组件121、竖向驱动组件122、第二水平驱动组件123、第一移动座124、第二移动座125和第三移动座126。

其中，第一水平驱动组件121装设于机架，其输出端与第一移动座124固接且适于带动第一移动座124沿水平的第一方向移动，该第一方向可以是设置于基片的两个加工区域之间的路径。第一水平驱动组件121具体可为线性直驱电机或丝杆滑块机构，本实施例中，第一水平驱动组件121采用线性直驱电机，其驱动速度较快且位移精度更高，具体地，第一水平驱动组件121的固定部安装于机架上，其输出端沿第一方向延伸。

第一移动座124为沿竖直方向延伸的座体结构，其底端与第一水平驱动组件121的输出端固接并能够在其驱动下沿第一方向平移。优选地，本实施例中，第一移动座124的下端设有滑槽，机架的上表面设有与滑槽滑动配合且沿第一方向延伸的导轨，滑槽与导轨的配合，使得第一移动座124由机架进行支撑并能够减小第一水平驱动组件121输出端的负重，此外，其还能够实现对第一移动座124的运动进行导向，以此提升第一移动座124活动时的稳定性。

竖向驱动组件122装设于第一移动座124，其输出端与第二移动座125固接且适于带动第二移动座125沿竖直方向移动，该竖向驱动组件122具体可为线性直驱电机或丝杆滑块机构，本实施例中，竖向驱动组件122采用线性直驱电机，其驱动速度较快且位移精度更高，具体地，竖向驱动组件122的固定部安装于第一移动座124上，其输出端沿竖直方向延伸。

第二移动座125为沿水平方向延伸的座体结构，其一个侧面的中部与竖向驱动组件122的输出端固接并能够在其驱动下沿竖直方向相对第一移动座124移动。优选地，本实施例中，第二移动座125的侧面设有滑槽，第一移动座124设有与滑槽滑动配合且沿竖直方向延伸的导轨，滑槽与导轨的配合能够对第二移动座125的运动进行导向，以此实现提升第二移动座125活动时的稳定性。

第二水平驱动组件123装设于第二移动座125，其输出端与第三移动座126固接且适于带动第三移动座126沿与第一方向垂直的水平的第二方向移动。第二水平驱动组件123具体可为线性直驱电机或丝杆滑块机构，本实施例中，第二水平驱动组件123也采用线性直驱电机，其驱动速度较快且位移精度更高，具体地，第二水平驱动组件123的固定部安装于第二移动座125上，其输出端沿第二方向延伸。

第三移动座126用于供转动动力元件13安装，其呈块状结构，其一个侧面的中部与第二水平驱动组件123的输出端固接并能够在其驱动下沿第二方向相对第二移动座125移动。优选地，本实施例中，第三移动座126的侧面设有滑槽，第二移动座125设有与滑槽滑动配合且沿第二方向延伸的导轨，滑槽与导轨的配合能够对第三移动座126的运动进行导向，以此实现提升第三移动座126活动时的稳定性。

基于上述结构可知，移动主体12能够实现两个彼此垂直的水平方向和一个竖直方向的运动输出，也即，移动主体12能够带动托架11进行三个维度的位置切换，其灵活度高，能够转运的范围角度，因而能够很好地满足基片的转运需求及生产需要。

转动动力元件13装设于移动主体12且适于由移动主体12带动平移，转动动力元件13的输出端与托架11固接且适于带动托架11绕水平轴向转动。

具体地，转动动力元件13采用伺服电机或舵机，其固定部装设于第三移动座126，转动动力元件13输出轴水平延伸且延伸方向平行于第一方向，转动动力元件13输出轴的延伸方向同时还与固定座111的水平部分及托臂112的延伸方向一致。固定座111的竖直部分与转动动力元件13的输出轴固接，其适于由转动元件驱动转动，进而带动托臂112转动，以实现对承载面1131进行调平，并确保吸附于承载面1131上的基片的位姿不会发生太大的变化、降低基片受损的概率。

吹扫器2安装于托架11，其设有吹气通道211；吹气通道211连通气体吹送器，吹气通道211相对承载面1131倾斜朝上延伸且出气口2111朝向承载面1131所在一侧；吹气通道211的出气口2111的下端设有倾斜朝下的第一导风面212；第一导风面212所在平面与承载面1131所在平面的交线相对吸附于承载面1131上的基片的任意部位均较靠近于吹气通道211的出气口2111。

本实施例中，托架11设有承载面1131，承载面1131设有若干吸附孔1132，各吸附孔1132均连通真空发生器，因此，基片在放置于承载面1131上时，通过开启真空发生器，使真空发生器对各吸附孔1132内的空气进行抽吸并使各吸附孔1132内部呈现真空状态，即可使基片在大气压力的作用下可靠地吸附于托架11的承载面1131上，以真空吸附的固定方式，对基片造成损伤的风险小，因而有利于确保基片的品质。吹扫器2设有吹气通道211，吹气通道211相对承载面1131倾斜朝上延伸且连通气体吹送器，吹气通道211的出气口2111朝向承载面1131一侧，吹气通道211的出气口2111下端设有倾斜朝下的第一导风面212；转运的过程中，通过开启气体吹送器，吹气通道211即可朝向承载面1131一侧吹送气体并在承载面1131的上方空间形成可靠的气流屏障，具体来讲，由吹气通道211输出的气流主要分成两个部分，其中一部分气流由吹气通道211的出气口2111直接倾斜朝上输出并逐渐扩散，这一部分的气流的流速较大，因而能够有效地阻止空气进入该气流的流动路径内；另一部分气流则在第一导风面212的导向下倾斜朝下流动并逐渐扩散，由于第一导风面212所在平面与承载面1131所在平面的交线相对吸附于承载面1131上的基片的任意部位均较靠近于吹气通道211的出气口2111，因此，由第一导风面212导出的气流并不会直接吹向基片，相反地，由第一导风面212导出的气流能够拂过承载面1131上的基片并在基片表面形成可靠的气流屏障，并且，这一部分的气流还能够防止外部空气因吹气通道211出气口2111输出流速较大的气流形成负压现象而被吸入至承载面1131的上方区域内，因此，本技术方案中，由吹气通道211吹出的气流能够在承载面1131的上方区域形成可靠地气流屏障，从而能够有效地阻止空气到达承载面1131及基片，并能够防止空气中的颗粒物落至基片表面的光刻胶上，保证基片表面的清洁度、光刻精度及基片的品质，结构简单、制造成本较低。

在实际应用中，基片在匀胶工序、烘干工序和曝光工序间依次流转的过程中，由于位于基片上表面的光刻胶始终处于未干或未完全干透的状态，这个情况下，基片上表面的光刻胶如果受到流速较大的气流的吹拂，其会出现表面的胶层会快速固化而内部胶层还未来得及固化的现象，此时，光刻胶就很容易出现波纹、褶皱等缺陷。此外，如果该流速较大的气流还垂直朝向光刻胶表面吹送，那么，在气流的压力作用下还会更容易导致光刻胶的波纹、褶皱缺陷的出现。为了避免光刻胶出现上述缺陷，本实施例中，吹气通道211的出气口2111被设置为倾斜朝上，由吹气通道211的出气口2111直接输出的气流倾斜朝上，该部分的气流未直接朝向承载面1131，因此，虽然该部分的气流流速较大，但其不会对位于基片上表面的光刻胶产生影响，因而，也就能够避免使光刻胶形成波纹和褶皱等现象；而由第一导风面212导出的气流虽然会拂过基片上的光刻胶，但由于这一部分气流倾斜朝下吹出、流速较慢且未直接吹向基片，因此，这一部分气流不会对光刻胶产生向下的压力，也就能够避免光刻胶出现波纹和褶皱的现象。

具体地，如图1、图2、图6和图7所示，吹扫器2包括吹气件21和俯仰动力元件22。

其中，吹气件21包括固为一体的吹气部和两个连接壁；吹气部设有笔直延伸的吹气通道211，吹气通道211的进气口通过软管与气体吹送器的出气端连通，吹气通道211的出气口2111为水平延伸的长条形开口，且吹气通道211的出气口2111的长度的延伸方向与吹气通道211的延伸方向垂直，吹气通道211的出气口2111在高度方向上的尺寸较小，保证出气口2111具有较小的面积以形成流速较大的气流；出气口2111水平方向上的尺寸较大，因而由其输出的气流在水平面上能够形成较大的覆盖范围，保证气流能够覆盖于整个承载面1131的上方。吹气通道211的出气口2111的下端和上端分别设有第一导风面212和第二导风面213；第一导风面212的长度与吹气通道211的出气口2111的长度一致，第一导风面212倾斜朝下设置，其所在的平面与承载面1131所在的平面的交线相较于基片的任意部位均较靠近于吹气通道211的出气口2111，因此，第一导风面212能够将由吹气通道211的出气口2111流出的部分气流倾斜向下的导向至托臂112的上表面并使该部分气流朝向承载面1131一侧拂过基片。第二导风面213的长度与吹气通道211的出气口2111的长度一致，其和第一导风面212以垂直于吹气通道211的出气口2111的平面为对称面对称的分别与吹气通道211的出气口2111的上端和下端，即，本实施例中，第二导风面213所在的平面相对于吹气通道211的延伸方向倾斜朝上，第二导风面213能够将有吹气通道211的出气口2111输出的气流的一部分朝向上方导出，以此扩大气流屏障在高度方向的厚度，提升气流屏障的体积，以加大对基片的防护力度；在本实施例的示例中，第一导风面212和第二导风面213与吹气通道211的延伸方向的夹角可设置为30-60°。两个连接壁平行且间隔地设置于吹气部设有吹起通道的进气口的侧面，且两个连接壁均用于与俯仰动力元件22的输出端固接。

俯仰动力元件22装设于托架11，其具体可为伺服电机或舵机，其输出端沿与托臂112的长度方向垂直的水平方向延伸，且其输出端与吹气件21上远离吹气通道211的出气口2111的部分固接，其适于带动吹气件21绕与吹气通道211的延伸方向垂直的水平轴线(即托臂112的长度方向)在预设角度范围内转动，具体地，俯仰动力元件22的输出轴与两个连接壁固接，俯仰动力元件22通过驱动吹气件21转动，带动吹气通道211的出气口2111上下摆动，以此使得由吹气通道211输出的气流能够在高度方向上形成更大的覆盖范围，也形成体积更大的气流屏障，从而进一步加强对基片的防护力度。值得说明的是，吹气件21由俯仰动力元件22驱动转动时，第一导风面212所在平面与承载面1131所在平面的交线始终相对基片上的任意部位较靠近于吹气通道211的出气口2111，以此确保基片在转运的过程中其上表面始终具有流速较小的气流拂过，以阻止旁边的空气进入并防止光刻胶及基片本身被颗粒物附着和污染；应当理解，为了确保上述功能的达成，实际应用中可基于第一导风面212和吹气通道211的夹角大小以及吹气通道211的出气口2111与承载面1131之间的距离来对俯仰动力元件22的转动范围进行设置。本实施例给出的示例中，俯仰动力元件22预设的转动范围可以是10-30°，转动速度可以在0-30°/s内进行设定。

控制器构成了基片转运装置的控制中心，其与本实施例中的真空发生器、气体吹送器、第一水平驱动组件121、竖向驱动组件122、第二水平驱动组件123、转动动力元件13、俯仰动力元件22、真空传感器、节流阀、粉尘传感器3、水平传感器4及振动传感器5均电性连接，且可根据预定程序控制各元器件运行。

真空压力传感器装设于真空发生器用于形成负压的部分，其用于检测真空发生器工作时的真空度。节流阀装设于真空发生器的正压气源端，以用于控制输入的正压气源流量；由于真空压力传感器和节流阀均为本领域的常规器件，因此，其二者的结构在本实施例中不进行赘述。

本实施例中，控制器适于接收真空压力传感器的信号，并在满足控制条件时控制节流阀工作，具体控制方式为，当真空压力传感器传输给控制器的真空度值小于控制器内设定的真空度值时，控制器控制节流阀工作并增大正压气源流量直至控制器检测到与其内预设的真空度值匹配的真空度信号，也即，本实施例中，控制器能够实时监测真空发生器的负压值，并能够以监测结果对真空发生器的工作状态进行控制，并使真空发生器始终能够为基片提供可靠的负压作用，避免发生基片吸附不到位的情况，保证基片在转运过程中具有良好的稳定性。

粉尘传感器3装设于托架11，其适于检测空气中的颗粒物浓度。本实施例中，粉尘传感器3具体安装于托臂112上，为了提升粉尘传感器3的稳定性，托臂112上设有供粉尘传感器3置入的槽一，粉尘传感器3可采用胶粘的方式固定于槽一内。基于对基片的防护力度和能源节省方面考虑，本实施例中，控制器还适于基于粉尘传感器3的信号控制气体吹送器和俯仰动力元件22以预设模式工作；预设模式包括气体吹送器的气体吹送量及俯仰动力元件22输出端的转动角度和转动速度。本实施例中，预设模式可以是循环摆动模式和固定模式中的任意一种，循环摆动模式下，吹扫器2由俯仰动力元件22带动在特定角度范围内往复摆动；固定模式下，吹扫器2由俯仰动力元件22带动停滞于一特定角度。

以下将具体通过一参考示例进行说明，在该参考示例中，第一导风面212和第二导风面213与吹气通道211的延伸方向的夹角为60°；俯仰动力元件22的输出端在初始位置下，吹气通道211相对水平面的夹角为20°。

当粉尘传感器3检测到PM2.5>30时，控制器控制气体吹送器及俯仰动力元件22以循环摆动模式一或固定模式一运行。其中，在循环摆动模式一下，气体吹送器的气体吹送量为99m³/h，俯仰动力元件22的输出端相对初始位置朝上往复转动的角度为20°，转动速度为20°s。在固定模式一下，气体吹送器的气体吹送量为99m³/h，俯仰动力元件22的输出端相对初始位置朝上转动20°，吹起通道的延伸方向与水平面的夹角固定在40°。

当粉尘传感器3检测到20<PM2.5≤30时，控制器控制气体吹送器及俯仰动力元件22以循环摆动模式二或固定模式二运行。其中，在循环摆动模式二下，气体吹送器的气体吹送量为85m³/h，俯仰动力元件22的输出端相对初始位置朝上往复转动的角度为20°，转动速度为15°s。在固定模式二下，气体吹送器的气体吹送量为85m³/h，俯仰动力元件22的输出端相对初始位置朝上转动15°，吹起通道的延伸方向与水平面的夹角固定在35°。

当粉尘传感器3检测到10<PM2.5≤20时，控制器控制气体吹送器及俯仰动力元件22以循环摆动模式三或固定模式三运行。其中，在循环摆动模式三下，气体吹送器的气体吹送量为85m³/h，俯仰动力元件22的输出端相对初始位置朝上往复转动的角度为20°，转动速度为10°s。在固定模式三下，气体吹送器的气体吹送量为85m³/h，俯仰动力元件22的输出端相对初始位置朝上转动10°，吹起通道的延伸方向与水平面的夹角固定在30°。

当粉尘传感器3检测到PM2.5≤10时，控制器控制气体吹送器及俯仰动力元件22以循环摆动模式四或固定模式四运行。其中，在循环摆动模式四下，气体吹送器的气体吹送量为85m³/h，俯仰动力元件22的输出端相对初始位置朝上往复转动的角度为20°，转动速度为10°s。在固定模式四下，气体吹送器的气体吹送量为85m³/h，俯仰动力元件22的输出端相对初始位置朝上转动10°，吹起通道的延伸方向与水平面的夹角固定在30°。

本实施例中，控制器通过粉尘传感器3反馈的空气中的颗粒物浓度信息，控制气体吹送器和俯仰动力元件22以预设模式工作，如当空气中的颗粒物浓度较大时，则可以提升气体吹送器的气体吹送量，以及加大俯仰动力元件22的转动范围及转动速度，而当空气中的颗粒物浓度较小时，则可以相应的减小气体吹送器的气体吹送量以及俯仰动力元件22的转动范围和转动速度，如此，即可在保证形成可靠的气流防护屏障的同时，合理利用能源，减少能源浪费。

水平传感器4装设于托架11，其用于监测承载面1131的水平度。本实施例中，水平传感器4具体安装于托臂112上，为了提升水平传感器4的稳定性，托臂112上设有供水平传感器4置入的槽二，水平传感器4可采用胶粘的方式固定于槽二内。控制器还适于基于水平传感器4传输的信号控制动力元件运行以使承载面1131能够始终保持水平，并降低基片在转运过程中因位姿发生变化而受损的概率。

振动传感器5装设于托架11且适于检测托架11的振动情况。本实施例中，振动传感器5具体安装于托臂112上，为了提升水平传感器4的稳定性，托臂112上设有供水平传感器4置入的槽三，水平传感器4可采用胶粘的方式固定于槽三内。控制器还适于接收振动传感器5的信号，并在满足控制条件时控制气体吹送器、俯仰动力元件22、转动动力元件13和移动主体12停止运行，具体为，控制器在接收到的振动信号大于预设值时控制气体吹送器、俯仰动力元件22、转动动力元件13和移动主体12停止运行。控制器通过振动传感器5反馈的信息，对转运过程中基片所处的环境状态进行监控，以避免基片因振动强大过大而碎裂。

实际应用时，根据基片所处位置控制第一水平驱动组件121、竖向驱动组件122及第二水平驱动组件123运动，以使托臂112活动至基片下方，然后通过微调竖向驱动组件122及转动动力元件13，以使承载面1131保持水平并贴靠于基片的下表面，然后，开启真空发生器以使基片被吸附于承载面1131上，同时开启气体吹送器，即可实现对基片进行转运。

上述说明书和实施例的描述，用于解释本申请的保护范围，但并不构成对本申请保护范围的限定。