一种打磨加工抛光液过滤回流系统的制作方法

1.本实用新型涉及打磨抛光技术领域，尤其涉及一种打磨加工抛光液过滤回流系统。


背景技术：

2.工件在打磨时使用的打磨液需求量较大，而打磨液进行二次使用时，由于过滤的不够干净很容易影响工件打磨，因为打磨液中的杂质会影响打磨效果导致工件损伤，并且现在的打磨液循环利用装置很难进行清理，长期使用杂质容易堵塞过滤装置，因此，为了解决此类问题，我们提出了一种打磨加工抛光液过滤回流系统。


技术实现要素：

3.本实用新型提出的一种打磨加工抛光液过滤回流系统，解决了打磨液在回收利用时杂质容易影响打磨效果和过滤装置难以清理容易堵塞的问题。
4.为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
5.一种打磨加工抛光液过滤回流系统，包括工作台，所述工作台的底端安装有过滤箱，所述过滤箱的一侧设置有清理机构，所述清理机构用于杂质的清理，所述过滤箱的内部设置有过滤机构，所述过滤机构用于将打磨液中的杂质进行过滤；
6.所述清理机构包括清理箱、导料口和密封盖，所述清理箱的一侧与过滤箱相连接，且所述导料口位于过滤箱的一侧，且所述导料口延伸至过滤箱的内部，所述导料口与过滤机构相匹配，且所述密封盖位于清理箱远离过滤箱的一侧。
7.优选的，所述工作台的顶端设置有导液口，所述导液口的底端穿过工作台延伸至过滤箱的内部。
8.优选的，所述过滤箱的底端安装有支撑架，所述支撑架以过滤箱的中轴线呈对称设置。
9.优选的，所述过滤机构包括弧形过滤网、导液板、出液斗、袋状过滤网和输液管，所述弧形过滤网与过滤箱的内壁相连接，且所述弧形过滤网位于导液口的底端，所述弧形过滤网与导料口相匹配。
10.优选的，所述导液板位于弧形过滤网的底端，且所述导液板与过滤箱的内壁相连接，所述出液斗位于导液板的顶端，且所述出液斗的底端穿过导液板和过滤箱延伸至外部。
11.优选的，所述袋状过滤网和输液管位于过滤箱的底端，且所述输液管套设在袋状过滤网的圆周侧壁，所述袋状过滤网与出液斗螺纹连接，所述输液管与袋状过滤网螺纹连接。
12.本实用新型的有益效果为：
13.1、通过弧形过滤网将打磨液中较大的杂质进行过滤，然后通过打磨液的冲击力能够有效的将杂质堆积在清理箱中，随后通过袋状过滤网将打磨液中细小的杂质进行过滤，从而能够有效的减少打磨液中的杂质，减少杂质对打磨的影响。
14.2、通过倾斜设置的弧形过滤网能够有效的将杂质打磨液中的杂质进行过滤，然后通过打磨液的冲击力将过滤出来的杂质堆积在清理箱的内部，当需要清理时，打开密封盖清理即可，当袋状过滤网需要清理或者更换时，螺纹取出输液管，然后将袋状过滤网从出液斗上螺纹取出更换或者清理即可，从而使得杂质的清理较为便捷，减少堵塞的问题。
15.综上所述，该装置能够有效的减少打磨液中的杂质，减少杂质对打磨的影响，同时也使得杂质的清理较为便捷，减少堵塞的问题，方便使用。
附图说明
16.图1为本实用新型的结构示意图。
17.图2为本实用新型的拆分结构示意图。
18.图3为本实用新型的剖视结构示意图。
19.图4为本实用新型的过滤网仰视拆分结构示意图。
20.图中标号：1、工作台；2、过滤箱；3、清理机构；301、清理箱；302、导料口；303、密封盖；4、导液口；5、过滤机构；501、弧形过滤网；502、导液板；503、出液斗；504、袋状过滤网；505、输液管；6、支撑架。
具体实施方式
21.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
22.参照图1-图4所示，一种打磨加工抛光液过滤回流系统，包括工作台1，所述工作台1的底端安装有过滤箱2，所述过滤箱2的一侧设置有清理机构3，所述清理机构3用于杂质的清理，所述过滤箱2的内部设置有过滤机构5，所述过滤机构5用于将打磨液中的杂质进行过滤；
23.所述清理机构3包括清理箱301、导料口302和密封盖303，所述清理箱301的一侧与过滤箱2相连接，且所述导料口302位于过滤箱2的一侧，且所述导料口302延伸至过滤箱2的内部，所述导料口302与过滤机构5相匹配，且所述密封盖303位于清理箱301远离过滤箱2的一侧。
24.如图2和图3所示，所述工作台1的顶端设置有导液口4，所述导液口4的底端穿过工作台1延伸至过滤箱2的内部，所述过滤箱2的底端安装有支撑架6，所述支撑架6以过滤箱2的中轴线呈对称设置，通过将工作台1沿着导液口4进行倾斜汇聚设置，方便将打磨液导入过滤箱2的内部。
25.如图2-图3所示，所述过滤机构5包括弧形过滤网501、导液板502、出液斗503、袋状过滤网504和输液管505，所述弧形过滤网501与过滤箱2的内壁相连接，且所述弧形过滤网501位于导液口4的底端，所述弧形过滤网501与导料口302相匹配，所述导液板502位于弧形过滤网501的底端，且所述导液板502与过滤箱2的内壁相连接，所述出液斗503位于导液板502的顶端，且所述出液斗503的底端穿过导液板502和过滤箱2延伸至外部，所述袋状过滤网504和输液管505位于过滤箱2的底端，且所述输液管505套设在袋状过滤网504的圆周侧壁，所述袋状过滤网504与出液斗503螺纹连接，所述输液管505与袋状过滤网504螺纹连接，
通过螺纹设置的袋状过滤网504能够有效的将杂质进行清理。
26.工作原理：该装置在使用时，先通过导液口4将打磨时产生的过滤液导入过滤箱2的内部，然后通过过滤箱2内部的弧形过滤网501进行过滤，且弧形过滤网501在过滤箱2的内部呈倾斜设置，从而弧形过滤网501在过滤时通过液体的冲击能够有效的将废渣冲击至导料口302处，然后通过导料口302将废渣导入清理箱301的内部，当清理箱301内部的杂质较多时，开启密封盖303将清理箱301内部的杂质清理出来即可，而弧形过滤网501过滤出来的过滤液直接进入导液板502中，然后经过导液板502上的出液斗503能够有效的将一次过滤的打磨液导入袋状过滤网504内部，通过袋状过滤网504能够有效的将打磨液中的杂质进行二次过滤，弧形过滤网501过滤较大的杂质，而袋状过滤网504能够过滤细小的杂质，从而能够有效的提高过滤效果，减少杂质对打磨的影响，当袋状过滤网504需要清理时，将输液管505从袋状过滤网504上取出，然后将袋状过滤网504从出液斗503中取出进行清理即可，从而使得清理较为便捷，减少杂质堵塞的问题。
27.以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。


技术特征：
1.一种打磨加工抛光液过滤回流系统，包括工作台(1)，其特征在于，所述工作台(1)的底端安装有过滤箱(2)，所述过滤箱(2)的一侧设置有清理机构(3)，所述清理机构(3)用于杂质的清理，所述过滤箱(2)的内部设置有过滤机构(5)，所述过滤机构(5)用于将打磨液中的杂质进行过滤；所述清理机构(3)包括清理箱(301)、导料口(302)和密封盖(303)，所述清理箱(301)的一侧与过滤箱(2)相连接，且所述导料口(302)位于过滤箱(2)的一侧，且所述导料口(302)延伸至过滤箱(2)的内部，所述导料口(302)与过滤机构(5)相匹配，且所述密封盖(303)位于清理箱(301)远离过滤箱(2)的一侧。2.根据权利要求1所述的一种打磨加工抛光液过滤回流系统，其特征在于，所述工作台(1)的顶端设置有导液口(4)，所述导液口(4)的底端穿过工作台(1)延伸至过滤箱(2)的内部。3.根据权利要求1所述的一种打磨加工抛光液过滤回流系统，其特征在于，所述过滤箱(2)的底端安装有支撑架(6)，所述支撑架(6)以过滤箱(2)的中轴线呈对称设置。4.根据权利要求1所述的一种打磨加工抛光液过滤回流系统，其特征在于，所述过滤机构(5)包括弧形过滤网(501)、导液板(502)、出液斗(503)、袋状过滤网(504)和输液管(505)，所述弧形过滤网(501)与过滤箱(2)的内壁相连接，且所述弧形过滤网(501)位于导液口(4)的底端，所述弧形过滤网(501)与导料口(302)相匹配。5.根据权利要求4所述的一种打磨加工抛光液过滤回流系统，其特征在于，所述导液板(502)位于弧形过滤网(501)的底端，且所述导液板(502)与过滤箱(2)的内壁相连接，所述出液斗(503)位于导液板(502)的顶端，且所述出液斗(503)的底端穿过导液板(502)和过滤箱(2)延伸至外部。6.根据权利要求4所述的一种打磨加工抛光液过滤回流系统，其特征在于，所述袋状过滤网(504)和输液管(505)位于过滤箱(2)的底端，且所述输液管(505)套设在袋状过滤网(504)的圆周侧壁，所述袋状过滤网(504)与出液斗(503)螺纹连接，所述输液管(505)与袋状过滤网(504)螺纹连接。

技术总结
本实用新型公开了一种打磨加工抛光液过滤回流系统，涉及打磨抛光技术领域，针对现有的打磨液在回收利用时杂质容易影响打磨效果和过滤装置难以清理容易堵塞的问题，现提出如下方案，其包括工作台，所述工作台的底端安装有过滤箱，所述过滤箱的一侧设置有清理机构，所述清理机构用于杂质的清理，所述过滤箱的内部设置有过滤机构，所述过滤机构用于将打磨液中的杂质进行过滤；所述清理机构包括清理箱、导料口和密封盖，所述清理箱的一侧与过滤箱相连接，且所述导料口位于过滤箱的一侧。本实用新型打磨加工抛光液过滤回流系统能够有效的减少打磨液中的杂质，减少杂质对打磨的影响，同时也使得杂质的清理较为便捷，减少堵塞的问题，方便使用。方便使用。方便使用。


技术研发人员：李海东 李世明 孙志来
受保护的技术使用者：惠州鑫明东科技有限公司
技术研发日：2021.12.24
技术公布日：2022/4/29