一种残膜回收机防缠绕挑膜装置的制 一种秧草收获机用电力驱动行走机构

一种可调式磁环整脚设备的制作方法

2022-04-09 14:22:18 来源:中国专利 TAG:


1.本实用新型涉及磁环生产设备领域,特别是涉及一种可调式磁环整脚设备。


背景技术:

2.在磁环的生产过程中,需要将磁环引脚修整,现有技术中,在修整的过程中,需要将磁环放置在治具上,然后通过移动的整脚结构对磁环引脚进行修整,但是,此时需要将磁环完全放置在治具上对应的位置,如果磁环的引脚有向内折弯,则需要先手动将引脚向外扒开,这样会严重影响磁环的整脚效率。


技术实现要素:

3.基于此,有必要针对现有技术中的问题,提供一种可调式磁环整脚设备。
4.一种可调式磁环整脚设备,其特征在于,包括底座,所述底座上侧通过固定支架设有固定板,所述固定板上侧设有垫板,所述垫板上侧设有限位外框,所述限位外框上侧设有盖板,所述限位外框四周设有用于修整引脚的修整结构,所述垫板上侧设有活动块,所述活动块设有四个,均位于限位外框中部的开口内,所述垫板中部设有调整结构,用于使活动块向外侧修整结构移动。
5.在其中一个实施例中,所述调整结构包括中心移动块,所述中心移动块下侧设有驱动气缸,所述驱动气缸固定在固定板的下侧,在驱动气缸的作用下,所述中心移动块上下移动,所述活动块位于中心移动块的上侧,所述活动块下侧与中心移动块上侧接触面设有倾斜面。
6.在其中一个实施例中,所述调整结构还包括用于限制活动块上下移动的中心限位结构,所述中心限位结构包括限位杆,所述活动块中部设有通孔,所述活动块在通孔位置套接在限位杆上,所述限位杆固定在限位外框中部。
7.在其中一个实施例中,所述限位杆上设有弹簧,所述弹簧位于活动块和限位外框之间。
8.在其中一个实施例中,所述活动块设有内凹的直角缺口部,四个活动块的四个直角缺口部分别朝向不同方向。
9.在其中一个实施例中,所述限位外框中部开口设有与直角缺口部对应的直角凸起,所述活动块向外移动时,活动块的直角缺口与限位外框的直角凸起抵接。
10.在其中一个实施例中,所述修整结构包括修整气缸,所述修整气缸的活塞杆连接有推块,所述推块设有u形槽,所述活动块在向外移动后,同一侧的两个活动块的在直角缺口位置卡接在u形槽内。
11.在其中一个实施例中,所述u形槽两外侧为凸出的修整部,所述活动块在向外移动后,所述修整部与活动块的直角缺口侧边抵接。
12.在其中一个实施例中,所述活动块的直角缺口直角位置设有弧形内凹部。
13.上述可调式磁环整脚设备,通过采用可以调节的活动块作为支撑结构,在使用的
过程中,在将待整脚的磁环放置在活动块上侧之后,活动块向外移动,从而将磁环的引脚张开,在修整结构的作用下,完成磁环引脚的修整,在此过程中,不需要额外考虑磁环引脚是否有偏向,进而提高整体的生产效率。
附图说明
14.图1为本实用新型可调式磁环整脚设备整体结构示意图;
15.图2为本实用新型可调式磁环整脚设备调整结构爆炸图结构示意图;
16.图3为本实用新型可调式磁环整脚设备活动块与限位杆示意图;
17.图4为本实用新型可调式磁环整脚设备修整结构示意图;
18.其中,1、底座;2、固定板;3、垫板;4、限位外框;5、盖板;7、活动块;71、上倾斜面;6、调整结构;61、中心移动块;611、下倾斜面;62、驱动气缸;63、限位杆;8、修整结构;81、修整气缸;82、推块;83、u形槽。
具体实施方式
19.为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进,因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。
20.需要说明的是,当元件被称为“固定于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。相反,当元件被称作“直接在”另一元件“上”时,不存在中间元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的”。
21.除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的,不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
22.如图1至图4所示,一种可调式磁环整脚设备,其特征在于,包括底座1,所述底座1上侧通过固定支架设有固定板2,所述固定板2上侧设有垫板3,所述垫板3上侧设有限位外框4,所述限位外框4上侧设有盖板5,所述限位外框4四周设有用于修整引脚的修整结构8,所述垫板3上侧设有活动块7,所述活动块7设有四个,均位于限位外框4中部的开口内,所述垫板3中部设有调整结构6,用于使活动块7向外侧修整结构8移动。
23.通过采用可以调节的活动块7作为支撑结构,在使用的过程中,在将待整脚的磁环放置在活动块7上侧之后,活动块7向外移动,从而将磁环的引脚张开,在修整结构8的作用下,完成磁环引脚的修整,在此过程中,不需要额外考虑磁环引脚是否有偏向,进而提高整体的生产效率。
24.为了使得活动块7能够向外移动,在本实施例中,所述调整结构6包括中心移动块61,所述中心移动块61下侧设有驱动气缸62,所述驱动气缸62固定在固定板2的下侧,在驱
动气缸62的作用下,所述中心移动块61上下移动,所述活动块7位于中心移动块61的上侧,所述活动块7下侧与中心移动块61上侧接触面设有倾斜面。在驱动气缸62的作用下,中心移动块61可以上下移动,此时中心移动块61上侧设有上倾斜面71,活动块7的下侧设有下倾斜面611,且上倾斜面71与下倾斜面611抵接,因此,在中心移动块61向上移动的时候,位于中心移动块61上侧的活动块7向外移动(向上移动被限制),从而将放置在活动块7上侧的磁环引脚展开。
25.由于中心移动块61与活动块7之间是通过倾斜面接触的,在中心移动块61向上移动的过程中,活动块7向上、向外移动,但是为了避免活动块7向上移动,在本实施中,设置有用于限制活动块7向上移动的中心限位结构,具体的,所述中心限位结构包括限位杆63,所述活动块7中部设有通孔,所述活动块7在通孔位置套接在限位杆63上,所述限位杆63固定在限位外框4中部。此时,四个活动块7靠近中心位置均设置有斜切部,也就是活动块7靠近中心位置均切除了部分,从而在四个活动块7的中心形成一个容纳空间,在容纳空间内设有限位柱,四个方向穿过不同活动块7的限位杆63均与限位柱固定,四个限位杆63朝向矩形的四个顶角方向设置,活动块7穿在限位杆63上,同时,在限位外框4底部设有用于容纳限位杆63的限位槽,这样限位杆63被限制在限位外框4的限位槽内,不能上下移动,这样,在中心移动块61上下移动的过程中,活动块7由于限位杆63的作用不能上下移动,因此,活动块7会沿着限位杆63的方向移动。
26.在中心移动块61向上时,活动块7向外移动,为了使得活动块7恢复到原来的位置(活动块7向内移动,活动块7之间的间距最小,这样,可以将磁环放置在活动块7上),此时,所述限位杆63上设有弹簧,所述弹簧位于活动块7和限位外框4之间,套接在限位杆63上的弹簧被压缩,在中心移动块61向下移动时,在弹簧的作用下,四个活动块7向着中心位置移动,从而完成活动块7的复位动作。
27.为了方便将磁环的四个引脚放置,在本实施例中,所述活动块7设有内凹的直角缺口部,四个活动块7的四个直角缺口部分别朝向不同方向,此时的直角缺口与磁环四个引脚相对应,也就是说,在磁环放置在活动块7上之后,磁环的四个引脚分别位于四个活动块7的四个直角缺口,在活动块7向外移动之时,活动块7作用于磁环的引脚,从而使得变形的引脚被展开,最后在修整结构8的作用下整形。
28.限位外框4是用于限制活动块7向外移动的最大距离,在本实施例中,所述限位外框4中部开口设有与直角缺口部对应的直角凸起,所述活动块7向外移动时,活动块7的直角缺口与限位外框4的直角凸起抵接。这样,活动块7在向外移动的过程中,始终都是在限位外框4内移动的,从而可以保证活动块7最终移动的位置,在针对不同尺寸或型号的磁环时,更换不同尺寸的限位外框4以及修整结构8,这样就可以完成多种尺寸磁环的整脚工作。
29.对于修整结构8,主要是用于将变形的引脚压直,在本实施例中,所述修整结构8包括修整气缸81,所述修整气缸81的活塞杆连接有推块82,所述推块82设有u形槽83,所述活动块7在向外移动后,同一侧的两个活动块7的在直角缺口位置卡接在u形槽83内。进一步的,所述u形槽83两外侧为凸出的修整部,所述活动块7在向外移动后,所述修整部与活动块7的直角缺口侧边抵接。
30.此时,推块82位于限位外框4的上侧,在修整气缸81的作用下,推块82向着四个活动块7的中心移动,u形槽83内宽度与限位外框4两直角凸起之间间距相等,也就是说,在推
块82移动时,推块82的u形槽83是贴着活动块7直角缺口面移动的,这样在推块82移动的过程中,将磁环引脚推动至直角缺口的直角位置,更进一步的,所述活动块7的直角缺口直角位置设有弧形内凹部。此时,可以更好的将磁环引脚整形。
31.以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
32.以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
再多了解一些

本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

发表评论 共有条评论
用户名: 密码:
验证码: 匿名发表

相关文献