曝光机、挡板位置分析方法及装置与流程

1.本技术涉及显示技术领域，具体涉及一种曝光机、挡板位置分析方法及装置。


背景技术：

2.使用掩膜板(mask)在玻璃基板上制作图形时，由于每一次曝光不需要用到掩膜板所有区域，因此要使用挡板对掩膜板上下左右的非曝光区域进行遮挡，防止基板上的图案过大或过小。但挡板是通过机械驱动的，其驱动位置受机械因素影响，在生产中可能会出现偏差。当挡板的位置与预设位置偏差较大时，会导致玻璃基板上的图案受到影响，使最终的产品质量下降。
3.目前对于cf(color filter，彩色滤光片)基板，由于前期没有对挡板的位置进行，挡板位置放错了或位置发生偏移无法及时监控，只有等产品做出来才能发现问题，导致不良品产出后报废。


技术实现要素：

4.本技术实施例提供一种曝光机、挡板位置分析方法及装置，用于设置标尺对挡板位置精度进行监控，如果发现异常可以及时修正，避免不良品产出后报废。
5.第一方面，本技术实施例提供一种曝光机，包括：
6.玻璃基板；
7.挡板，与所述玻璃基板相对设置；
8.掩膜版，设于所述挡板和所述基板之间，所述掩膜版包括曝光区、非曝光区以及标尺，所述标尺包括尺身和设于所述尺身的刻度，所述刻度的刻度参考线与所述曝光区和所述非曝光区的分界线重合，所述刻度的测量范围大于所述挡板的衍射区域的尺寸，所述挡板用于遮挡所述非曝光区，且所述挡板的边缘与所述分界线重合。
9.本实施例中，设置标尺对挡板位置精度进行监控，如果发现异常可以及时修正，避免不良品产出后报废，缩短tact time，增加产能。
10.在一些实施例中，所述掩膜版包括多个标尺。
11.本实施例中，由于挡板的衍射区域的边缘线并不是完全规律、圆滑的线条，而是存在一定的波动，设置多个标尺，基于多个标尺的投影信息进行分析监控，避免由于设置单一的标尺对挡板的位置进行监控导致误差较大。
12.在一些实施例中，所述多个标尺沿所述分界线的延伸方向间隔设置。
13.本实施例中，多个标尺沿分界线的延伸方向间隔设置，采集衍射区域不同位置的边缘线，平衡衍射区域边缘的波动导致的误差。
14.在一些实施例中，所述刻度的数字由所述刻度参考线处的刻度数字开始依次向两侧递增或递减。
15.本实施例中，由于刻度的刻度参考线是挡板在预设位置也就是挡板边缘与分界线重合时，标尺投影到玻璃基板上挡板衍射区域的图像的中心线，将刻度参考线设置为刻度
的中心线能够更加直观快速确定挡板是否发生偏移。
16.第二方面，本技术提供一种挡板位置分析方法，包括：
17.控制曝光光线照射所述曝光机的掩膜版；
18.获取曝光在所述曝光机的玻璃基板上的标尺信息；
19.根据所述标尺信息分析所述曝光机的挡板的挡板位置；
20.若所述挡板位置偏移预设位置，则根据所述挡板位置对所述挡板进行调节。
21.本实施例中，设置标尺对挡板位置精度进行监控，如果发现异常可以及时修正，避免不良品产出后报废，缩短tact time，增加产能。
22.在一些实施例中，所述获取曝光在所述曝光机的玻璃基板上的标尺信息，包括：
23.获取曝光在所述曝光机的玻璃基板上的多个标尺的刻度信息；
24.根据所述多个标尺的刻度信息确定所述标尺信息。
25.本实施例中，由于挡板的衍射区域的边缘线并不是完全规律、圆滑的线条，而是存在一定的波动，设置多个标尺，基于多个标尺的投影信息进行分析监控，避免由于设置单一的标尺对挡板的位置进行监控导致误差较大。
26.在一些实施例中，所述根据所述标尺信息分析所述曝光机的挡板的挡板位置，包括：
27.根据所述标尺信息确定所述标尺的刻度参考线；
28.根据所述刻度参考线分析所述挡板的挡板位置。
29.本实施例中，由于刻度的刻度参考线是挡板在预设位置也就是挡板边缘与分界线重合时，标尺投影到玻璃基板上挡板衍射区域的图像的中心线，将刻度参考线作为参考能够更加直观快速确定挡板是否发生偏移。
30.在一些实施例中，所述根据所述刻度参考线分析所述挡板的挡板位置，包括：
31.若所述刻度参考线为所述标尺信息的中心线，则所述挡板位置为预设位置；
32.若所述刻度参考线非所述标尺信息的中心线，则根据所述刻度参考线的偏移信息分析所述挡板的挡板位置。
33.本实施例中，如果刻度参考线不是标尺信息的中心线，说明挡板的边缘与曝光区和非曝光区的分界线不重合，挡板位置不是预设位置，挡板发生了偏移，刻度参考线与挡板边缘相对应，基于刻度参考线的偏移能够对应快速确认挡板边缘的偏移。
34.在一些实施例中，所述偏移信息包括偏移方向和偏移量，所述若所述刻度参考线非所述标尺信息的中心线，则根据所述刻度参考线的偏移量分析所述挡板的挡板位置，包括：
35.若所述刻度参考线非所述标尺信息的中心线，则所述挡板位置偏移预设位置；
36.根据所述标尺信息确定所述刻度参考线两侧的刻度数据；
37.根据所述两侧的刻度数据分析所述刻度参考线的所述偏移方向和所述偏移量；
38.根据所述偏移方向和所述偏移量分析所述挡板的挡板位置。
39.本实施例中，刻度参考线与挡板边缘相对应，以刻度参考线为参考，刻度参考线的偏移方向和偏移量即为挡板的偏移方向和偏移量，从而快速确定挡板的挡板位置。
40.第三方面，本技术提供一种挡板位置分析装置，包括：
41.曝光模块，用于控制曝光光线照射所述曝光机的掩膜版；
42.信息获取模块，与所述曝光模块通讯连接，用于获取曝光在所述曝光机的玻璃基板上的标尺信息；
43.位置分析模块，与所述信息获取模块通讯连接，用于根据所述标尺信息分析所述曝光机的挡板的挡板位置；
44.挡板调节模块，与所述位置分析模块通讯连接，用于若所述挡板位置偏移预设位置，则根据所述挡板位置对所述挡板进行调节。
45.本实施例中，设置标尺对挡板位置精度进行监控，如果发现异常可以及时修正，避免不良品产出后报废，缩短tact time，增加产能。
46.在一些实施例中，信息获取模块还用于获取曝光在所述曝光机的玻璃基板上的多个标尺的刻度信息；根据所述多个标尺的刻度信息确定所述标尺信息。
47.本实施例中，由于挡板的衍射区域的边缘线并不是完全规律、圆滑的线条，而是存在一定的波动，设置多个标尺，基于多个标尺的投影信息进行分析监控，避免由于设置单一的标尺对挡板的位置进行监控导致误差较大。
48.在一些实施例中，位置分析模块还用于根据所述标尺信息确定所述标尺的刻度参考线；根据所述刻度参考线分析所述挡板的挡板位置。
49.本实施例中，由于刻度的刻度参考线是挡板在预设位置也就是挡板边缘与分界线重合时，标尺投影到玻璃基板上挡板衍射区域的图像的中心线，将刻度参考线作为参考能够更加直观快速确定挡板是否发生偏移。
50.在一些实施例中，位置分析模块还用于若所述刻度参考线为所述标尺信息的中心线，则所述挡板位置为预设位置；若所述刻度参考线非所述标尺信息的中心线，则根据所述刻度参考线的偏移信息分析所述挡板的挡板位置。
51.本实施例中，如果刻度参考线不是标尺信息的中心线，说明挡板的边缘与曝光区和非曝光区的分界线不重合，挡板位置不是预设位置，挡板发生了偏移，刻度参考线与挡板边缘相对应，基于刻度参考线的偏移能够对应快速确认挡板边缘的偏移。
52.在一些实施例中，位置分析模块还用于若所述刻度参考线非所述标尺信息的中心线，则所述挡板位置偏移预设位置；根据所述标尺信息确定所述刻度参考线两侧的刻度数据；根据所述两侧的刻度数据分析所述刻度参考线的所述偏移方向和所述偏移量；根据所述偏移方向和所述偏移量分析所述挡板的挡板位置。
53.本实施例中，刻度参考线与挡板边缘相对应，以刻度参考线为参考，刻度参考线的偏移方向和偏移量即为挡板的偏移方向和偏移量，从而快速确定挡板的挡板位置。
54.本技术实施例提供的曝光机、挡板位置分析方法及装置，通过在掩膜版上设置刻度的测量范围大于挡板的衍射区域的尺寸的标尺，标尺对挡板位置精度进行监控，如果发现异常可以及时修正，避免不良品产出后报废。
附图说明
55.下面结合附图，通过对本技术的具体实施方式详细描述，将使本技术的技术方案及其它有益效果显而易见。
56.图1是本技术实施例中述曝光机的示意图；
57.图2是本技术实施例中标尺投影在玻璃基板上图像在衍射区域边缘的示意图；
58.图3是本技术实施例中挡板位置分析方法的流程示意图；
59.图4是本技术实施例中挡板位置分析装置的结构示意图。
60.附图标号：
61.1、挡板；2、掩膜版；21、曝光区；22、非曝光区；23、标尺；3、玻璃基板。
具体实施方式
62.下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
63.在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
64.在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
65.在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
66.下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本技术的不同结构。为了简化本技术的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本技术。此外，本技术可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本技术提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
67.请参阅图1，本技术实施例提供一种曝光机，曝光机包括玻璃基板3、挡板1以及掩膜版2。挡板1与玻璃基板3相对设置，掩膜版2设于挡板1和基板之间。
68.掩膜版2包括曝光区21、非曝光区22以及标尺23，曝光机需要将掩膜版2曝光区21的图像投影到玻璃基板3上，同时避免非曝光区22的图像投影到玻璃基板3上。挡板1设置用
于遮挡非曝光区22，因此，挡板1的边缘与曝光区21和非曝光区22的分界线重合，从而确保遮挡非曝光区22的同时避免影响曝光区21的图案的投影。需要监控挡板1相对于预设位置是否存在偏移，即判断挡板1的边缘是否与曝光区21和非曝光区22的分界线。
69.掩膜版2上设置有标尺23，通过标尺23投影到玻璃基板3上的图像以判断挡板1的位置是否存在偏移，为了便于量化地分析挡板1的位置，标尺23包括尺身和设于尺身的刻度，基于标尺23投影到玻璃基板3上的图像中的刻度分析挡板1的位置。进一步地，同时刻度上设置有刻度参考线，刻度参考线可以进行相应的标记，以刻度参考线为参照对象，以更加直观了解挡板1的位置。
70.此外，由于cf基板是采用正性pr(photoresist光刻胶)，光通过挡板1边沿发生衍射，衍射区域的光的强度比非衍射区低，但还是可以曝出图形，如果刻度的测量范围小于衍射区域的尺寸，那么当挡板1位置发生偏移，但是曝光在玻璃基板3上的标尺23的图像没有偏移出衍射区域，则无法推断挡板1位置是否发生偏移，因此刻度的测量范围大于挡板1的衍射区域的尺寸，确保挡板1位置的偏移能够通过曝光在玻璃基板3上的标尺23的刻度的变化确定。
71.需要说明的是，曝光在玻璃基板3上的标尺23的图像在衍射区域范围内的图像是基于挡板1的边缘为中心的，因此以刻度参考线为参照对象，若挡板1没有发生偏移的情况下，将标尺23曝光在衍射区域范围内的图像的中心线设为刻度参考线，则可以在挡板1发生偏移之后基于刻度参考线快速确定挡板1的偏移状态。因此，刻度参考线设为挡板1在预设位置时的边缘，也就是刻度的刻度参考线与曝光区21和非曝光区22的分界线重合。
72.本实施例中设置标尺23对挡板1位置精度进行监控，如果发现异常可以及时修正，避免不良品产出后报废，缩短tact time，增加产能。此外，本实施例适用于cf基板各个膜层的曝光。
73.在一个实施例中，如图2所示，由于挡板1的衍射区域的边缘线并不是完全规律、圆滑的线条，而是存在一定的波动，因此设置单一的标尺23对挡板1的位置进行监控可能误差较大，因此掩膜版2包括多个标尺23，然后基于多个标尺23的投影信息进行分析监控。需要说明的是，基于掩膜版2上曝光区21与非曝光区22的设置，可能设置多个挡板1，则针对每一个挡板1都需要设置对应的一个或多个标尺23进行监控，不同挡板1对应的标尺23设置相互之间不同的标记，以便监控分析。
74.在一个实施例中，当掩膜版2包括多个标尺23时，由于每个标尺23的刻度的刻度参考线与曝光区21和非曝光区22的分界线重合，因此，多个标尺23沿分界线的延伸方向间隔设置。其中，可以是按照同样的间隔均匀设置，也可以是按照任意随机间隔或者按照一定函数关系排列间隔设置，本实施例不作具体限定。
75.在一个实施例中，由于刻度的刻度参考线是挡板1在预设位置也就是挡板1边缘与分界线重合时，标尺23投影到玻璃基板3上挡板1衍射区域的图像的中心线，为了能够更加直观地监控挡板1的变动，将标尺23上的刻度设置为以刻度参考线为对称轴，刻度的数字由刻度参考线处的刻度数字开始依次向两侧递增或递减，但其具体设置方式本实施例不作具体限定，例如，将刻度参考线处的刻度设为0，刻度参考线向一侧延伸的刻度依次为1、2、3等，刻度参考线向另一侧延伸的刻度依次为-1、-2、-3等，此处1、2、3表示的是一个计量单元，其间隔可以是1mm，也可以是2mm，取决于挡板1位置的精度，本实施例不作具体限定。
76.本实施例在掩膜版2上设置标尺23监控cf基板中挡板1位置精度，如果发现异常可以及时修正，避免不良品产出后报废。
77.请参阅图3，本技术实施例提供一种挡板位置分析方法，该方法包括步骤s101～s104，具体如下：
78.s101，控制曝光光线照射所述曝光机的掩膜版。
79.具体地，控制曝光光线照射曝光机的掩膜版，从而将掩膜版上的图案投影到玻璃基板上，同时掩膜版上标尺也会一同被投影到玻璃基板上，持续基于玻璃基板上的标尺信息对挡板的位置进行分析监控。需要说明的是，如果玻璃基板是cf基板，cf基板设有多个膜层，本实施例适用于cf基板所有膜层的挡板位置监控，此外不同膜层对应不同的带有标记的标尺，以便直观了解cf基板各个膜层的挡板位置。
80.s102，获取曝光在所述曝光机的玻璃基板上的标尺信息。
81.具体地，获取曝光在曝光机的玻璃基板上的标尺信息。由于cf基板是采用正性pr，玻璃基板上挡板的衍射区域内同样会投影出掩膜版上的图案，本实施例主要根据衍射区域边沿位置的投影信息来判定cf基板的挡板位置。而光通过挡板边沿发生衍射，衍射区域的光的强度比非衍射区低，但还是可以曝出图形。因此获取到玻璃基板上的标尺信息的边缘位置实际上是衍射区域边缘位置的投影图像。
82.在一个实施例中，本步骤包括：s201，获取曝光在所述曝光机的玻璃基板上的多个标尺的刻度信息；s202，根据所述多个标尺的刻度信息确定所述标尺信息。
83.具体地，由于挡板的衍射区域的边缘线并不是完全规律、圆滑的线条，而是存在一定的波动，因此设置单一的标尺对挡板的位置进行监控可能误差较大，因此掩膜版包括多个标尺，基于多个标尺的投影信息进行分析监控。获取曝光在曝光机的玻璃基板上的多个标尺的刻度信息，综合多个标尺的刻度信息确定标尺信息，标尺信息是投影在挡板的衍射区域的刻度范围。
84.s103，根据所述标尺信息分析所述曝光机的挡板的挡板位置。
85.具体地，通过标尺投影在玻璃基板上的标尺信息，特别是投影在挡板的衍射区域的刻度范围，相对于挡板在预设位置时的偏差分析曝光机的挡板的挡板位置。
86.需要说明的是，可以根据标尺投影在玻璃基板上的标尺信息确定投影在挡板的衍射区域的边缘的刻度，然后基于挡板的衍射区域的大小计算出标尺投影在挡板的衍射区域的刻度范围。其中，挡板的衍射区域的大小基于挡板的结构、挡板与其它组件的距离以及曝光光线的照射方式相关，可以直接设置获取。
87.在一个实施例中，本步骤包括：s301，根据所述标尺信息确定所述标尺的刻度参考线；s302，根据所述刻度参考线分析所述挡板的挡板位置。
88.具体地，标尺的刻度参考线有进行相应的标记，因此通过标尺投影在玻璃基板上的标尺信息确定标尺的刻度参考线，以刻度参考线为参照对象，分析挡板的偏移状态，进而得到挡板的挡板位置。
89.在一个实施例中，步骤s302，根据所述刻度参考线分析所述挡板的挡板位置，包括：s401，若所述刻度参考线为所述标尺信息的中心线，则所述挡板位置为预设位置；s402，若所述刻度参考线非所述标尺信息的中心线，则根据所述刻度参考线的偏移信息分析所述挡板的挡板位置。
90.具体地，刻度参考线设为挡板在预设位置时的边缘，也就是刻度的刻度参考线与曝光区和非曝光区的分界线重合。以刻度参考线为参照对象，由于标尺信息是投影在挡板的衍射区域的刻度范围，标尺信息的中心线即为挡板的边缘对应的位置，如果刻度参考线是标尺信息的中心线，也就是刻度参考线与挡板的边缘相对应，即挡板的边缘与曝光区和非曝光区的分界线重合，因此挡板位置为预设位置，挡板没有发生偏移。
91.如果刻度参考线不是标尺信息的中心线，说明挡板的边缘与曝光区和非曝光区的分界线不重合，挡板位置不是预设位置，挡板发生了偏移，因此根据刻度参考线相对于标尺信息的中心线的偏移信息分析挡板的挡板位置。
92.在一个实施例中，步骤s402，若所述刻度参考线非所述标尺信息的中心线，则根据所述刻度参考线的偏移信息分析所述挡板的挡板位置，所述偏移信息包括偏移方向和偏移量，包括：s501，若所述刻度参考线非所述标尺信息的中心线，则所述挡板位置偏移预设位置；s502，根据所述标尺信息确定所述刻度参考线两侧的刻度数据；s503，根据所述两侧的刻度数据分析所述刻度参考线的所述偏移方向和所述偏移量；s504，根据所述偏移方向和所述偏移量分析所述挡板的挡板位置。
93.具体地，如果刻度参考线不是标尺信息的中心线，说明挡板的边缘与曝光区和非曝光区的分界线不重合，挡板位置偏移了预设位置，由于标尺信息是投影在挡板的衍射区域的刻度范围，根据标尺信息确定刻度参考线两侧的刻度数据，例如某标尺信息刻度参考线一侧的边缘刻度数据为-2，另一侧的边缘刻度数据为4，刻度参考线的数值为0，标尺信息的中心线的数值为1，刻度参考线的数值与标尺信息的中心线的数值不相同，因此挡板位置偏移了预设位置。
94.刻度参考线的偏移信息包括偏移方向和偏移量，根据两侧的刻度数据分析刻度参考线相对于标尺信息的中心线的偏移方向和偏移量，例如某标尺信息刻度参考线一侧的边缘刻度数据为-2，另一侧的边缘刻度数据为4，刻度参考线的数值为0，标尺信息的中心线的数值为1，相对于标尺信息的中心线，刻度参考线沿着刻度4到刻度-2的方向偏移、且偏移量为1。
95.由于标尺信息的中心线即为挡板的边缘对应的位置，刻度参考线为挡板在预设位置时挡板的边缘对应的位置，基于刻度参考线相对于标尺信息的中心线的偏移方向和偏移量分析挡板的挡板位置，例如某标尺信息刻度参考线一侧的边缘刻度数据为-2，另一侧的边缘刻度数据为4，刻度参考线的数值为0，标尺信息的中心线的数值为1，相对于标尺信息的中心线，刻度参考线沿着刻度4到刻度-2的延伸方向偏移、且偏移量为1，对应地标尺信息的中心线相对于刻度参考线沿着刻度-2到刻度4的延伸方向偏移、且偏移量为1，也就是挡板沿着刻度-2到刻度4的延伸方向偏移、且偏移量为1。
96.s104，若所述挡板位置偏移预设位置，则根据所述挡板位置对所述挡板进行调节。
97.具体地，如果分析出挡板位置偏移了预设位置，则根据挡板位置对所述挡板进行调节，即根据偏移方向和偏移量调整挡板。
98.本实施例中设置标尺对挡板位置精度进行监控，如果发现异常可以及时修正，避免不良品产出后报废，缩短tact time，增加产能。此外，本实施例适用于cf基板各个膜层的曝光。同时本实施例基于标尺在衍射区域所投影的刻度的偏移分析挡板的位置，以便快速确定挡板的偏移状态。
99.为了更好实施本技术实施例中的挡板位置分析方法，在挡板位置分析方法基础之上，本技术实施例中还提供一种挡板位置分析装置，如图4所示，挡板位置分析装置100包括：
100.曝光模块110，用于控制曝光光线照射所述曝光机的掩膜版；
101.信息获取模块120，与所述曝光模块110通讯连接，用于获取曝光在所述曝光机的玻璃基板上的标尺信息；
102.位置分析模块130，与所述信息获取模块120通讯连接，用于根据所述标尺信息分析所述曝光机的挡板的挡板位置；
103.挡板调节模块140，与所述位置分析模块130通讯连接，用于若所述挡板位置偏移预设位置，则根据所述挡板位置对所述挡板进行调节。
104.在本技术一些实施例中，信息获取模块120还用于获取曝光在所述曝光机的玻璃基板上的多个标尺的刻度信息；根据所述多个标尺的刻度信息确定所述标尺信息。
105.在本技术一些实施例中，位置分析模块130还用于根据所述标尺信息确定所述标尺的刻度参考线；根据所述刻度参考线分析所述挡板的挡板位置。
106.在本技术一些实施例中，位置分析模块130还用于若所述刻度参考线为所述标尺信息的中心线，则所述挡板位置为预设位置；若所述刻度参考线非所述标尺信息的中心线，则根据所述刻度参考线的偏移信息分析所述挡板的挡板位置。
107.在本技术一些实施例中，位置分析模块130还用于若所述刻度参考线非所述标尺信息的中心线，则所述挡板位置偏移预设位置；根据所述标尺信息确定所述刻度参考线两侧的刻度数据；根据所述两侧的刻度数据分析所述刻度参考线的所述偏移方向和所述偏移量；根据所述偏移方向和所述偏移量分析所述挡板的挡板位置。
108.在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
109.以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
110.以上对本技术实施例所提供的一种曝光机、挡板位置分析方法及装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。