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蒸镀装置和蒸镀装置的制作方法与流程

2022-04-06 18:52:06 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种蒸镀装置,所述蒸镀装置包括蒸镀腔,其特征在于,包括:吸附组件,所述吸附组件用于吸附所述蒸镀腔中的粒子,所述吸附组件包括位于所述蒸镀腔内的第一部分和位于所述蒸镀腔外的第二部分;传送组件,所述传送组件上设置有所述第一部分和所述第二部分,当满足预设条件时,所述传送组件驱动所述第一部分移动至所述蒸镀腔外,并驱动所述第二部分移动至所述蒸镀腔内。2.根据权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述吸附组件包括:第一吸附膜,所述第一吸附膜用于吸附所述蒸镀腔中的磁性粒子;第二吸附膜,所述第二吸附膜用于吸附所述蒸镀腔中的非磁性粒子。3.根据权利要求2所述的蒸镀装置,其特征在于,所述吸附组件还包括:质量感应器,所述质量感应器用于检测所述第一吸附膜吸附的磁性粒子的质量和所述第二吸附膜吸附非磁性粒子的质量;当所述磁性粒子的质量和所述非磁性粒子的质量之和大于阈值时,所述传送组件驱动所述第一部分移动至所述蒸镀腔外,并驱动所述第二部分移动至所述蒸镀腔内。4.根据权利要求3所述的蒸镀装置,其特征在于,所述第一吸附膜和所述第二吸附膜设置在所述质量感应器的两侧。5.根据权利要求3所述的蒸镀装置,其特征在于,所述蒸镀装置还包括防着板,所述防着板设置在所述蒸镀腔中,所述防着板的一侧设置有所述质量感应器,所述质量感应器远离所述防着板的一侧设置有所述第一吸附膜和所述第二吸附膜。6.根据权利要求3所述的蒸镀装置,其特征在于,所述吸附组件还包括第一基板和第二基板,所述第一基板和所述第二基板设置在所述质量感应器的两侧,且所述第一基板和所述第二基板上均设置有所述第一吸附膜和所述第二吸附膜,其中,位于所述第一基板的所述第一吸附膜在所述第一基板上的正投影与位于所述第二基板的所述第二吸附膜在所述第一基板上的正投影错开设置。7.根据权利要求1-6任一项所述的蒸镀装置,其特征在于,所述传送组件包括滚轮和传送带,所述传送带上设置有多个所述吸附组件,所述滚轮滚动带动所述传送带运动,以将所述第一部分移动至所述蒸镀腔外,并驱动所述第二部分移动至所述蒸镀腔内。8.根据权利要求2所述的蒸镀装置,其特征在于,所述第一吸附膜的材料包括fe、co或ni中的一种或组合。9.一种蒸镀装置的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括:提供一传送组件;在所述传送组件上设置多个吸附组件,所述吸附组件用于吸收粒子,所述吸附组件包括位于所述蒸镀腔内的第一部分和位于所述蒸镀腔外的第二部分;当满足预设条件时,所述传送组件驱动所述第一部分移动至所述蒸镀腔外,并驱动所述第二部分移动至所述蒸镀腔内。10.根据权利要求9所述的制作方法,其特征在于,所述在所述传送组件上设置多个吸附组件包括:在所述传送组件上设置第一吸附膜,所述第一吸附膜用于吸附磁性粒子;在所述第一吸附膜远离所述传送组件的一侧设置质量感应器;
在所述质量感应器远离所述传送组件的一侧设置第二吸附膜,所述第二吸附膜用于吸附非磁性粒子;所述当满足预设条件时,所述传送组件驱动所述第一部分移动至所述蒸镀腔外,并驱动所述第二部分移动至所述蒸镀腔内包括:当所述磁性粒子的质量和所述非磁性粒子的质量之和大于预设条件时,所述传送组件驱动所述第一部分移动至所述蒸镀腔外,并驱动所述第二部分移动至所述蒸镀腔内。

技术总结
本申请提供了一种蒸镀装置和蒸镀装置的制作方法。其中,蒸镀装置,包括蒸镀腔,吸附组件,所述吸附组件用于吸附所述蒸镀腔中的粒子,所述吸附组件包括位于所述蒸镀腔内的第一部分和位于所述蒸镀腔外的第二部分;传送组件,所述传送组件上设置有所述第一部分和所述第二部分,当满足预设条件时,所述传送组件驱动所述第一部分移动至所述蒸镀腔外,并驱动所述第二部分移动至所述蒸镀腔内。本申请实施例通过传送组件自动更换吸附组件以使新的吸收组件吸收粒子,以防止粒子沉积到蒸镀腔中的防着板上,从而避免了在制备显示面板时基板上引入粒子的情况,解决了加热蒸发的方式导致基板上留有粒子的问题,进而提高有机显示器件的显示性能。示性能。示性能。


技术研发人员:梅亚梦 覃事建
受保护的技术使用者:深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
技术研发日:2021.12.16
技术公布日:2022/4/5
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