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一种低温烧结高Q的制作方法

2022-03-23 09:03:54 来源:中国专利 TAG:
一种低温烧结高q
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f值al2o3微波介质材料
技术领域
1.本发明涉及一种低温烧结高q
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f值的al2o3微波介质材料及其制备方法,是一种电子陶瓷材料,可用于微波通讯等领域。


背景技术:

2.随着5g时代信息技术的快速发展,人们对于通信领域涉及到材料种类以及性能越来越重视。al2o3作为一种微波介质材料,具有适当的介电常数和很高的q
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f值,可作为电路基片广泛应用于移动通信、卫星和天线等领域。但al2o3陶瓷的烧结温度通常在1500oc以上,不仅能耗大、成本高,对环境保护也不利。因此,降低al2o3陶瓷材料的烧结温度成为一项重要任务。在诸多的技术路线中,通过使用添加烧结助剂来降低al2o3陶瓷材料的烧结温度是一种常见的工艺。不过,其结果却不尽如人意,很多烧结助剂虽然可有效降低al2o3陶瓷的烧结温度,却往往会导致其微波介电性能特别是q
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f值大幅下降,从而影响到实际应用。因此,找到合适的烧结助剂,开发出烧结温度较低同时微波介电性能优良特别是q
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f值较高的al2o3微波介质材料,具有重要意义。


技术实现要素:

3.本发明的目的是提供一种低温烧结、高q
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f值的al2o3微波介质材料及其制备方法。
4.为了实现上述目的,采用的技术方案如下:选用高纯al2o3粉体作为原料,加入由适量的mno2、cuo、tio2混合而成的烧结助剂,压制成型后放入普通马弗炉中,升温至预定烧结温度后保温一段时间,即可制得密度高、表面光洁、介电性能优异的al2o3微波介质材料。
5.在上述技术方案中,al2o3粉体原料与烧结助剂的重量比为98:2;烧结助剂中,mno2、cuo、tio2的重量比为(5~7):(3~5):(8~10)。原料与助剂加去离子水后进行混合。混合在球磨机中进行,球磨介质为氧化锆研磨球,料:水:球(重量比)=1:2:3,混合时间为10~14h。样品烧结温度为1150oc~1300oc,升温速率为2~5oc/min,保温时间为1~5h。烧结结束后自然冷却,即获得所需要的al2o3微波介质材料。该材料密度高(相对密度≥98%),微波介电性能优良(介电常数:9.1~10.1,q
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f值:17000ghz~52000ghz)。
6.本发明工艺简单,有利于大规模生产,同时有利于减少能源消耗和环境保护,对可持续性发展具有重要意义。
具体实施方式
7.以下对本发明的优选实施实例进行说明,应当理解为:此处所描述的优选实施实例仅用于说明和解释本发明,并不用于限定本发明。
8.实施方案一:一种低温烧结高q
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f值al2o3微波介质材料。以高纯al2o3粉和商用mno2粉、cuo粉、tio2粉为原料,按以下重量称量:al2o3=98.0g,mno2=0.7g,cuo=0.5g,tio2=0.8g,称量好后一起放入球磨罐中,加入去离子水和研磨锆球,料:水:球(重量比)=1:2:3,
放入球磨机上球磨12h。干燥后加入少量cmc粘结剂(重量约为粉体质量的5%),过80目筛后得到混合粉料。将粉料干压成圆柱状生坯,放入马弗炉中,在1250oc下烧结5h,自然冷却后即可得到al2o3微波介质材料。
9.将制得的al2o3微波介质材料进行性能测试,结果显示:这种低温烧结的al2o3陶瓷的体积密度可达到3.92 g/cm3,其介电常数为10.02,q
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f值达到51239.0ghz。


技术特征:
1.一种低温烧结高q
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f值al2o3微波介质材料及其制造方法,其特征在于:以高纯al2o3粉体为主要原料,加入由适量mno2、cuo、tio2共同组成的烧结助剂;将主要原料和烧结助剂一起放在球磨罐中加水球磨,干燥后过筛造粒得到混合粉料;将所得混合粉料成型后,在一定温度下烧结,即可得到所需的al2o3微波介质材料。2.根据权利要求1所述一种低温烧结高q
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f值al2o3微波介质材料,其特征在于:烧结助剂中,mno2、cuo、tio2质量比为(5~7):(3~5):(8~10);主要原料与烧结助剂的配比为98:2(质量比)。3.根据权利要求1所述的一种低温烧结高q
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f值al2o3微波介质材料,其特征在于:所述球磨时间为10~14h,球磨介质为氧化锆研磨球,料:水:球(重量比)=1:2:3;样品烧结温度为1150
o
c~1300
o
c,升温速率为2~5
o
c/min,保温时间为1~5h。4.根据权利要求1所述一种低温烧结高q
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f值al2o3微波介质材料,其特征在于:这种低温烧结高q
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f值al2o3微波介质材有较高的致密度(相对密度≥98%),介电性能优异(介电常数:9.1~10.1,q
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f值:17000ghz~52000ghz)。

技术总结
本发明公开了一种低温烧结高Q


技术研发人员:李蔚 陶宏磊 张鹏
受保护的技术使用者:华东理工大学
技术研发日:2021.12.27
技术公布日:2022/3/22
再多了解一些

本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

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