硅片复合绒面制作方法及由该方法制作的硅片与流程

技术特征：
1.一种硅片复合绒面制作方法，其特征在于，包括：s1、将硅片放置于第一碱性溶液中进行各向异性蚀刻处理，在所述硅片表面形成正金字塔结构；s2、将形成有正金字塔结构的硅片放置于含有金属离子的第一酸性溶液中进行金属选择性沉积，在所述正金字塔顶部沉积金属颗粒；s3、将沉积有所述金属颗粒的硅片放置于第二酸性溶液中进行金属催化化学腐蚀，在所述正金字塔顶部形成纳米级腐蚀坑；s4、将形成有所述纳米级腐蚀坑的硅片放置于第二碱性溶液中再次进行蚀刻处理，使得所述纳米级腐蚀坑扩大成亚微米级倒金字塔腐蚀坑。2.根据权利要求1所述的硅片复合绒面制作方法，其特征在于，所述第一碱性溶液包括质量百分比浓度为1％-10％的naoh溶液或koh溶液。3.根据权利要求2所述的硅片复合绒面制作方法，其特征在于，所述第一碱性溶液内还包括第一辅助添加剂，所述第一辅助添加剂包括质量百分比浓度为1％～10％的异丙醇或乙醇、质量百分比浓度为1％～10％的四甲基氢氧化铵、以及质量百分比浓度为1％～10％的硅酸钠。4.根据权利要求1-3任意一项所述的硅片复合绒面制作方法，其特征在于，所述s1步骤中，所述第一碱性溶液的温度为50-85℃，各向异性蚀刻处理的时间为200-600s。5.根据权利要求1所述的硅片复合绒面制作方法，其特征在于，所述金属离子包括au

、ag

、cu
2
、pt
2
、ni
2
或pd
2
中的至少一种。6.根据权利要求5所述的硅片复合绒面制作方法，其特征在于，所述第一酸性溶液包括质量百分比浓度为1％-5％的hf溶液。7.根据权利要求6所述的硅片复合绒面制作方法，其特征在于，所述第一酸性溶液内还包括第二辅助添加剂，所述第二辅助添加剂包括质量百分比浓度为1％～10％的蛋白酶以及质量百分比浓度为5％～10％的非离子表面活性剂。8.根据权利要求1、5、6或7任意一项所述的硅片复合绒面制作方法，其特征在于，所述s2步骤中，所述第一酸性溶液的温度为20-40℃，金属选择性沉积的时间为20-200s。9.根据权利要求1所述的硅片复合绒面制作方法，其特征在于，所述第二酸性溶液包括质量百分比浓度为5％-20％的hf溶液以及质量百分比浓度为1％-10％的氧化剂，所述氧化剂包括h2o2、hno3及臭氧水中的至少一种。10.根据权利要求1或9所述的硅片复合绒面制作方法，其特征在于，所述s3步骤中，所述第二酸性溶液的温度为20-40℃，所述金属催化化学腐蚀的时间为20-200s。11.根据权利要求1所述的硅片复合绒面制作方法，其特征在于，所述第二碱性溶液包括质量百分比浓度为1％-10％的naoh溶液或koh溶液。12.根据权利要求11所述的硅片复合绒面制作方法，其特征在于，所述第二碱性溶液内还包括第三辅助添加剂，所述第三辅助添加剂包括包括质量百分比浓度为1％～10％的异丙醇或乙醇、质量百分比浓度为1％～10％的四甲基氢氧化铵、以及质量百分比浓度为1％～10％的硅酸钠。13.根据权利要求1、11或12所述的硅片复合绒面制作方法，其特征在于，所述s4步骤中，所述第二碱性溶液的温度为50-70℃，所述金属催化化学腐蚀的时间为200-600s。
14.根据权利要求1所述的硅片复合绒面制作方法，其特征在于，所述s4步骤之后还包括s5步骤：将所述硅片放置于第三酸性溶液中进行清洗。15.根据权利要求14所述的硅片复合绒面制作方法，其特征在于，所述第三酸性溶液包括质量百分比浓度为20％-50％的hno3或10-30ppm的臭氧水。16.根据权利要求14或15所述的硅片复合绒面制作方法，其特征在于，所述s5步骤中，所述第三酸性溶液的温度为20-40℃，清洗时间为100-300s。17.一种硅片，其特征在于，由权利要求1-16任意一项所述硅片复合绒面制作方法制作而成。

技术总结
本发明提供了一种硅片复合绒面制作方法及由该方法制作的硅片，基于本发明所提供的硅片复合绒面制作方法，能够在硅片表面正金字塔结构的顶部形成倒金字塔腐蚀坑，即所获取的硅片表面形成有由正金字塔结构与倒金字塔腐蚀坑共同构成的复合绒面，在具体应用于太阳能电池片的场景中，该复合绒面具有正金字塔钝化效果好、开压高的优点；还能够兼具倒金字塔陷光效果好、电流高、与电极接触面积大、接触电阻小的优势。的优势。的优势。


技术研发人员：叶晓亚 曹芳 周思洁 邹帅 王栩生
受保护的技术使用者：阿特斯阳光电力集团股份有限公司
技术研发日：2020.09.18
技术公布日：2022/3/18