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一种防刮耐磨的UV光固化保护膜的制作方法

2022-03-17 02:03:07 来源:中国专利 TAG:

一种防刮耐磨的uv光固化保护膜
技术领域
1.本实用新型涉及保护膜技术领域,具体为一种防刮耐磨的uv光固化保护膜。


背景技术:

2.在我们的生活中离不开手机的使用,我们一般会在屏幕的表面贴合保护膜对手机屏幕进行保护,其保护膜用途还有很多,保护膜按照用途可以分为数码产品保护膜,汽车保护膜,家用保护膜,食品保鲜保护膜等,但现有的保护膜一般只能贴合在表面平整的地方,而对于边缘弯折,曲面屏则无法贴合完全,进而生产厂家生产出了uv光固化保护膜,uv光固化保护膜在在使用前可以与保护部位进行贴合,然后经紫外线照射后硬化,进而贴合效果好不容易翘边,但一般的uv光固化保护膜缺少预定位的功能,使用前需要贴合定位一同进行,对贴合人员的要求较高,反复贴合的过程中容易造成uv光固化保护膜的报废,并且uv光固化层一般缺少骨料固化硬度较低,不耐磨,影响使用寿命,为此,我们提出一种防刮耐磨的uv光固化保护膜。


技术实现要素:

3.本实用新型要解决的技术问题是克服现有的缺陷,提供一种防刮耐磨的uv光固化保护膜,可以进行预定位,贴合方便,并且结构强度高,使用寿命长,可以有效解决背景技术中的问题。
4.为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种防刮耐磨的uv光固化保护膜,包括底板和保护单元;
5.底板:其上表面设有ab胶层一,ab胶层一的上表面粘连有离型膜层一和离型膜层二,离型膜层一位于离型膜层二的左侧;
6.保护单元:包括ab胶层二、uv光固化层和二氧化硅微粉,所述ab胶层二粘连于离型膜层一和离型膜层二组成整体的上表面,ab胶层二的上表面设有uv光固化层,uv光固化层的内部设有均匀分布的二氧化硅微粉,uv光固化层的上表面粘连有离型膜层三,在使用时可以方便的与防护位置进行定位,并进行预固定,进而提高了贴合的方便性,并且提高了贴合位置的准确性,进而提高贴合的精度,能避免重复贴合造成保护膜的报废,同时uv光固化层内部设有均匀分布的二氧化硅微粉,进而提升了uv光固化层固化后的结构强度,进而大大提升了uv光固化保护膜的表面硬度,进而保护膜防刮耐磨。
7.进一步的,所述离型膜层三的上表面粘连有ab胶层三,ab胶层三的上表面设有防紫外线层,防止紫外线意外照射到uv光固化层。
8.进一步的,所述防紫外线层为聚碳酸酯防紫外线层,防紫外线照射效果好。
9.进一步的,所述离型膜层三的下表面左右两侧对称设有ab胶层四,ab胶层四的下表面均粘连有离型膜层四,增大与设备表面的粘接面积,方便促使uv光固化层进行成型。
10.进一步的,所述离型膜层二的下表面右侧设有ab胶层五,ab胶层五的下表面粘连有离型膜层五,方便保护膜使用前的定位。
11.进一步的,所述底板为pet底板,pet力学性能好,对保护膜使用前进行防护,防止褶皱。
12.进一步的,所述uv光固化层为聚氨酯丙烯酸酯uv光固化层,性能优异,使用方便。
13.与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本防刮耐磨的uv光固化保护膜,具有以下好处:
14.1、使用时将揭开底板的左端使ab胶层一与离型膜层一和离型膜层二分离,然后将离型膜层一和离型膜层二放置到需要保护设备的表面,然后将uv光固化层与保护位置对其,然后撕下离型膜层五,将ab胶层五粘连到设备的表面,再次比对uv光固化层与保护处的位置,当位置对应后撕下离型膜层一,然后将ab胶层二的左端与保护位置的左侧进行粘接,然后将离型膜层二撕下,将ab胶层二的右端与保护位置的右侧进行粘接,进而uv光固化层将通过ab胶层五粘连到设备的表面,然后撕下ab胶层四下表面的离型膜层四,然后将ab胶层四的下表面与设备的表面进行粘接,进而离型膜层三可以保证ab胶层四与设备的表面紧密接触,并且离型膜层三可以驱使uv光固化层贴合设备的表面,可以对uv光固化层进行初步的定型,在使用时可以方便的与防护位置进行定位,并进行预固定,进而提高了贴合的方便性,并且提高了贴合位置的准确性,进而提高贴合的精度,能避免重复贴合造成保护膜的报废。
15.2、然后撕下防紫外线层,防紫外线层带动ab胶层三与离型膜层三的上表面分离,然后用紫外线照射uv光固化层,uv光固化层内部的引发剂吸收紫外光,产生自由基,引发单体和低聚物反应并且与二氧化硅微粉进行固化的,进而形成高强度的保护膜,然后uv光固化层的粘性小时撕下离型膜层三即可,其上表面设有防紫外线层,可以防止使用前意外受到紫外线的照射,造成uv光固化层的失效,进而保证了uv光固化层使用时的质量,同时uv光固化层内部设有均匀分布的二氧化硅微粉,进而提升了uv光固化层固化后的结构强度,进而大大提升了uv光固化保护膜的表面硬度,进而保护膜防刮耐磨使用寿命长。
附图说明
16.图1为本实用新型结构示意图。
17.图中:1底板、2ab胶层一、3离型膜层一、4离型膜层二、5保护单元、51ab胶层二、52uv光固化层、53二氧化硅微粉、6离型膜层三、7ab胶层三、8防紫外线层、9ab胶层四、10离型膜层四、11ab胶层五、12离型膜层五。
具体实施方式
18.下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
19.请参阅图1,本实施例提供一种技术方案:一种防刮耐磨的uv光固化保护膜,包括底板1和保护单元5;
20.底板1:其上表面设有ab胶层一2,ab胶层一2的上表面粘连有离型膜层一3和离型膜层二4,ab胶层一2分为两面,其中一面是oca胶,粘度大设置到底板1的上表面,b面是硅胶
粘性较小,在跟表面光滑平坦的物体进行贴合的时候会自动排除气泡,进而与离型膜层一3和离型膜层二4进行粘连,离型膜层一3位于离型膜层二4的左侧,底板1为pet底板,pet力学性能好,对保护膜使用前进行防护,防止褶皱,使用时将揭开底板1的左端使ab胶层一2与离型膜层一3和离型膜层二4分离,然后将离型膜层一3和离型膜层二4放置到需要保护设备的表面;
21.保护单元5:包括ab胶层二51、uv光固化层52和二氧化硅微粉53,ab胶层二51粘连于离型膜层一3和离型膜层二4组成整体的上表面,ab胶层二51的上表面设有uv光固化层52,uv光固化层52的内部设有均匀分布的二氧化硅微粉53,二氧化硅微粉53增强uv光固化层52固化后的结构强度,uv光固化层52的上表面粘连有离型膜层三6,离型膜层三6的上表面粘连有ab胶层三7,ab胶层三7的上表面设有防紫外线层8,防紫外线层8为聚碳酸酯防紫外线层,防紫外线层8防止使用前紫外线意外照射到uv光固化层52,造成uv光固化层52的意外固化,离型膜层三6的下表面左右两侧对称设有ab胶层四9,ab胶层四9的下表面均粘连有离型膜层四10,方便离型膜层四10的撕下,离型膜层二4的下表面右侧设有ab胶层五11,ab胶层五11的下表面粘连有离型膜层五12,方便离型膜层五12的撕下,uv光固化层52为聚氨酯丙烯酸酯uv光固化层,将uv光固化层52与保护位置对其,然后撕下离型膜层五12,将ab胶层五11粘连到设备的表面,再次比对uv光固化层52与保护处的位置,当位置对应后撕下离型膜层一3,然后将ab胶层二51的左端与保护位置的左侧进行粘接,然后将离型膜层二4撕下,将ab胶层二51的右端与保护位置的右侧进行粘接,进而uv光固化层52将通过ab胶层五11粘连到设备的表面,然后撕下ab胶层四9下表面的离型膜层四10,然后将ab胶层四9的下表面与设备的表面进行粘接,进而离型膜层三6可以保证ab胶层四9与设备的表面紧密接触,并且离型膜层三6可以驱使uv光固化层52贴合设备的表面,可以对uv光固化层52进行初步的定型,然后撕下防紫外线层8,防紫外线层8带动ab胶层三7与离型膜层三6的上表面分离,然后用紫外线照射uv光固化层52,uv光固化层52内部的引发剂吸收紫外光,产生自由基,引发单体和低聚物反应并且与二氧化硅微粉53进行固化的,进而形成高强度的保护膜,然后uv光固化层52的粘性小时撕下离型膜层三6即可,ab胶层二51、ab胶层三7、ab胶层四9和ab胶层五11均与ab胶层一2的使用方法一致。
22.本实用新型提供的一种防刮耐磨的uv光固化保护膜的工作原理如下:使用时将揭开底板1的左端使ab胶层一2与离型膜层一3和离型膜层二4分离,然后将离型膜层一3和离型膜层二4放置到需要保护设备的表面,然后将uv光固化层52与保护位置对其,然后撕下离型膜层五12,将ab胶层五11粘连到设备的表面,再次比对uv光固化层52与保护处的位置,当位置对应后撕下离型膜层一3,然后将ab胶层二51的左端与保护位置的左侧进行粘接,然后将离型膜层二4撕下,将ab胶层二51的右端与保护位置的右侧进行粘接,进而uv光固化层52将通过ab胶层五11粘连到设备的表面,然后撕下ab胶层四9下表面的离型膜层四10,然后将ab胶层四9的下表面与设备的表面进行粘接,进而离型膜层三6可以保证ab胶层四9与设备的表面紧密接触,并且离型膜层三6可以驱使uv光固化层52贴合设备的表面,可以对uv光固化层52进行初步的定型,然后撕下防紫外线层8,防紫外线层8带动ab胶层三7与离型膜层三6的上表面分离,然后用紫外线照射uv光固化层52,uv光固化层52内部的引发剂吸收紫外光,产生自由基,引发单体和低聚物反应并且与二氧化硅微粉53进行固化的,进而形成高强度的保护膜,然后uv光固化层52的粘性小时撕下离型膜层三6即可。
23.以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其它相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
再多了解一些

本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

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