一种磁控溅射旋转靶的制作方法

1.本实用新型涉及旋转靶领域，具体涉及一种磁控溅射旋转靶。


背景技术：

2.磁控溅射镀膜设备通过电场和磁场的作用，在等离子体真空腔体内对靶材进行溅射。旋转靶相对与平面靶具有靶材利用率高、维护周期长、产能高的特点，因此被广泛使用，但是靶材在使用过程中，靶材会越来越薄，靶材溅射表面与靶筒内的磁体之间的间距会越来越小，这容易使得靶体的表面磁场发生变化，这种变化会导致镀膜层越来越薄，进而无法达到镀膜层的性能要求。
3.因此，需要设计一种磁控溅射旋转靶，以解决上述问题。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种磁控溅射旋转靶，以解决上述背景技术中提出的问题。
5.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：
6.一种磁控溅射旋转靶，包括靶筒，所述靶筒的内侧上部设有固定底座，所述固定底座的底面两端处均设有电动调整支架，所述电动调整支架的下部均设有环形结构的电动环形滑轨，所述电动环形滑轨的相对一端处均设有电动夹爪，所述电动环形滑轨通过电动夹爪与位于电动环形滑轨之间的靶体传动连接，所述靶筒相对的内壁之间设有固定杆，且固定杆穿过两个电动环形滑轨和电动夹爪，所述固定杆位于电动环形滑轨之间的部分上设有磁体组件，且磁体组件与靶体内壁的底面配合。
7.进一步的，所述电动夹爪为电动三抓卡盘。
8.进一步的，所述固定底座的底面且位于靶体的正上方处设有距离传感器，所述距离传感器的信号输出端与电动调整支架的信号输入端电性连接。
9.进一步的，所述磁体组件包括密封盒体、靶靴和磁铁，所述靶靴和磁铁均为与密封盒体内部。
10.进一步的，所述固定杆位于靶体内侧的上部设有用于测量靶体是否水平的水平仪。
11.进一步的，所述水平仪的信号输出端与电动调整支架的信号输入端电性连接。
12.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
13.本实用新型中，通过固定杆对磁体组件进行固定，并使磁体组件置于靶体的内侧，而靶体通过电动夹爪进行定位和固定，而电动环形滑轨启动后能够通过电动夹爪带动靶体实现旋转，随着工作过程中，靶体的壁厚会越来越薄，靶体溅射表面与磁体组件之间的间距会越来越小，电动调整支架在靶体工作的过程中会逐渐降低靶体的位置，使得磁体组件与靶体溅射表面之间的间距位置恒定，从而避免靶体的溅射表面磁场发生变化，进而使得镀膜层的厚度保持一致，以保证的性能要求。
附图说明
14.图1为一种磁控溅射旋转靶的整体结构示意图；
15.图2为一种磁控溅射旋转靶中电动夹爪的结构示意图。
16.图中：1、靶筒；2、固定底座；3、电动调整支架；4、电动环形滑轨；5、电动夹爪；6、靶体；7、固定杆；8、磁体组件；81、密封盒体；82、靶靴；83、磁铁；9、距离传感器；10、水平仪。
具体实施方式
17.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
18.请参阅图1-2，本实用新型提供一种技术方案：
19.一种磁控溅射旋转靶，包括靶筒1，靶筒1的内侧上部设有固定底座2，固定底座2的底面两端处均设有电动调整支架3，电动调整支架3的下部均设有环形结构的电动环形滑轨4，电动环形滑轨4的相对一端处均设有电动夹爪5，电动环形滑轨4通过电动夹爪5与位于电动环形滑轨4之间的靶体6传动连接，靶筒1相对的内壁之间设有固定杆7，且固定杆7穿过两个电动环形滑轨4和电动夹爪5，固定杆7位于电动环形滑轨4之间的部分上设有磁体组件8，且磁体组件8与靶体6内壁的底面配合。
20.通过固定杆7对磁体组件8进行固定，并使磁体组件8置于靶体6的内侧，而靶体6通过电动夹爪5进行定位和固定，而电动环形滑轨4启动后能够通过电动夹爪5带动靶体6实现旋转，随着工作过程中，靶体6的壁厚会越来越薄，靶体6溅射表面与磁体组件8之间的间距会越来越小，电动调整支架3在靶体6工作的过程中会逐渐降低靶体6的位置，使得磁体组件8与靶体6溅射表面之间的间距位置恒定，从而避免靶体6的溅射表面磁场发生变化，进而使得镀膜层的厚度保持一致，以保证的性能要求。
21.其中，电动夹爪5为电动三抓卡盘，能够进行自定心和限位，有利于对不同尺寸的靶体6进行固定。
22.固定底座2的底面且位于靶体6的正上方处设有距离传感器9，距离传感器9的信号输出端与电动调整支架3的信号输入端电性连接，通过距离传感器9对靶体6与固定底座2之间的距离进行监测，以便于对电动调整支架3的调整进行纠正。
23.磁体组件8包括密封盒体81、靶靴82和磁铁83，靶靴82和磁铁83均为与密封盒体81内部，密封盒体81对靶靴82和磁铁83进行保护。
24.固定杆7位于靶体6内侧的上部设有用于测量靶体6是否水平的水平仪10，水平仪10的信号输出端与电动调整支架3的信号输入端电性连接，水平仪10用于检测两个电动调整支架3是否同步上升或下降，以使靶体6与固定杆7保持平行。
25.需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备
所固有的要素。
26.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围包括所附权利要求及其等同物。


技术特征：
1.一种磁控溅射旋转靶，包括靶筒(1)，其特征在于：所述靶筒(1)的内侧上部设有固定底座(2)，所述固定底座(2)的底面两端处均设有电动调整支架(3)，所述电动调整支架(3)的下部均设有环形结构的电动环形滑轨(4)，所述电动环形滑轨(4)的相对一端处均设有电动夹爪(5)，所述电动环形滑轨(4)通过电动夹爪(5)与位于电动环形滑轨(4)之间的靶体(6)传动连接，所述靶筒(1)相对的内壁之间设有固定杆(7)，且固定杆(7)穿过两个电动环形滑轨(4)和电动夹爪(5)，所述固定杆(7)位于电动环形滑轨(4)之间的部分上设有磁体组件(8)，且磁体组件(8)与靶体(6)内壁的底面配合。2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射旋转靶，其特征在于：所述电动夹爪(5)为电动三抓卡盘。3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射旋转靶，其特征在于：所述固定底座(2)的底面且位于靶体(6)的正上方处设有距离传感器(9)，所述距离传感器(9)的信号输出端与电动调整支架(3)的信号输入端电性连接。4.根据权利要求1所述的一种磁控溅射旋转靶，其特征在于：所述磁体组件(8)包括密封盒体(81)、靶靴(82)和磁铁(83)，所述靶靴(82)和磁铁(83)均为与密封盒体(81)内部。5.根据权利要求1所述的一种磁控溅射旋转靶，其特征在于：所述固定杆(7)位于靶体(6)内侧的上部设有用于测量靶体(6)是否水平的水平仪(10)。6.根据权利要求5所述的一种磁控溅射旋转靶，其特征在于：所述水平仪(10)的信号输出端与电动调整支架(3)的信号输入端电性连接。

技术总结
本实用新型公开了一种磁控溅射旋转靶，包括靶筒，靶筒的内侧上部设有固定底座，固定底座的底面两端处均设有电动调整支架，电动调整支架的下部均设有环形结构的电动环形滑轨。本实用新型中，通过固定杆对磁体组件进行固定，并使磁体组件置于靶体的内侧，而靶体通过电动夹爪进行定位和固定，而电动环形滑轨启动后能够通过电动夹爪带动靶体实现旋转，随着工作过程中，靶体的壁厚会越来越薄，靶体溅射表面与磁体组件之间的间距会越来越小，电动调整支架在靶体工作的过程中会逐渐降低靶体的位置，使得磁体组件与靶体溅射表面之间的间距位置恒定，从而避免靶体的溅射表面磁场发生变化，进而使得镀膜层的厚度保持一致，以保证的性能要求。求。求。


技术研发人员：刘佩杰
受保护的技术使用者：深圳市鼎力真空科技有限公司
技术研发日：2021.06.28
技术公布日：2022/2/22