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功能性胶水及制备方法、量子点功能性胶液及制备方法与流程

2022-02-23 01:48:50 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种功能性胶水,其特征在于,所述功能性胶水包括聚合物树脂、光敏材料、有机溶剂以及功能材料,且所述功能性胶水的成分按重量份数计分别为功能材料0.1~30份、聚合物树脂25~49份、有机溶剂30~70份、光敏材料1~5份,其中,所述功能材料为具有氧化性能的材料。2.如权利要求1所述的功能性胶水,其特征在于,所述功能性胶水的成分按重量份数计分别为功能材料5~25份、聚合物树脂30~45份、有机溶剂45~70份、光敏材料1~5份。3.如权利要求1所述的功能性胶水,其特征在于,所述功能材料包括纳米铝、纳米银、纳米锆、纳米钛、纳米硅、纳米钙以及纳米钡中的一种或几种的混合。4.如权利要求1所述的功能性胶水,其特征在于,所述功能材料的粒径为3nm~500nm。5.如权利要求1所述的功能性胶水,其特征在于,所述聚合物树脂包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸乙酯、聚酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、亚克力树脂以及甲基丙烯酸甲酯中的一种或几种的混合。6.如权利要求1所述的功能性胶水,其特征在于,所述有机溶剂包括单官能团活性稀释剂、双官能团活性稀释剂、多官能团活性稀释剂、乙烯基醚类活性稀释剂以及甲基丙烯酸酯类活性稀释剂中的一种或几种的混合。7.如权利要求6所述的功能性胶水,其特征在于,所述单官能团活性稀释剂包括甲基丙烯酸丙酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸十八烷基酯中的一种或几种的混合;所述双官能团活性稀释剂包括二丙二醇二丙烯酸酯、丙氧基化甘油三丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、乙二醇类二丙烯酸酯、丙二醇类二丙烯酸酯中的一种或几种的混合;所述多官能团活性稀释剂包括三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、丙二醇甲醚醋酸酯中的一种或几种的混合。8.如权利要求1所述的功能性胶水,其特征在于,所述光敏材料包括裂解型自由基光引发剂、夺氢型自由基光引发剂、阳离子光引发剂、大分子光引发剂、可聚合光引发剂、uv-led光引发剂以及可见光引发剂中的一种或几种的混合。9.如权利要求8所述的功能性胶水,其特征在于,所述可聚合光引发剂包括二叔丁基过氧化物;所述阳离子光引发剂包括芳茂铁盐、芳基重氮盐中的一种或两种;所述大分子光引发剂包括大分子二苯甲酮;所述裂解型自由基光引发剂包括偶氮二异丁腈、二苯基(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦以及三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦中的一种或几种的混合。10.一种如权利要求1-9中任意一项所述的功能性胶水的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:将所述聚合物树脂、所述光敏材料、所述有机溶剂以及所述功能材料的混合物搅拌1~20小时得到所述功能性胶水,其中搅拌温度为25~50℃。11.一种量子点功能性胶液,其特征在于,所述量子点功能性胶液包括量子点以及如权利要求1-9中任意一项所述的功能性胶水,且所述量子点按重量份数计为大于0份且小于等于20份。12.如权利要求11所述的量子点功能性胶液,其特征在于,所述量子点包括cdse、cds、cdznse、cdzns、cdznses、znses、znse、cuins、cuinse、inp、inznp以及钙钛矿量子点中的一种或几种的混合。13.如权利要求12所述的量子点功能性胶液,其特征在于,所述量子点为均一混合类型、梯度混合类型或核-壳类型。
14.如权利要求11所述的量子点功能性胶液,其特征在于,所述量子点含有配体,所述配体包括c6-c18的饱和胺、不饱和胺、饱和酸以及不饱和酸中的一种或几种的混合。15.如权利要求14所述的量子点功能性胶液,其特征在于,所述量子点所含配体为十四酸、十五酸、十六酸、十七酸、十八酸、十四烯酸、十五烯酸、十六烯酸、十七烯酸、十八烯酸、三丁胺、三正辛胺以及油胺中的一种或几种的混合。16.一种如权利要求11所述的量子点功能性胶液的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:将所述量子点与所述功能性胶水混合搅拌1~20小时得到所述量子点功能性胶液,其中搅拌温度为25~50℃。17.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括显示基板,以及设置在所述显示基板上的量子点功能性胶层,其中,所述量子点功能性胶层由如权利要求11所述的量子点功能性胶液旋涂形成。

技术总结
本发明提供一种功能性胶水及制备方法、量子点功能性胶液及制备方法,所述功能性胶水包括聚合物树脂、光敏材料、有机溶剂以及功能材料,且所述功能性胶水的成分按重量份数计分别为功能材料0.1~30份、聚合物树脂25~49份、有机溶剂30~70份、光敏材料1~5份,其中,所述功能材料为具有氧化性能的材料。本发明可以解决现有技术中量子点胶水容易在固化过程中由于氧气的存在,导致量子点以缺陷为中心进行氧化作用,增加表面缺陷,导致非辐射复合增加,进而导致量子点结构坍塌,光转换能力下降乃至完全丧失的问题。失的问题。失的问题。


技术研发人员:张超 庄永漳 仉旭
受保护的技术使用者:镭昱光电科技(苏州)有限公司
技术研发日:2021.12.02
技术公布日:2022/2/18
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