1.本实用新型涉及一种模制设备，特别是涉及一种转印模制设备。
背景技术：
：：2.现有的平板模制设备通常仅能对尺寸较小的基板进行加工以得到模板，若需要制作大型尺寸的模板，则需要通过组合多片模板的方式才能获得。然而，上述方法不仅耗时费力，且每一批模板尽管制程参数相同，但仍有可能有些许差异而导致多个模板组合时，无法达成预期的效果。3.因此，如何通过结构设计的改良，来克服上述的缺陷，已成为该项事业期望解决的重要课题之一。技术实现要素：4.本实用新型实施例在于提供一种转印模制设备，其能有效地改善现有转印模制设备所可能产生的缺陷。5.本实用新型的其中一个实施例公开一种转印模制设备，其包括：一光学桌，用来承载一基板，并且所述光学桌的边缘环绕且间隔地设置于所述基板；其中，所述基板的长度介于1.6米至1.8米之间，并且所述基板的宽度介于1米至1.2米之间；一光阻喷涂装置，间隔地设置于所述光学桌，并且所述光阻喷涂装置能用来对所述基板喷涂一光阻液；一显影装置，间隔地设置于所述光阻喷涂装置，并且所述基板能被设置于所述显影装置中；一银喷涂装置，间隔地设置于所述显影装置，并且所述银喷涂装置能用来对所述基板喷涂一纳米银溶液；以及一电铸装置，间隔地设置于所述银喷涂装置，并且所述电铸装置能用来在所述基板形成有一镍翻印层。6.优选地，所述转印模制设备进一步包括一无尘腔体，并且所述光学桌、所述光阻喷涂装置、所述显影装置、所述银喷涂装置、以及所述电铸装置设置于所述无尘腔体中。7.优选地，所述转印模制设备进一步包括间隔地设置于所述光学桌的一冲洗装置，并且所述冲洗装置能用来冲洗所述基板。8.优选地，所述光阻喷涂装置包含间隔地设置于所述光学桌的至少一个第一喷嘴，并且所述银喷涂装置包含间隔地设置于所述光学桌的至少一个第二喷嘴；其中，至少一个所述第一喷嘴能用来喷涂所述光阻液，并且至少一个所述第二喷嘴能用来喷涂所述纳米银溶液。9.优选地，所述显影装置包含间隔地设置于所述光学桌的一第一输液件，并且所述电铸装置包含间隔地设置于所述光学桌的一第二输液件；其中，所述第一输液件能用来输出一显影液，并且所述第二输液件能用来输出一镍金属溶液。10.优选地，所述转印模制设备进一步包括一移动装置，连接且能用来移动至少一个所述第一喷嘴及至少一个所述第二喷嘴。11.优选地，所述转印模制设备进一步包括一移动装置，连接且能用来移动所述第一输液件及所述第二输液件。12.优选地，所述光学桌包含多个避震结构及多个孔洞，并且多个所述孔洞能用来吸附并固定所述基板。13.优选地，所述显影装置包含间隔地设置于所述第一输液件的一容置件，并且所述基板能被设置于所述容置件中；其中，所述第一输液件能用来将所述显影液设置于所述容置件内及所述基板上。14.优选地，所述显影装置包含设置于所述容置件的一排液件，并且所述排液件能用来排除所述显影液。15.本实用新型的其中一有益效果在于，本实用新型所提供的所述转印模制设备，其能通过“所述光学桌的边缘环绕且间隔地设置于所述基板；其中，所述基板的长度介于1.6米至1.8米之间，并且所述基板的宽度介于1米至1.2米之间”的技术方案，使所述转印模制设备能用来制作大型尺寸的模板。16.为能更进一步了解本实用新型的特征及技术内容，请参阅以下有关本实用新型的详细说明与附图，但是此等说明与附图仅用来说明本实用新型，而非对本实用新型的保护范围作任何的限制。附图说明17.图1为本实用新型实施例的转印模制设备的立体示意图。18.图2为本实用新型实施例的光学桌的立体示意图。19.图3为本实用新型实施例的光阻喷涂装置的动作示意图。20.图4为本实用新型实施例的软烤装置的动作示意图。21.图5为本实用新型实施例的光刻装置的动作示意图。22.图6为本实用新型实施例的显影装置的动作示意图。23.图7为本实用新型实施例的银喷涂装置的动作示意图。24.图8为本实用新型实施例的电铸装置的动作示意图。25.图9为本实用新型实施例的拆板装置的动作示意图。具体实施方式26.以下是通过特定的具体实施例来说明本实用新型所公开有关“转印模制设备”的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所公开的内容了解本实用新型的优点与效果。本实用新型可通过其他不同的具体实施例加以施行或应用，本说明书中的各项细节也可基于不同观点与应用，在不背离本实用新型的构思下进行各种修改与变更。另外，本实用新型的附图仅为简单示意说明，并非依实际尺寸的描绘，事先声明。此外，以下如有指出请参阅特定图式或是如特定图式所示，其仅是用以强调于后续说明中，所述及的相关内容大部份出现于该特定图式中，但不限制该后续说明中仅可参考所述特定图式。以下的实施方式将进一步详细说明本实用新型的相关技术内容，但所公开的内容并非用以限制本实用新型的保护范围。27.应当可以理解的是，虽然本文中可能会使用到“第一”、“第二”、“第三”等术语来描述各种组件或者信号，但这些组件或者信号不应受这些术语的限制。这些术语主要是用以区分一组件与另一组件，或者一信号与另一信号。另外，本文中所使用的术语“或”，应视实际情况可能包括相关联的列出项目中的任一个或者多个的组合。28.请参阅图1至图9所示，其为本实用新型的实施例，需先说明的是，本实施例所对应到的附图及其所提及的相关数量与外形，仅用来具体地说明本实用新型的实施方式，以便于了解本实用新型的内容，而非用来局限本实用新型的保护范围。29.如图1至图9所示，本实用新型实施例提供一种转印模制设备100，其用来间隔地形成一镍翻印层600于一基板200上。所述基板200于本实施例中主要由聚对苯二甲酸乙二酯(polyethyleneterephthalate,pet)制成，并且所述基板200的长度介于1.6米至1.8米之间，而所述基板200的宽度介于1米至1.2米之间，但本实用新型并不限于此。举例来说，于本实用新型的其他实施例中，所述基板200也可以是由具有透明特性的任一树脂制成。30.所述转印模制设备100包括一光学桌1(opticaltable)、一光阻喷涂装置2、一软烤装置3、一光刻装置4、一显影装置5、一银喷涂装置6、一电铸装置7、一拆板装置8、一移动装置9、一冲洗装置10、以及一无尘腔体(图未标)，但本实用新型不限于此。举例来说，于本实用新型未绘示的其他实施例中，所述转印模制设备100也可以不包含所述冲洗装置10以及所述无尘腔体。31.以下为方便说明与理解，将逐个说明所述转印模制设备100的各个组件，并适时地说明上述各个组件之间的相互位置及作动关系。如图1及图2所示，所述光学桌1用来承载所述基板200，并且所述光学桌1的边缘环绕且间隔地设置于所述基板200。其中，所述光学桌1包含一平台11及连接于所述平台11的一侧的多个支柱12，并且所述平台11相对远离多个所述支柱12的一侧形成有多个孔洞111，而多个所述支柱12安装有多个避震结构121。32.需要说明的是，所述平台11内包含一真空装置(图未绘)，通过所述真空装置，多个所述孔洞111能用来吸附并固定所述基板200，并且多个所述避震结构121用来避免晃动所述基板200。其中，于本实施例中，多个所述孔洞111为螺纹孔。33.如图3所示，所述光阻喷涂装置2包含间隔地设置于所述光学桌1的至少一个第一喷嘴21，并且所述光阻喷涂装置2的至少一个所述第一喷嘴21能用来对所述基板200喷涂一光阻液(图未标)，进而于所述基板200上形成一光阻层300。其中，所述光阻液由正光阻剂形成，而所述光阻液主要是由酚醛树脂(phenol-formaldehyderesin)制成，但本实用新型并不限于此。举例来说，所述光阻液也可以由环氧树脂(epoxyresin)等正光阻剂材料制成。34.需要说明的是，于本实施例中，至少一个所述第一喷嘴21为压电式喷嘴，但本实用新型并不限于此。举例来说，于其他实施例中，至少一个所述第一喷嘴21也可以为连续式喷嘴。更详细地说，当至少一个所述第一喷嘴21为压电式喷嘴时，所述光阻液形成液滴时的形状更为规则，并且所述光阻液被喷涂时能被更加精准地设置于所述基板200。35.此外，当至少一个所述第一喷嘴21为压电式喷嘴时，所述光阻液不需加热，因此所述光阻液不易发生化学变化，并且由于所述光阻液的温度持续保持在稳定的状态，即使所述光阻液被长时间不间断地喷印后，所述光阻液的粘度及表面张力保持相对的稳定，从而可以使所述光阻液涂布于所述基板200时的均匀度提升。36.当至少一个所述第一喷嘴21为连续式喷嘴时，所述光阻液形成液滴的速度提升，进而使至少一个所述第一喷嘴21的喷涂速度增加。需要说明的是，当至少一个所述第一喷嘴21为压电式喷嘴或连续式喷嘴时，至少一个所述第一喷嘴21同时也为溶剂型喷嘴，否则至少一个所述第一喷嘴21将容易被腐蚀而降低使用寿命。37.如图4所示，所述软烤装置3间隔地设置于所述光学桌1，并且所述软烤装置3包含多个软烤灯31，而每个所述软烤灯31为一红外线灯、一近红外线灯、或一氙灯，而所述软烤装置3的每个所述软烤灯31于本实施例中为较佳为近红外线灯。其中，所述软烤装置3能用来烘烤所述光阻层300，并使所述光阻层300的溶剂含量降低。38.如图5所示，所述光刻装置4间隔地设置于所述软烤装置3，并且所述光刻装置4包含至少一个光刻光源41及间隔地设置于至少一个所述光刻光源41的一光罩(图未绘)，而至少一个所述光刻光源41包含多个发光二极管(图未绘)，其用来发出波长248纳米至365纳米的紫外光，但本实用新型不限于此。举例来说，于本实用新型未绘示的其他实施例中，所述光刻装置4也可以包含有间隔地设置于至少一个所述光刻光源41的一干涉件。39.具体来说，至少一个所述光刻光源41产生的光线能穿透过所述光罩，进而形成一图案化光源(图未标)，并且所述图案化光源能用来对部分所述光阻层300照射，进而使部分受照射的所述光阻层300对应形成一图案化光阻层400。40.如图6及图7所示，所述显影装置5间隔地设置于所述光阻喷涂装置2，并且所述基板200能被设置于所述显影装置5中。其中，所述显影装置5用来移除所述光阻层300上未被至少一个所述光刻光源41照射的部分所述光阻层300，以对应形成所述图案化光阻层400。41.进一步地说，所述显影装置5包含设置于所述光学桌1的一容置件51、连接于所述容置件51的一第一储液桶52、间隔地设置于所述光学桌1的一第一输液件53、及连接于所述容置件51的一排液件54。其中，所述基板200被设置于所述容置件51中，所述第一储液桶52容纳有一显影液5s，所述第一输液件53能用来抽取所述第一储液桶52中的所述显影液5s，输出并将所述显影液5s设置于所述容置件51内及所述基板200上，而所述排液件54能用来排除所述显影液5s。42.借此，当所述基板200浸泡于所述显影液5s时，所述光阻层300上未被至少一个所述光刻光源41照射的部分所述光阻层300将被所述显影液5s溶解，进而使所述光阻层300上已被至少一个所述光刻光源41照射的部分所述光阻层300对应形成所述图案化光阻层400。43.需要说明的是，所述显影液5s的组成材料的种类与组成材料比例对应于所述光阻液的组成材料的种类与组成材料比例。换句话说，所述显影液5s包含的组成材料种类与组成材料比例会随所述光阻液的组成材料的种类与比例变动。所述显影液5s于本实施例中包含溶解有四甲基氢氧化铵(tmah)的碱水溶液，但本实用新型并不限于此。举例来说，于其他实施例中，溶解有四甲基氢氧化铵(tmah)的所述碱水溶液，也可以被替换成溶解有四乙基氢氧化铵(teah)、四丙基氢氧化铵(tpah)、或四丁基氢氧化铵(tbah)的碱水溶液。44.如图7所示，所述银喷涂装置6间隔地设置于所述显影装置5，并且所述银喷涂装置6能用来对所述基板200喷涂一纳米银溶液(图未标)。进一步地说，所述银喷涂装置6包含间隔地设置于所述光学桌1的至少一个第二喷嘴61，并且至少一个所述第二喷嘴61能用来喷涂所述纳米银溶液于所述图案化光阻层400上，以对应形成一银金属层500。45.如图8所示，所述电铸装置7间隔地设置于所述银喷涂装置6，并且所述电铸装置7能用来在所述基板200形成有所述镍翻印层600。具体来说，所述电铸装置7包含间隔地设置于所述光学桌1的一第二储液桶71及连接于所述第二储液桶71的一第二输液件72，所述第二储液桶71储存有一镍金属溶液7s，并且所述第二输液件72能从所述第二储液桶71抽取所述镍金属溶液7s，而后将所述镍金属溶液7s分布于所述银金属层500，以对应形成所述镍翻印层600。46.承上所述，所述转印模制设备100能通过“在所述图案化光阻层400上对应形成所述银金属层500“的技术手段，使所述镍翻印层600能相对轻易地从所述基板200完整剥离。47.如图9所示，所述拆板装置8间隔地设置于所述光刻装置4，并且所述拆板装置8能用来拆解所述基板200。具体来说，所述拆板装置8包含一分离件81及一固定件82，所述分离件81间隔地设置于所述光学桌1，并且所述分离件81能用来可拆卸地连接于所述基板200的一侧；所述固定件82可拆卸地设置于所述光学桌1，并且所述固定件82能用来固定所述基板200。48.进一步地说，所述分离件81能用来连接所述镍翻印层600，而所述固定件82能用来固定所述图案化光阻层400。其中，所述分离件81与所述固定件82能相互分离，进而使所述镍翻印层600与所述银金属层500相互分离。49.如图1所示，所述移动装置9连接且能用来移动至少一个所述第一喷嘴21、至少一个所述第二喷嘴61、所述第一输液件53、所述第二输液件72、所述光罩或所述干涉件。其中，所述移动装置9还能进一步连接并移动所述软烤装置3、所述光刻装置4、以及所述拆板装置8。50.如图1所示，所述冲洗装置10间隔地设置于所述光学桌1，并且所述冲洗装置10能用来冲洗所述基板200。具体来说，所述冲洗装置10用来在所述图案化光阻层400离开所述容置件51内的所述显影液5s时，以水冲洗分布于所述图案化光阻层400的所述显影液5s。51.需要说明的是，所述光学桌1、所述光阻喷涂装置2、所述软烤装置3、所述光刻装置4、所述显影装置5、所述银喷涂装置6、所述电铸装置7、所述拆板装置8、所述移动装置9、所述冲洗装置10设置于所述无尘腔体中，并且所述无尘腔体的等级于本实施例中为美国联邦标准分级1至美国联邦标准分级500。其中，所述无尘腔体用来避免所述基板200被环境中的污染源黏附。52.实施例的有益效果：53.本实用新型的其中一有益效果在于，本实用新型所提供的所述转印模制设备100，其能通过“所述光学桌1的边缘环绕且间隔地设置于所述基板200；其中，所述基板200的长度介于1.6米至1.8米之间，并且所述基板200的宽度介于1米至1.2米之间”的技术方案，使所述转印模制设备100能用来制作大型尺寸的模板。54.以上所公开的内容仅为本实用新型的优选可行实施例，并非因此局限本实用新型的申请专利范围，所以凡是运用本实用新型说明书及图式内容所做的等效技术变化，均包含于本实用新型的申请专利范围内。当前第1页12当前第1页12
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：：2.现有的平板模制设备通常仅能对尺寸较小的基板进行加工以得到模板，若需要制作大型尺寸的模板，则需要通过组合多片模板的方式才能获得。然而，上述方法不仅耗时费力，且每一批模板尽管制程参数相同，但仍有可能有些许差异而导致多个模板组合时，无法达成预期的效果。3.因此，如何通过结构设计的改良，来克服上述的缺陷，已成为该项事业期望解决的重要课题之一。技术实现要素：4.本实用新型实施例在于提供一种转印模制设备，其能有效地改善现有转印模制设备所可能产生的缺陷。5.本实用新型的其中一个实施例公开一种转印模制设备，其包括：一光学桌，用来承载一基板，并且所述光学桌的边缘环绕且间隔地设置于所述基板；其中，所述基板的长度介于1.6米至1.8米之间，并且所述基板的宽度介于1米至1.2米之间；一光阻喷涂装置，间隔地设置于所述光学桌，并且所述光阻喷涂装置能用来对所述基板喷涂一光阻液；一显影装置，间隔地设置于所述光阻喷涂装置，并且所述基板能被设置于所述显影装置中；一银喷涂装置，间隔地设置于所述显影装置，并且所述银喷涂装置能用来对所述基板喷涂一纳米银溶液；以及一电铸装置，间隔地设置于所述银喷涂装置，并且所述电铸装置能用来在所述基板形成有一镍翻印层。6.优选地，所述转印模制设备进一步包括一无尘腔体，并且所述光学桌、所述光阻喷涂装置、所述显影装置、所述银喷涂装置、以及所述电铸装置设置于所述无尘腔体中。7.优选地，所述转印模制设备进一步包括间隔地设置于所述光学桌的一冲洗装置，并且所述冲洗装置能用来冲洗所述基板。8.优选地，所述光阻喷涂装置包含间隔地设置于所述光学桌的至少一个第一喷嘴，并且所述银喷涂装置包含间隔地设置于所述光学桌的至少一个第二喷嘴；其中，至少一个所述第一喷嘴能用来喷涂所述光阻液，并且至少一个所述第二喷嘴能用来喷涂所述纳米银溶液。9.优选地，所述显影装置包含间隔地设置于所述光学桌的一第一输液件，并且所述电铸装置包含间隔地设置于所述光学桌的一第二输液件；其中，所述第一输液件能用来输出一显影液，并且所述第二输液件能用来输出一镍金属溶液。10.优选地，所述转印模制设备进一步包括一移动装置，连接且能用来移动至少一个所述第一喷嘴及至少一个所述第二喷嘴。11.优选地，所述转印模制设备进一步包括一移动装置，连接且能用来移动所述第一输液件及所述第二输液件。12.优选地，所述光学桌包含多个避震结构及多个孔洞，并且多个所述孔洞能用来吸附并固定所述基板。13.优选地，所述显影装置包含间隔地设置于所述第一输液件的一容置件，并且所述基板能被设置于所述容置件中；其中，所述第一输液件能用来将所述显影液设置于所述容置件内及所述基板上。14.优选地，所述显影装置包含设置于所述容置件的一排液件，并且所述排液件能用来排除所述显影液。15.本实用新型的其中一有益效果在于，本实用新型所提供的所述转印模制设备，其能通过“所述光学桌的边缘环绕且间隔地设置于所述基板；其中，所述基板的长度介于1.6米至1.8米之间，并且所述基板的宽度介于1米至1.2米之间”的技术方案，使所述转印模制设备能用来制作大型尺寸的模板。16.为能更进一步了解本实用新型的特征及技术内容，请参阅以下有关本实用新型的详细说明与附图，但是此等说明与附图仅用来说明本实用新型，而非对本实用新型的保护范围作任何的限制。附图说明17.图1为本实用新型实施例的转印模制设备的立体示意图。18.图2为本实用新型实施例的光学桌的立体示意图。19.图3为本实用新型实施例的光阻喷涂装置的动作示意图。20.图4为本实用新型实施例的软烤装置的动作示意图。21.图5为本实用新型实施例的光刻装置的动作示意图。22.图6为本实用新型实施例的显影装置的动作示意图。23.图7为本实用新型实施例的银喷涂装置的动作示意图。24.图8为本实用新型实施例的电铸装置的动作示意图。25.图9为本实用新型实施例的拆板装置的动作示意图。具体实施方式26.以下是通过特定的具体实施例来说明本实用新型所公开有关“转印模制设备”的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所公开的内容了解本实用新型的优点与效果。本实用新型可通过其他不同的具体实施例加以施行或应用，本说明书中的各项细节也可基于不同观点与应用，在不背离本实用新型的构思下进行各种修改与变更。另外，本实用新型的附图仅为简单示意说明，并非依实际尺寸的描绘，事先声明。此外，以下如有指出请参阅特定图式或是如特定图式所示，其仅是用以强调于后续说明中，所述及的相关内容大部份出现于该特定图式中，但不限制该后续说明中仅可参考所述特定图式。以下的实施方式将进一步详细说明本实用新型的相关技术内容，但所公开的内容并非用以限制本实用新型的保护范围。27.应当可以理解的是，虽然本文中可能会使用到“第一”、“第二”、“第三”等术语来描述各种组件或者信号，但这些组件或者信号不应受这些术语的限制。这些术语主要是用以区分一组件与另一组件，或者一信号与另一信号。另外，本文中所使用的术语“或”，应视实际情况可能包括相关联的列出项目中的任一个或者多个的组合。28.请参阅图1至图9所示，其为本实用新型的实施例，需先说明的是，本实施例所对应到的附图及其所提及的相关数量与外形，仅用来具体地说明本实用新型的实施方式，以便于了解本实用新型的内容，而非用来局限本实用新型的保护范围。29.如图1至图9所示，本实用新型实施例提供一种转印模制设备100，其用来间隔地形成一镍翻印层600于一基板200上。所述基板200于本实施例中主要由聚对苯二甲酸乙二酯(polyethyleneterephthalate,pet)制成，并且所述基板200的长度介于1.6米至1.8米之间，而所述基板200的宽度介于1米至1.2米之间，但本实用新型并不限于此。举例来说，于本实用新型的其他实施例中，所述基板200也可以是由具有透明特性的任一树脂制成。30.所述转印模制设备100包括一光学桌1(opticaltable)、一光阻喷涂装置2、一软烤装置3、一光刻装置4、一显影装置5、一银喷涂装置6、一电铸装置7、一拆板装置8、一移动装置9、一冲洗装置10、以及一无尘腔体(图未标)，但本实用新型不限于此。举例来说，于本实用新型未绘示的其他实施例中，所述转印模制设备100也可以不包含所述冲洗装置10以及所述无尘腔体。31.以下为方便说明与理解，将逐个说明所述转印模制设备100的各个组件，并适时地说明上述各个组件之间的相互位置及作动关系。如图1及图2所示，所述光学桌1用来承载所述基板200，并且所述光学桌1的边缘环绕且间隔地设置于所述基板200。其中，所述光学桌1包含一平台11及连接于所述平台11的一侧的多个支柱12，并且所述平台11相对远离多个所述支柱12的一侧形成有多个孔洞111，而多个所述支柱12安装有多个避震结构121。32.需要说明的是，所述平台11内包含一真空装置(图未绘)，通过所述真空装置，多个所述孔洞111能用来吸附并固定所述基板200，并且多个所述避震结构121用来避免晃动所述基板200。其中，于本实施例中，多个所述孔洞111为螺纹孔。33.如图3所示，所述光阻喷涂装置2包含间隔地设置于所述光学桌1的至少一个第一喷嘴21，并且所述光阻喷涂装置2的至少一个所述第一喷嘴21能用来对所述基板200喷涂一光阻液(图未标)，进而于所述基板200上形成一光阻层300。其中，所述光阻液由正光阻剂形成，而所述光阻液主要是由酚醛树脂(phenol-formaldehyderesin)制成，但本实用新型并不限于此。举例来说，所述光阻液也可以由环氧树脂(epoxyresin)等正光阻剂材料制成。34.需要说明的是，于本实施例中，至少一个所述第一喷嘴21为压电式喷嘴，但本实用新型并不限于此。举例来说，于其他实施例中，至少一个所述第一喷嘴21也可以为连续式喷嘴。更详细地说，当至少一个所述第一喷嘴21为压电式喷嘴时，所述光阻液形成液滴时的形状更为规则，并且所述光阻液被喷涂时能被更加精准地设置于所述基板200。35.此外，当至少一个所述第一喷嘴21为压电式喷嘴时，所述光阻液不需加热，因此所述光阻液不易发生化学变化，并且由于所述光阻液的温度持续保持在稳定的状态，即使所述光阻液被长时间不间断地喷印后，所述光阻液的粘度及表面张力保持相对的稳定，从而可以使所述光阻液涂布于所述基板200时的均匀度提升。36.当至少一个所述第一喷嘴21为连续式喷嘴时，所述光阻液形成液滴的速度提升，进而使至少一个所述第一喷嘴21的喷涂速度增加。需要说明的是，当至少一个所述第一喷嘴21为压电式喷嘴或连续式喷嘴时，至少一个所述第一喷嘴21同时也为溶剂型喷嘴，否则至少一个所述第一喷嘴21将容易被腐蚀而降低使用寿命。37.如图4所示，所述软烤装置3间隔地设置于所述光学桌1，并且所述软烤装置3包含多个软烤灯31，而每个所述软烤灯31为一红外线灯、一近红外线灯、或一氙灯，而所述软烤装置3的每个所述软烤灯31于本实施例中为较佳为近红外线灯。其中，所述软烤装置3能用来烘烤所述光阻层300，并使所述光阻层300的溶剂含量降低。38.如图5所示，所述光刻装置4间隔地设置于所述软烤装置3，并且所述光刻装置4包含至少一个光刻光源41及间隔地设置于至少一个所述光刻光源41的一光罩(图未绘)，而至少一个所述光刻光源41包含多个发光二极管(图未绘)，其用来发出波长248纳米至365纳米的紫外光，但本实用新型不限于此。举例来说，于本实用新型未绘示的其他实施例中，所述光刻装置4也可以包含有间隔地设置于至少一个所述光刻光源41的一干涉件。39.具体来说，至少一个所述光刻光源41产生的光线能穿透过所述光罩，进而形成一图案化光源(图未标)，并且所述图案化光源能用来对部分所述光阻层300照射，进而使部分受照射的所述光阻层300对应形成一图案化光阻层400。40.如图6及图7所示，所述显影装置5间隔地设置于所述光阻喷涂装置2，并且所述基板200能被设置于所述显影装置5中。其中，所述显影装置5用来移除所述光阻层300上未被至少一个所述光刻光源41照射的部分所述光阻层300，以对应形成所述图案化光阻层400。41.进一步地说，所述显影装置5包含设置于所述光学桌1的一容置件51、连接于所述容置件51的一第一储液桶52、间隔地设置于所述光学桌1的一第一输液件53、及连接于所述容置件51的一排液件54。其中，所述基板200被设置于所述容置件51中，所述第一储液桶52容纳有一显影液5s，所述第一输液件53能用来抽取所述第一储液桶52中的所述显影液5s，输出并将所述显影液5s设置于所述容置件51内及所述基板200上，而所述排液件54能用来排除所述显影液5s。42.借此，当所述基板200浸泡于所述显影液5s时，所述光阻层300上未被至少一个所述光刻光源41照射的部分所述光阻层300将被所述显影液5s溶解，进而使所述光阻层300上已被至少一个所述光刻光源41照射的部分所述光阻层300对应形成所述图案化光阻层400。43.需要说明的是，所述显影液5s的组成材料的种类与组成材料比例对应于所述光阻液的组成材料的种类与组成材料比例。换句话说，所述显影液5s包含的组成材料种类与组成材料比例会随所述光阻液的组成材料的种类与比例变动。所述显影液5s于本实施例中包含溶解有四甲基氢氧化铵(tmah)的碱水溶液，但本实用新型并不限于此。举例来说，于其他实施例中，溶解有四甲基氢氧化铵(tmah)的所述碱水溶液，也可以被替换成溶解有四乙基氢氧化铵(teah)、四丙基氢氧化铵(tpah)、或四丁基氢氧化铵(tbah)的碱水溶液。44.如图7所示，所述银喷涂装置6间隔地设置于所述显影装置5，并且所述银喷涂装置6能用来对所述基板200喷涂一纳米银溶液(图未标)。进一步地说，所述银喷涂装置6包含间隔地设置于所述光学桌1的至少一个第二喷嘴61，并且至少一个所述第二喷嘴61能用来喷涂所述纳米银溶液于所述图案化光阻层400上，以对应形成一银金属层500。45.如图8所示，所述电铸装置7间隔地设置于所述银喷涂装置6，并且所述电铸装置7能用来在所述基板200形成有所述镍翻印层600。具体来说，所述电铸装置7包含间隔地设置于所述光学桌1的一第二储液桶71及连接于所述第二储液桶71的一第二输液件72，所述第二储液桶71储存有一镍金属溶液7s，并且所述第二输液件72能从所述第二储液桶71抽取所述镍金属溶液7s，而后将所述镍金属溶液7s分布于所述银金属层500，以对应形成所述镍翻印层600。46.承上所述，所述转印模制设备100能通过“在所述图案化光阻层400上对应形成所述银金属层500“的技术手段，使所述镍翻印层600能相对轻易地从所述基板200完整剥离。47.如图9所示，所述拆板装置8间隔地设置于所述光刻装置4，并且所述拆板装置8能用来拆解所述基板200。具体来说，所述拆板装置8包含一分离件81及一固定件82，所述分离件81间隔地设置于所述光学桌1，并且所述分离件81能用来可拆卸地连接于所述基板200的一侧；所述固定件82可拆卸地设置于所述光学桌1，并且所述固定件82能用来固定所述基板200。48.进一步地说，所述分离件81能用来连接所述镍翻印层600，而所述固定件82能用来固定所述图案化光阻层400。其中，所述分离件81与所述固定件82能相互分离，进而使所述镍翻印层600与所述银金属层500相互分离。49.如图1所示，所述移动装置9连接且能用来移动至少一个所述第一喷嘴21、至少一个所述第二喷嘴61、所述第一输液件53、所述第二输液件72、所述光罩或所述干涉件。其中，所述移动装置9还能进一步连接并移动所述软烤装置3、所述光刻装置4、以及所述拆板装置8。50.如图1所示，所述冲洗装置10间隔地设置于所述光学桌1，并且所述冲洗装置10能用来冲洗所述基板200。具体来说，所述冲洗装置10用来在所述图案化光阻层400离开所述容置件51内的所述显影液5s时，以水冲洗分布于所述图案化光阻层400的所述显影液5s。51.需要说明的是，所述光学桌1、所述光阻喷涂装置2、所述软烤装置3、所述光刻装置4、所述显影装置5、所述银喷涂装置6、所述电铸装置7、所述拆板装置8、所述移动装置9、所述冲洗装置10设置于所述无尘腔体中，并且所述无尘腔体的等级于本实施例中为美国联邦标准分级1至美国联邦标准分级500。其中，所述无尘腔体用来避免所述基板200被环境中的污染源黏附。52.实施例的有益效果：53.本实用新型的其中一有益效果在于，本实用新型所提供的所述转印模制设备100，其能通过“所述光学桌1的边缘环绕且间隔地设置于所述基板200；其中，所述基板200的长度介于1.6米至1.8米之间，并且所述基板200的宽度介于1米至1.2米之间”的技术方案，使所述转印模制设备100能用来制作大型尺寸的模板。54.以上所公开的内容仅为本实用新型的优选可行实施例，并非因此局限本实用新型的申请专利范围，所以凡是运用本实用新型说明书及图式内容所做的等效技术变化，均包含于本实用新型的申请专利范围内。当前第1页12当前第1页12
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