一种CVD装置及其分散进气方法与流程

技术特征：
1.一种cvd装置，其特征在于：包括外腔体(110)、设置在外腔体(110)上的外腔盖(111)，所述外腔体(110)内部设置有内反应腔a(140)、内反应腔b(150)以及内反应腔c(160)；所述外腔盖(111)上设置有蜗杆减速机(116)、伺服减速电机(117)、升降装置(112)、升降架(113)以及花键轴(119)，所述蜗杆减速机(116)设置在所述外腔盖(111)的中心处，所述伺服减速电机(117)的输出轴与所述蜗杆减速机(116)固定连接，所述升降装置(112)为两个，两个所述升降装置(112)对称设置在所述外腔盖(111)上并位于所述蜗杆减速机(116)的两端，所述升降架(113)固定设置在两个升降装置(112)的顶部，所述花键轴(119)转动设置在所述蜗杆减速机(116)内，且所述花键轴(119)一端与所述升降架(113)固定连接、另一端穿过所述外腔盖(111)并往所述外腔体(110)内延伸，其中，所述花键轴(119)朝向外腔体(110)的一端固定连接有安装板(127)，所述安装板(127)朝向所述外腔体(110)底部的一面分别固定设置有与所述内反应腔a(140)、内反应腔b(150)以及内反应腔c(160)相对应的第一内腔盖(121)、第二内腔盖、第三内腔盖，所述内腔盖(121)、第二内腔盖、第三内腔盖朝向所述外腔体(110)底部的一面均固定设置有托架(122)，且所述托架(122)内设置有基片架(123)。2.根据权利要求1所述的一种cvd装置，其特征在于：所述内反应腔a(140)、内反应腔b(150)以及内反应腔c(160)结构均相同，所述内反应腔a(140)、内反应腔b(150)以及内反应腔c(160)内均设置有对称的均气装置(180)。3.根据权利要求2所述的一种cvd装置，其特征在于：所述内反应腔a(140)、内反应腔b(150)以及内反应腔c(160)的底部均设置有进气口和排气口。4.根据权利要求3所述的一种cvd装置，其特征在于：所述内反应腔a(140)、内反应腔b(150)、内反应腔c(160)内均设置有加热装置。5.根据权利要求1所述的一种cvd装置，其特征在于：位于所述蜗杆减速机(116)与升降架(113)之间的花键轴(119)的外表面设置有波纹管(115)，所述波纹管(115)的一端与所述蜗杆减速机(116)另一端与所述升降架(113)。6.根据权利要求5所述的一种cvd装置，其特征在于：所述蜗杆减速机(116)通过密封法兰(118)与所述外腔盖(111)固定连接。7.根据权利要求1所述的一种cvd装置，其特征在于：所述第一内腔盖(121)、第二内腔盖、第三内腔盖均通过滑块组件与所述安装板(127)固定连接。8.根据权利要求1所述的一种cvd装置，其特征在于：所述外腔体(110)一侧安装有门阀(131)。9.根据权利要求1
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8任意一项所述的一种cvd装置分散进气方法，其特征在于：包括由工艺气源(201)、隔膜阀ⅰ(202)、隔膜阀ⅱ(203)、质量流量计ⅰ(204)、隔膜阀ⅲ(205)、隔膜阀ⅳ(206)、质量流量计ⅱ(207)、隔膜阀
ⅴ
(208)、质量流量计ⅲ(209)、隔膜阀
ⅵ
(210)、质量流量计ⅳ(211)、真空泵(301)、角阀ⅰ(302)、热阱(303)、角阀ⅱ(304)、前驱体ⅰ(401)、前驱体阀ⅰ(402)、前驱体ⅱ(403)、前驱体阀ⅱ(404)、前驱体ⅲ(405)、前驱体阀ⅲ(406)构成的五种进气方式，其中，第一进气方式；工艺气源(201)作为载体气体依次通过隔膜阀ⅰ(202)、隔膜阀ⅱ(203)、质量流量计ⅰ(204)与所述外腔体(110)连通；第二进气方式；工艺气源(201)作为载体气体依次通过隔膜阀ⅰ(202)和隔膜阀ⅲ(205)
与所述外腔体(110)连通；第三进气方式；工艺气源(201)作为载体气体依次通过隔膜阀ⅰ(202)、隔膜阀ⅳ(206)、质量流量计ⅱ(207)与前驱体ⅰ(401)、前驱体阀ⅰ(402)并联进入内反应腔c(160)；第四进气方式；工艺气源(201)作为载体气体依次通过隔膜阀ⅰ(202)、隔膜阀
ⅴ
(208)、质量流量计ⅲ(209)与前驱体ⅱ(403)、前驱体阀ⅱ(404)并联接入内反应腔b(150)；第五进气方式；工艺气源(201)作为载体气体依次通过隔膜阀ⅰ(202)、隔膜阀
ⅵ
(210)、质量流量计ⅳ(211)与前驱体ⅲ(405)、前驱体阀ⅲ(406)并联接入内反应腔a(140)。10.根据权利要求9所述的一种cvd装置分散进气方法，其特征在于：所述真空泵(301)、角阀ⅰ(302)、热阱(303)构成抽真空管路，其中，真空管路分三路分别接入内反应腔a(140)、内反应腔b(150)与内反应腔c(160)，且外腔体(110)通过角阀ⅱ(304)与真空管路连通。

技术总结
一种CVD装置，包括外腔体、外腔盖，外腔体内部设置有内反应腔A、内反应腔B以及内反应腔C；外腔盖上设置有蜗杆减速机、伺服减速电机、升降装置、升降架以及花键轴，蜗杆减速机设置在外腔盖上，伺服减速电机与蜗杆减速机固定连接，升降装置为两个，两个升降装置设置在外腔盖上，升降架设置在两个升降装置的顶部，花键轴转动设置在蜗杆减速机内，且花键轴一端与升降架固定连接、另一端穿过外腔盖并往外腔体内延伸，花键轴朝向外腔体的一端固定连接有安装板，安装板上设置有与内反应腔A、内反应腔B、内反应腔C对应的第一内腔盖、第二内腔盖、第三内腔盖，第一内腔盖、第二内腔盖、第三内腔盖朝向外腔体底部的一面均固定设置有托架。外腔体底部的一面均固定设置有托架。外腔体底部的一面均固定设置有托架。


技术研发人员：刘柏希 韩长海 龚涛 齐家庆
受保护的技术使用者：湘潭大学
技术研发日：2021.10.11
技术公布日：2022/1/4