玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置及方法与流程

技术特征：
1.玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置，其特征在于：包括吹风通道(1)，所述吹风通道(1)下游连通有吸尘通道(2)，所述吸尘通道(2)下游连通有光检通道(3)，所述光检通道(3)下游连通有中和处理通道(4)；所述吹风通道(1)、吸尘通道(2)、光检通道(3)和中和处理通道(4)内都配置有由外界动力装置驱动转动的导辊结构；所述吹风通道(1)内配置有上出风装置(101)和下出风装置(102)，所述上出风装置(101)和下出风装置(102)都开设有朝向导辊结构的斜向出风口(103)，所述吹风通道(1)内配置有位于上出风装置(101)上游方位的第一位置传感器(104)，所述吹风通道(1)内设置有位于上出风装置(101)下游方位的第二位置传感器(105)；所述吸尘通道(2)内配置有上吸尘装置(201)和下吸尘装置(202)，所述上吸尘装置(201)和下吸尘装置(202)都设置有朝向导辊结构的吸尘口(203)；所述光检通道(3)内配置有光检装置(301)，所述光检装置(301)下侧面安装有若干等间隔分布的曝光度检测机构(304)，所述光检装置(301)下侧面设置有位于曝光度检测机构(304)下游的第三位置传感器(303)，所述光检装置(301)的下侧面嵌入设置有位于相邻的曝光度检测机构(304)之间的远离处光度传感器(305)，所述光检通道(3)内设置有若干位于导辊结构下方的底侧伸缩装置(306)；所述中和处理通道(4)内独立配置有第一水箱(401)、第二水箱(402)、第三水箱(403)，所述中和处理通道(4)内配置有与第一水箱(401)相配合的第一清洗舱(404)，所述中和处理通道(4)内配置有与第二水箱(402)相配合的毛刷清洗舱(405)，所述中和处理通道(4)内配置有与第三水箱(403)相配合的纯水喷淋舱(406)，所述中和处理通道(4)内配置有一级风刀干燥舱(407)、二级风刀干燥舱(408)。2.根据权利要求1所述的玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置，其特征在于：所述上出风装置(101)和下出风装置(102)的斜向出风口(103)的倾斜方向都偏向吸尘通道(2)。3.根据权利要求1所述的玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置及方法，其特征在于：所述吸尘通道(2)内设置有位于上吸尘装置(201)、下吸尘装置(202)下游的下游挡板(204)，所述导辊结构横向穿过上下侧的下游挡板(204)之间。4.根据权利要求1所述的玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置，其特征在于：所述光检装置(301)的下侧面边缘区域设置有内面反光框板(302)，所述内面反光框板(302)的内侧壁面涂覆有反光材料层。5.根据权利要求1所述的玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置，其特征在于：所述底侧伸缩装置(306)至少设置平行的三组，每组的底侧伸缩装置至少为两个；所述底侧伸缩装置(306)包括向上穿过相邻导辊结构的伸缩杆(307)，所述伸缩杆(307)上端配置有用于支撑抛光后的玻璃基板(5)的支撑橡胶垫板(308)。6.根据权利要求1所述的玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置，其特征
在于：所述曝光度检测机构(304)包括条状的曝光led(3041)和接近面光度传感条(3042)，所述接近面光度传感条(3042)内嵌若干个光度传感探头。7.根据权利要求1所述的玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置，其特征在于：所述第一水箱(401)内盛放有弱酸性溶液，所述第一水箱(401)通过水流系统与第一清洗舱(404)连通；所述第二水箱(402)、第三水箱(403)内盛放有清水，所述第二水箱(402)通过水流系统与毛刷清洗舱(405)连通，所述第三水箱(403)通过水流系统与纯水喷淋舱(406)连通；其中，所述毛刷清洗舱(405)内配置有毛刷结构。8.玻璃基板表面抛光残留检测及处理方法，其特征在于，采用权利要求1
‑
7中任一项中所述的玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置，包括以下内容：㈠抛光后的玻璃基板(5)通过导辊结构进入吹风通道(1)，当第一位置传感器(104)检测到玻璃基板(5)前侧端进入吹风通道(1)内，吹风通道(1)内的上出风装置(101)和下出风装置(102)对玻璃基板(5)进行表面倾斜吹风，同时吸尘通道(2)内的上吸尘装置(201)和下吸尘装置(202)启动吸气，吹起的抛光粉受到吹风装置的吹力和吸尘通道(2)内的吸力作用下，进入吸尘通道(2)，上吸尘装置(201)和下吸尘装置(202)吸收吹起进入吸尘通道(2)中的抛光粉；㈡当第二位置传感器(105)检测到玻璃基板(5)的后侧端脱离吹风通道(1)，且第一位置传感器(104)检测到无新的玻璃基板(5)进入吹风通道(1)，吹风通道(1)内的上出风装置(101)和下出风装置(102)都停止吹风，一定时间后，吸尘通道(2)内的上吸尘装置(201)和下吸尘装置(202)都停止吸尘；㈢当光检通道(3)内的第三位置传感器(303)检测到玻璃基板(5)的前侧端时，吹风通道(1)、吸尘通道(2)和光检通道(3)内的导辊结构停止转动，光检通道(3)内的若干底侧伸缩装置(306)同时动作，将到达光检装置(301)正下方的玻璃基板(5)顶升；㈣底侧伸缩装置(306)将玻璃基板(5)顶升至光检装置(301)下侧区域的若干曝光度检测机构(304)的下方5mm～10mm距离处，曝光度检测机构(304)对玻璃基板(5)表面进行曝光并进行曝光度检测，主系统获取到光检装置(301)上若干曝光度检测机构(304)传感检测到的曝光度信息并进行累加，主系统根据当前类型的玻璃基板(5)抛光粉残留量与曝光度信息线性参照关系，判定当前玻璃基板(5)表面抛光粉残留量；㈤底侧伸缩装置(306)将玻璃基板(5)线性平稳下落至导辊结构上，导辊结构重新开始运转，玻璃基板(5)进入中和处理通道(4)内进行抛光粉中和处理；㈥主系统根据当前玻璃基板(5)的抛光粉残留量，在第一清洗舱(404)室中进行对玻璃基板(5)的上下侧进行对应量的弱酸溶液喷淋操作；㈦玻璃基板(5)运动到毛刷清洗舱(405)中，通过毛刷作用，将玻璃基板(5)表面的抛光粉清除干净，然后玻璃基板(5)进入纯水喷淋舱，纯水稀释掉弱酸性溶液，最后经过一级风刀干燥舱(407)、二级风刀干燥舱(408)完成玻璃基板(5)的风干。9.根据权利要求8所述的玻璃基板表面抛光残留检测及处理方法，其特征在于：光检装置(301)对玻璃基板(5)进行曝光度检测时，若干曝光度检测机构(304)进行连
续的独立曝光度检测，曝光度检测机构(304)沿一方向，依次进行曝光并传感检测；当下一个曝光度检测机构(304)上游的远离处光度传感器(305)检测到上一个曝光度检测机构(304)所产生的光亮度消失后，当前曝光度检测机构(304)进行曝光、传感检测。10.根据权利要求9所述的玻璃基板表面抛光残留检测及处理方法，其特征在于：设光检装置(301)的若干曝光度检测机构(304)依次传感检测到的玻璃基板(5)所反射的曝光度值为[q
1 q2...q
n
]；则当前玻璃基板(5)的曝光度总量为q
z
＝q1 q2 ... q
n
；设当前类型的玻璃基板抛光粉残留量为p，存在f(p)
‑1∝
f(q
z
)。

技术总结
本发明公开了玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置及方法，涉及LCD加工处理技术领域。在本发明中：吹风通道内配置有上出风装置和下出风装置，吹风通道内配置有位于上出风装置上游方位的第一位置传感器。吸尘通道内配置有上吸尘装置和下吸尘装置。光检装置下侧面安装有若干等间隔分布的曝光度检测机构，光检装置的下侧面嵌入设置有位于相邻的曝光度检测机构之间的远离处光度传感器，光检通道内设置有若干位于导辊结构下方的底侧伸缩装置。本发明不仅能有效的完成对抛光后的玻璃基板的抛光粉清除，也避免了玻璃基板进入中和处理通道后因用酸过量所导致的过度腐蚀，保证了抛光粉清除后的玻璃基板的品质。了抛光粉清除后的玻璃基板的品质。了抛光粉清除后的玻璃基板的品质。


技术研发人员：程秀文 梁超
受保护的技术使用者：蚌埠高华电子股份有限公司
技术研发日：2021.07.29
技术公布日：2021/12/6