新型低耗显影机的制作方法

1.本实用新型涉及晶圆制造技术领域，具体涉及一种新型低耗显影机。


背景技术：

2.显影与蚀刻是晶圆制造的关键环节。该过程使用了对紫外光敏感的化学物质，即遇紫外光则变软。通过控制遮光物的位置可以得到芯片的外形。在硅晶片涂上光致抗蚀剂，使得其遇紫外光就会溶解。这时可以用上一份遮光物，使得紫外光直射的部分被溶解，这溶解部分接着可用溶剂将其冲走。这样剩下的部分就与遮光物的形状一样了，从而得到我们所需要的二氧化硅层。现有技术中，显影工艺是利用显影机完成的，常规显影机单次只能处理一块晶圆，整体效率较低，能耗较高，不利于提升工艺效率。


技术实现要素：

3.本实用新型旨在针对现有技术的技术缺陷，提供一种新型低耗显影机，以解决常规显影机无法同时处理多个晶圆的技术问题。
4.为实现以上技术目的，本实用新型采用以下技术方案：
5.新型低耗显影机，包括仓体，支撑体，仓门，把手，顶盖，真空泵，电机，支架，罩体，转轴，转盘，托盘，其中，在仓体的底端固定连接有若干支撑体，在仓体的侧端设有若干仓门，在仓门上固定连接有把手，在仓体的顶端具有顶盖，在顶盖上设有真空泵，在顶盖上固定连接有电机，电机的主轴伸入至仓体中并与支架相连接，在支架上固定连接有若干罩体，在仓体的内部设置有转轴，在转轴上连接有转盘，在转盘上具有若干托盘，若干托盘位于若干罩体下方。
6.作为优选，真空泵有若干个，若干真空泵均布于顶盖上。
7.作为优选，在仓体的内部底面中设置有电动机，所述电动机与转轴传动连接。
8.作为优选，在仓门的内侧边缘处固定连接有密封条。
9.作为优选，在转盘上具有若干凹槽，托盘嵌入至所述凹槽中。
10.本实用新型提供了一种新型低耗显影机。该技术方案对显影机的容纳机构进行了集中改进。具体来看，本实用新型在不改变显影原理的前提下，将仓体设计为圆柱形结构，在仓体侧壁设置若干门体，可分别进料；仓体内部设置转盘机构，利用转盘上的多个托盘可同时承载多个晶圆，位于上方的电机可驱动支架在转盘上方旋转，从而将罩体定位至多个托盘上方，进而笼罩在晶圆外部。此外，本实用新型在仓体上增设了真空泵，可在显影过程中构建负压环境，以减少外部环境因素对显影工艺的影响。应用本实用新型，可显著提高显影工艺效率，并降低能耗水平，从而提高整体工艺水平。
附图说明
11.图1是本实用新型的外部结构图；
12.图2是本实用新型的内部结构图；
13.图3是本实用新型中，转盘的结构图；
14.图中：
15.1、仓体
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2、支撑体
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3、仓门
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4、把手
16.5、顶盖
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6、真空泵
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7、电机
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8、支架
17.9、罩体
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10、转轴
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11、转盘
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12、托盘。
具体实施方式
18.以下将对本实用新型的具体实施方式进行详细描述。为了避免过多不必要的细节，在以下实施例中对属于公知的结构或功能将不进行详细描述。以下实施例中所使用的近似性语言可用于定量表述，表明在不改变基本功能的情况下可允许数量有一定的变动。除有定义外，以下实施例中所用的技术和科学术语具有与本实用新型所属领域技术人员普遍理解的相同含义。
19.实施例1
20.新型低耗显影机，如图1～3所示，包括仓体1，支撑体2，仓门3，把手4，顶盖5，真空泵6，电机7，支架8，罩体9，转轴10，转盘11，托盘12，其中，在仓体1的底端固定连接有若干支撑体2，在仓体1的侧端设有若干仓门3，在仓门3上固定连接有把手4，在仓体1的顶端具有顶盖5，在顶盖5上设有真空泵6，在顶盖5上固定连接有电机7，电机7的主轴伸入至仓体1中并与支架8相连接，在支架8上固定连接有若干罩体9，在仓体1的内部设置有转轴10，在转轴10上连接有转盘11，在转盘11上具有若干托盘12，若干托盘12位于若干罩体9下方。
21.实施例2
22.新型低耗显影机，如图1～3所示，包括仓体1，支撑体2，仓门3，把手4，顶盖5，真空泵6，电机7，支架8，罩体9，转轴10，转盘11，托盘12，其中，在仓体1的底端固定连接有若干支撑体2，在仓体1的侧端设有若干仓门3，在仓门3上固定连接有把手4，在仓体1的顶端具有顶盖5，在顶盖5上设有真空泵6，在顶盖5上固定连接有电机7，电机7的主轴伸入至仓体1中并与支架8相连接，在支架8上固定连接有若干罩体9，在仓体1的内部设置有转轴10，在转轴10上连接有转盘11，在转盘11上具有若干托盘12，若干托盘12位于若干罩体9下方。其中，真空泵6有若干个，若干真空泵6均布于顶盖5上。在仓体1的内部底面中设置有电动机，所述电动机与转轴10传动连接。在仓门3的内侧边缘处固定连接有密封条。在转盘11上具有若干凹槽，托盘12嵌入至所述凹槽中。
23.以上对本实用新型的实施例进行了详细说明，但所述内容仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型。凡在本实用新型的申请范围内所做的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。


技术特征：
1.新型低耗显影机，其特征在于包括仓体(1)，支撑体(2)，仓门(3)，把手(4)，顶盖(5)，真空泵(6)，电机(7)，支架(8)，罩体(9)，转轴(10)，转盘(11)，托盘(12)，其中，在仓体(1)的底端固定连接有若干支撑体(2)，在仓体(1)的侧端设有若干仓门(3)，在仓门(3)上固定连接有把手(4)，在仓体(1)的顶端具有顶盖(5)，在顶盖(5)上设有真空泵(6)，在顶盖(5)上固定连接有电机(7)，电机(7)的主轴伸入至仓体(1)中并与支架(8)相连接，在支架(8)上固定连接有若干罩体(9)，在仓体(1)的内部设置有转轴(10)，在转轴(10)上连接有转盘(11)，在转盘(11)上具有若干托盘(12)，若干托盘(12)位于若干罩体(9)下方。2.根据权利要求1所述的新型低耗显影机，其特征在于，真空泵(6)有若干个，若干真空泵(6)均布于顶盖(5)上。3.根据权利要求1所述的新型低耗显影机，其特征在于，在仓体(1)的内部底面中设置有电动机，所述电动机与转轴(10)传动连接。4.根据权利要求1所述的新型低耗显影机，其特征在于，在仓门(3)的内侧边缘处固定连接有密封条。5.根据权利要求1所述的新型低耗显影机，其特征在于，在转盘(11)上具有若干凹槽，托盘(12)嵌入至所述凹槽中。

技术总结
本实用新型提供了一种新型低耗显影机。该技术方案对显影机的容纳机构进行了集中改进。具体来看，本实用新型在不改变显影原理的前提下，将仓体设计为圆柱形结构，在仓体侧壁设置若干门体，可分别进料；仓体内部设置转盘机构，利用转盘上的多个托盘可同时承载多个晶圆，位于上方的电机可驱动支架在转盘上方旋转，从而将罩体定位至多个托盘上方，进而笼罩在晶圆外部。此外，本实用新型在仓体上增设了真空泵，可在显影过程中构建负压环境，以减少外部环境因素对显影工艺的影响。应用本实用新型，可显著提高显影工艺效率，并降低能耗水平，从而提高整体工艺水平。整体工艺水平。整体工艺水平。


技术研发人员：方廷宇 游礼仲 许忠信 王永震 唐守庄
受保护的技术使用者：山东强茂电子科技有限公司
技术研发日：2021.07.15
技术公布日：2021/11/29