等离子体刻蚀机的下电极屏蔽装置的制作方法

1.本发明涉及防辐射技术领域，具体涉及一种等离子体刻蚀机的下电极屏蔽装置。


背景技术：

2.刻蚀是半导体加工、微电子制造、led生产等领域中非常重要的一步工艺。常见的刻蚀手段主要有干法刻蚀和湿法刻蚀。与湿法刻蚀相比，干法刻蚀具有各向异性好、选择比高、工艺可控、重复性好、无化学废液污染等优点。干法刻蚀可分为光挥发刻蚀、气相刻蚀、等离子体刻蚀等。等离子体刻蚀是目前常见的一种干法刻蚀形式，当气体暴露于电子区域时，产生电离气体和具有高能电子的气体，从而形成等离子体，电离气体经过加速电场，将释放大量能量刻蚀表面。与其他刻蚀技术相比，等离子体刻蚀技术的设备结构简单、操作便利、性价比高。等离子刻蚀机在工作时，首先通过真空系统对反应腔室抽真空；然后，向反应腔室内注入反应气体；射频源通过铜柱耦合至上、下电极后，反应腔室内的气体被电离，形成等离子体；等离子体在电场作用下，向下电极运动，与加工件发生物理或化学反应，从而对加工件进行加工。
3.然而，现有技术中缺少一种等离子体刻蚀机的下电极屏蔽装置，来保护工作人员免受辐射威胁。


技术实现要素：

4.本发明的目的是解决等离子体刻蚀机的下电极对人体有辐射的问题，提供一种等离子体刻蚀机的下电极屏蔽装置，该装置具有隔离辐射的效果。
5.为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
6.一种等离子体刻蚀机的下电极屏蔽装置，包括由防辐射材料制成的隔离组合块、底座和顶部盖板；
7.所述底座固定在所述隔离组合块的底部，所述顶部盖板盖合于所述隔离组合块的顶部开口端，并通过伸缩杆连接所述底座和所述顶部盖板，其中，所述顶部盖板随所述伸缩杆的伸缩运动上行和下行，以用于打开或闭合所述隔离组合块的开口端，所述隔离组合块上设置有上盖凹槽，所述顶部盖板上设置有与所述上盖凹槽适配连接的活动插件。
8.优选地，所述隔离组合块、所述底座和所述顶部盖板的材质均为铅金属。
9.优选地，所述隔离组合块的第一侧面上设置有所述上盖凹槽，所述第一侧面与其相邻的第二侧面构成一组合封闭门，所述第一侧面与所述第二侧面的衔接处设置有用于封闭所述组合封闭门的至少一个封闭装置。
10.优选地，所述封闭装置包括与所述第一侧面连接的拉控口，焊接在所述第二侧面上的深卡凹槽，以及分别与所述拉控口和所述深卡凹槽转动连接的转动曲条。
11.优选地，所述隔离组合块通过固定铁片和螺钉与所述底座连接；
12.其中，所述螺钉的一端固定在所述隔离组合块的内部，所述螺钉的另一端穿过所述固定铁片并固定在所述底座上。
13.优选地，在所述隔离组合块的相对两侧分别设置有所述伸缩杆。
14.优选地，所述伸缩杆沿所述隔离组合块的高度方向上下伸缩。
15.优选地，所述活动插件包括焊接在所述顶部盖板上的固定底板和设置在所述固定底板的下方并与其转动连接的固定插口。
16.优选地，所述顶部盖板的中央开设有盖板中孔。
17.优选地，所述隔离组合块与所述底座的上表面通过螺纹连接，所述底座的下表面焊接有均匀分布的多个支撑脚。
18.与现有技术相比，本发明提供了一种等离子体刻蚀机的下电极屏蔽装置，具备以下有益效果：
19.1、选用具有防辐射功能材料制成的隔离组合块、底座和顶部盖板，构成等离子体刻蚀机的下电极屏蔽装置，保证了工作人员在工作时免于强烈的辐射，对身体造成危害；
20.2、由于顶部盖板与隔离组合块通过活动插件与上盖凹槽的适配连接实现锁定，同时，底座与顶部盖板通过伸缩杆连接，解除锁定后，伸缩杆带动顶部盖板上行即可打开隔离组合块的开口端，相反地，伸缩杆带动顶部盖板下行直到闭合隔离组合块的开口端，再通过活动插件与上盖凹槽锁定，各部件的契合度高，且安装和拆卸方式简单。
附图说明
21.图1是等离子体刻蚀机的下电极屏蔽装置的结构示意图；
22.图2是图1的侧视图；
23.图3是图1中的封闭装置的放大示意图。
24.附图标记说明
25.1、隔离组合块；2、底座；3、支撑脚；4、上盖凹槽；5、组合封闭门；6、固定铁片；7、螺钉；8、伸缩杆；9、顶部盖板；10、盖板中孔；11、固定底板；12、固定插口；13、深卡凹槽；14、转动曲条；15、拉控口。
具体实施方式
26.以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。
27.在本发明的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
28.在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体式连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
29.请参阅图1，本发明提供了一种等离子体刻蚀机的下电极屏蔽装置，包括由防辐射
材料制成的隔离组合块1、底座2和顶部盖板9。
30.如图1所示，所述底座2固定在所述隔离组合块1的底部，所述顶部盖板9盖合于所述隔离组合块1的顶部开口端，并通过伸缩杆8连接所述底座2和所述顶部盖板9，其中，所述顶部盖板9随所述伸缩杆8的伸缩运动上行和下行，以用于打开或闭合所述隔离组合块1的开口端，所述隔离组合块1上设置有上盖凹槽4，所述顶部盖板9上设置有与所述上盖凹槽4适配连接的活动插件。
31.在本发明方案中，一方面，选用具有防辐射功能材料制成的隔离组合块、底座和顶部盖板的材质构成屏蔽装置，保证了工作人员在工作时免于强烈的辐射，造成身体的危害；另一方面，由于顶部盖板与隔离组合块通过活动插件与上盖凹槽的适配连接实现锁定，同时，底座与顶部盖板通过伸缩杆连接，解除锁定后，伸缩杆带动顶部盖板上行即可打开隔离组合块的开口端，相反地，伸缩杆带动顶部盖板下行直到闭合隔离组合块的开口端，再通过活动插件与上盖凹槽锁定，契合度高，且安装和拆卸方式简单。
32.根据一个优选的实施方式，所述隔离组合块1、所述底座2和所述顶部盖板9的材质均为铅金属。在实际应用中，隔离组合块1、所述底座2和所述顶部盖板9还可以选用具有优异防辐射功能的其他材料，或者，还可以为涂覆有防辐射涂料的装置。
33.进一步地，所述隔离组合块1的第一侧面上设置有所述上盖凹槽4，所述第一侧面与其相邻的第二侧面构成一组合封闭门5，所述第一侧面与所述第二侧面的衔接处设置有用于封闭所述组合封闭门5的至少一个封闭装置。在本发明中，所述封闭装置为两个，两个封闭装置有一定的间隔。
34.优选地，所述封闭装置包括与所述第一侧面连接的拉控口15，焊接在所述第二侧面上的深卡凹槽13，以及分别与所述拉控口15和所述深卡凹槽13转动连接的转动曲条14。所述拉控口15、所述深卡凹槽13与所述转动曲条14配合连接，以用于关闭所述组合封闭门5。
35.进一步地，所述隔离组合块1通过固定铁片6和螺钉7与所述底座2连接。其中，所述螺钉7的一端固定在所述隔离组合块1的内部，所述螺钉7的另一端穿过所述固定铁片6并固定在所述底座2上，从而将隔离组合块1与所述底座2连接在一起。
36.优选地，本发明方案中伸缩杆8的数量为两个，在所述隔离组合块1的相对两侧分别设置有所述伸缩杆8。所述伸缩杆8沿所述隔离组合块1的高度方向上下伸缩，并用于带动顶部盖板9升降。
37.具体地，当所述伸缩杆8沿所述隔离组合块1的高度方向伸长时，带动所述顶部盖板9上升；当所述伸缩杆8沿所述隔离组合块1的高度方向缩短时，带动所述顶部盖板9下降。
38.进一步地，所述活动插件包括焊接在所述顶部盖板9上的固定底板11和设置在所述固定底板11的下方并与其转动连接的固定插口12。在本发明方案中，所述固定插口12随所述顶部盖板9沿伸缩杆8的伸缩方向上行或下行，且顶部盖板9与隔离组合块1是通过固定插口12与上盖凹槽4的适配连接实现锁定的。
39.进一步地，所述顶部盖板9的中央开设有盖板中孔10。等离子体刻蚀机的下电极通过所述盖板中孔10插入本屏蔽装置。
40.进一步地，所述隔离组合块1与所述底座2的上表面通过螺纹连接，所述底座2的下表面焊接有均匀分布的多个支撑脚3。根据一个优选的实施方式，所述底座2的下表面沿矩
形直角分布有4个支撑脚3，从而使得当整个屏蔽装置放置在平面上时，具有良好的稳定性。
41.实施例1
42.本发明实施例提供了一种等离子体刻蚀机的下电极屏蔽装置，该装置包括隔离组合块1、底座2和顶部盖板9，其中，所述底座2通过固定铁片6和螺钉7连接在所述隔离组合块1的底部，所述顶部盖板9盖合于所述隔离组合块1的顶部开口端。所述隔离组合块1、所述底座2和所述顶部盖板9的材质均为铅金属，铅金属具有优异的防辐射功能，等离子体刻蚀机的下电极通过设置在所述顶部盖板9中央的盖板中孔10插入本屏蔽装置，从而使得本屏蔽装置保护工作人员免受辐射威胁。
43.所述隔离组合块1上两相邻的侧面上还设置有组合封闭门5，该组合封闭门5通过深卡凹槽13与转动曲条14和拉控口15的配合闭合隔离组合块1。并且，在所述隔离组合块1的相对两侧分别设置有伸缩杆8，该伸缩杆8的两端分别连接在所述底座2和所述顶部盖板9上，所述伸缩杆8可沿所述隔离组合块1的高度方向上下伸缩，且所述顶部盖板9随所述伸缩杆8的伸缩运动上行和下行，当所述伸缩杆8沿所述隔离组合块1的高度方向伸长时，带动所述顶部盖板9上升；当所述伸缩杆8沿所述隔离组合块1的高度方向缩短时，带动所述顶部盖板9下降，以用于打开或闭合所述隔离组合块1的开口端。同时，所述隔离组合块1上设置有上盖凹槽4，所述顶部盖板9上设置有与所述上盖凹槽4适配连接的固定插口12，顶部盖板9与隔离组合块1是通过固定插口12与上盖凹槽4的适配连接实现锁定的，当解锁固定插口12与上盖凹槽4的适配连接时，顶部盖板9即可随所述伸缩杆8移动。
44.所述等离子体刻蚀机的下电极屏蔽装置的使用方法为：解除顶部盖板9的固定插口12与隔离组合块1的上盖凹槽4的适配连接后，驱动伸缩杆8，伸缩杆8带动顶部盖板9上行即可打开隔离组合块1的开口端；与此过程相反地，驱动伸缩杆8带动顶部盖板9下行，直到顶部盖板9盖合于隔离组合块1的开口端，再通过固定插口12与上盖凹槽4的适配连接实现锁定，即可关闭隔离组合块1的开口端。
45.在本发明实施例中，由于隔离组合块、底座和顶部盖板的材质均为铅金属，装配得到的等离子体刻蚀机的下电极屏蔽装置具有良好的隔离辐射的效果，同时，顶部盖板与隔离组合块通过可拆卸方式连接，且部件契合度高，使用和清洁过程都很方便。
46.以上详细描述了本发明的优选实施方式，但是，本发明并不限于此。在本发明的技术构思范围内，可以对本发明的技术方案进行多种简单变型，包括各个技术特征以任何其它的合适方式进行组合，这些简单变型和组合同样应当视为本发明所公开的内容，均属于本发明的保护范围。