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凹槽掩模版的制作方法与流程

2021-11-15 18:40:00 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种凹槽掩模版的制作方法,其特征在于,包括:预备基板:预备透光基板,其中,透光基板具有图形板面;开槽加工:在所述图形板面上加工出圆环状的凹槽;镀铬涂胶:在所述图形板面以及所述凹槽对应的区域上先镀铬层,再涂光刻胶层;光刻处理:先曝光再显影,使所述铬层呈现出预设图形结构。2.如权利要求1所述的凹槽掩模版的制作方法,其特征在于,在所述光刻处理中,对所述凹槽对应的区域至少进行两次曝光。3.如权利要求2所述的凹槽掩模版的制作方法,其特征在于,在所述光刻处理中,先对所述图形板面整个区域进行一次曝光,在对所述凹槽对应的区域进行二次曝光。4.如权利要求3所述的凹槽掩模版的制作方法,其特征在于,二次曝光的光亮强度大于一次曝光的光亮强度。5.如权利要求2所述的凹槽掩模版的制作方法,其特征在于,在所述光刻处理中,先在对所述凹槽对应的区域进行一次曝光,再对所述图形板面整个区域进行二次曝光。6.如权利要求5所述的凹槽掩模版的制作方法,其特征在于,一次曝光的光亮强度大于二次曝光的光亮强度。7.如权利要求1所述的凹槽掩模版的制作方法,其特征在于,在所述开槽加工之后而在所述镀铬涂胶之前,在所述凹槽的槽壁、槽底涂覆光刻胶保护层。8.如权利要求1所述的凹槽掩模版的制作方法,其特征在于,在所述开槽加工之后而在所述镀铬涂胶之前,在所述凹槽的槽壁、槽底覆盖pe保护膜;且在所述光刻处理之后,将所述pe保护膜撕离。9.如权利要求1所述的凹槽掩模版的制作方法,其特征在于,所述透光基板为四边形,并具有第一转角、第二转角、第三转角和第四转角,且还具有连接所述第一转角和所述第二转角的第一板边、连接所述第二转角和所述第三转角的第二板边、连接所述第三转角和所述第四转角的第三板边以及连接所述第四转角和所述第一转角的第四板边;所述图形板面设有第一标记点、第二标记点、第三标记点和第四标记点,,所述第一标记点位于所述第一板边和所述凹槽之间,所述第二标记点位于所述第二板边和所述凹槽之间,所述第三标记点位于所述第三板边和所述凹槽之间,所述第四标记点位于所述第四板边和所述凹槽之间;所述第一标记点与所述第四转角之间的连线为第一连线,所述第二标记点与所述第一转角之间的连线为第二连线,所述第三标记点与所述第二转角之间的连线为第三连线,所述第四标记点与所述第三转角之间的连线为第四连线,其中,所述第一连线、所述第二连线、所述第三连线和所述第四连线均与所述凹槽的外环相切。10.如权利要求1所述的凹槽掩模版的制作方法,其特征在于,在所述开槽加工和所述镀铬涂胶之间还包括:研磨抛光:对所述透光基板磨平抛光。

技术总结
本发明属于掩模版制造技术领域,尤其涉及一种凹槽掩模版的制作方法,包括:预备基板:预备透光基板,其中,透光基板具有图形板面;开槽加工:在所述图形板面上加工出圆环状的凹槽;镀铬涂胶:在所述图形板面以及所述凹槽的槽壁、槽底上先镀铬层,再涂光刻胶层;光刻处理:先曝光再显影,使所述铬层呈现出预设图形结构。本发明相对于现有技术,降低了加工凹槽对产品良率的影响,提高了产品良品率。提高了产品良品率。提高了产品良品率。


技术研发人员:王栋 谢超 侯广杰
受保护的技术使用者:深圳市龙图光电有限公司
技术研发日:2021.08.12
技术公布日:2021/11/14
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