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一种用于磁珠包覆的反应釜的制作方法

2021-11-10 10:16:00 来源:中国专利 TAG:


1.本实用新型涉及反应釜技术领域,具体为一种用于磁珠包覆的反应釜。


背景技术:

2.最常见的磁珠材料是四氧化三铁,外面包被的基本是有机材料。根据磁珠本身和包被材料的位置关系来区分磁珠的结构有四种,即核壳型、镶嵌型、壳核型、壳核壳型。第一种核壳型是以磁性材料作为核心,高分子物质作为壳层包裹在磁性微粒的外面,磁珠包裹外层有机材料一般是在反应釜中进行的。
3.现有的反应釜为加热盘管置于内部,由于有机浆液与磁珠在反应釜内部混合,导致有机浆液以及磁珠尝尝挂落在盘管上,清洁较为麻烦。


技术实现要素:

4.针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种用于磁珠包覆的反应釜,解决了现有的反应釜为加热盘管置于内部,由于有机浆液与磁珠在反应釜内部混合,导致有机浆液以及磁珠尝尝挂落在盘管上,清洁较为麻烦设置的技术问题。
5.为实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案予以实现:一种用于磁珠包覆的反应釜,包括罐体、搅拌机、进料口、出料口,所述进料口、出料口与罐体连通,所述搅拌机设置于罐体的底部,罐体一侧设置有架体,所述架体上设置有升降结构,所述升降结构上设置有加热组件;
6.所述升降结构包含:旋转电机、活动柱、伸缩电机、支撑柱、端盖;
7.所述旋转电机位于罐体一侧,旋转电机位于活动柱内部,并驱动端与活动柱内部上端部位连接,所述伸缩电机设置于活动柱上,所述支撑柱与伸缩电机的驱动端连接,端盖垂直支撑柱,所述加热组件设置于端盖上。
8.优选的,所述加热组件包含:加热盘管;
9.所述加热盘管上下两端分别设置有环形盖板,并该环形盖板与端盖进行连接。
10.优选的,所述伸缩电机与活动柱端面之间设置有固定架。
11.优选的,所述罐体设置有支撑架体。
12.优选的,所述加热盘上设置有若干支撑梁体。
13.优选的,所述端盖与支撑柱之间设置有加强筋。
14.有益效果
15.本实用新型提供了一种用于磁珠包覆的反应釜。具备以下有益效果,本技术为内置的加热盘管,但该加热盘管可通过升降结构升高,并驱动至远离罐体一侧,相对传统反应釜有着容易清洁的优点,有效的解决了背景技术中所提及的技术问题。
附图说明
16.图1为本实用新型所述一种用于磁珠包覆的反应釜的结构示意图。
17.图2为本实用新型所述一种用于磁珠包覆的反应釜的局部结构示意图。
18.图3为本实用新型所述升降结构的局部结构示意图。
19.图中:1、罐体;2、搅拌机;3、进料口;4、出料口;5、旋转电机;6、活动柱;7、伸缩电机;8、支撑柱;9、端盖;10、加热盘管;11、固定架;12、支撑架体;13、支撑梁体;14、加强筋。
具体实施方式
20.下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。


技术特征:
1.一种用于磁珠包覆的反应釜,包括罐体、搅拌机、进料口、出料口,其特征在于,所述进料口、出料口与罐体连通,所述搅拌机设置于罐体的底部,罐体一侧设置有架体,所述架体上设置有升降结构,所述升降结构上设置有加热组件;所述升降结构包含:旋转电机、活动柱、伸缩电机、支撑柱、端盖;所述旋转电机位于罐体一侧,旋转电机位于活动柱内部,并驱动端与活动柱内部上端部位连接,所述伸缩电机设置于活动柱上,所述支撑柱与伸缩电机的驱动端连接,端盖垂直支撑柱,所述加热组件设置于端盖上。2.根据权利要求1所述的一种用于磁珠包覆的反应釜,其特征在于,所述加热组件包含:加热盘管;所述加热盘管上下两端分别设置有环形盖板,并该环形盖板与端盖进行连接。3.根据权利要求1所述的一种用于磁珠包覆的反应釜,其特征在于,所述伸缩电机与活动柱端面之间设置有固定架。4.根据权利要求1所述的一种用于磁珠包覆的反应釜,其特征在于,所述罐体设置有支撑架体。5.根据权利要求2所述的一种用于磁珠包覆的反应釜,其特征在于,所述加热盘上设置有若干支撑梁体。6.根据权利要求1所述的一种用于磁珠包覆的反应釜,其特征在于,所述端盖与支撑柱之间设置有加强筋。

技术总结
本实用新型公开了一种用于磁珠包覆的反应釜,包括罐体、搅拌机、进料口、出料口,所述进料口、出料口与罐体连通,所述搅拌机设置于罐体的底部,罐体一侧设置有架体,所述架体上设置有升降结构,所述升降结构上设置有加热组件,本实用新型涉及反应釜技术领域。本技术为内置的加热盘管,但该加热盘管可通过升降结构升高,并驱动至远离罐体一侧,相对传统反应釜有着容易清洁的优点,有效的解决了背景技术中所提及的技术问题。所提及的技术问题。所提及的技术问题。


技术研发人员:王保全 张鸿雁 李华 杜淑媛 谢燕霞 崔学儒
受保护的技术使用者:宏葵生物(中国)股份有限公司
技术研发日:2021.02.26
技术公布日:2021/11/9
再多了解一些

本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

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