氮化硅粉末及其制造方法、以及氮化硅烧结体的制造方法与流程

技术特征：
1.氮化硅粉末，其内部氧量为0.6质量％以下。2.根据权利要求1所述的氮化硅粉末，其中，表面氧量为所述内部氧量以下。3.根据权利要求1所述的氮化硅粉末，其中，表面氧量比所述内部氧量大。4.根据权利要求1～3中任一项所述的氮化硅粉末，其中，表面氧量相对于内部氧量之比为0.8以上。5.氮化硅粉末的制造方法，其具有：将氧浓度为0.4质量％以下的硅粉末在包含氮与选自由氢及氨组成的组中的至少一者的混合气氛下进行烧成而制得烧成物的工序；和使用氟化氢浓度为10～40质量％的氢氟酸对所述烧成物进行处理的工序。6.根据权利要求5所述的氮化硅粉末的制造方法，其中，内部氧量为0.6质量％以下。7.氮化硅烧结体的制造方法，其具有对包含由权利要求5或6制造的氮化硅粉末的烧结原料进行成型并烧成的工序。

技术总结
提供内部氧量为0.6质量％以下的氮化硅粉末。提供氮化硅粉末的制造方法，其具有下述工序：对氧浓度为0.4质量％以下的硅粉末在包含氮与氢的混合气氛下进行烧成而制得烧成物的工序；和使用氟化氢浓度为10～40质量％的氢氟酸对烧成物进行处理的工序。酸对烧成物进行处理的工序。


技术研发人员：中村祐三 宫下敏行
受保护的技术使用者：电化株式会社
技术研发日：2020.03.26
技术公布日：2021/11/4