显示面板及显示装置的制作方法

1.本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及显示装置。


背景技术：

2.随着显示技术的发展，全面屏的显示装置因屏占比较大、可视化效果好、有利于分屏、科技感更高等众多优点，逐渐成为显示装置的主流设计之一。其中，屏下摄像头的显示装置是一种全面屏的显示装置，因摄像头设置在显示装置的显示面板之下，对显示装置的视觉画面影响较小，成为当下比较有潜力的一种显示装置设计。
3.然而，采用屏下摄像头的显示装置，对于显示面板摄像头区的透光性要求很高，如何提供一种摄像头区透光性高的显示面板成为本领域技术人员急需解决的技术问题。


技术实现要素：

4.本发明的实施例提供一种显示面板及显示装置，用于提高显示面板摄像头区的透光性。
5.为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
6.第一方面，提供一种显示面板，设置有显示区和摄像头区；显示面板包括阵列基板、对置基板、液晶层以及透光部；所述对置基板与所述阵列基板对合设置；液晶层设置在所述阵列基板与所述对置基板之间；透光部设置在所述阵列基板与所述对置基板之间，且位于所述摄像头区；所述液晶层分布在所述透光部周边。
7.可选的，所述透光部为透镜结构。
8.可选的，所述透光部靠近所述阵列基板的表面为凸面。
9.可选的，所述透光部包括菲涅尔透镜结构，所述透光部靠近所述阵列基板的表面具有多个齿纹，多个所述齿纹在所述透光部的所述表面形成多个同心圆。
10.可选的，所述透光部与所述阵列基板之间具有间隙，与所述对置基板接触。
11.可选的，所述透光部为实心柱结构或空心柱结构。
12.可选的，所述透光部与所述阵列基板和所述对置基板分别接触。
13.可选的，所述透光部在所述阵列基板上的正投影的轮廓与所述摄像头区的轮廓相同。
14.可选的，其特征在于，所述显示面板还包括支撑层，所述支撑层设置在所述阵列基板与所述对置基板之间；所述支撑层位于所述有效显示区，且位于所述摄像头区之外；所述透光部与所述支撑层的材料相同。
15.可选的，所述透光部的材料为有机膜或光刻材料。
16.第二方面，提供一种显示装置，包括第一方面所述的显示面板和位于显示面板背光侧的摄像头，所述摄像头位于摄像头区的下方。
17.本技术通过在显示面板的摄像头区设置透光部，利用透光部来排开摄像头区的液晶层。透光部的光线透过率高于液晶层中液晶的光线透过率，从而提高了显示面板摄像头
区的透光性。
附图说明
18.为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
19.图1为本技术实施例提供的一种显示装置的结构图；
20.图2a为本技术实施例提供的一种显示模组的结构图；
21.图2b为本技术实施例提供的一种背光源的结构图；
22.图2c为本技术实施例提供的另一种背光源的结构图；
23.图3a为本技术实施例提供的一种显示面板的结构图；
24.图3b为本技术实施例提供的另一种显示面板的结构图；
25.图3c为本技术实施例提供的又一种显示面板的结构图；
26.图3d为本技术实施例提供的又一种显示面板的结构图；
27.图4为本技术实施例提供的一种显示面板的俯视图；
28.图5为图4沿c
‑
c向的剖视图；
29.图6为本技术实施例提供的一种显示面板的剖视图；
30.图7为本技术实施例提供的另一种显示面板的剖视图；
31.图8a为本技术实施例提供的一种透光部的剖视图；
32.图8b为本技术实施例提供的一种透光部的俯视图；
33.图9a为本技术实施例提供的又一种显示面板的剖视图；
34.图9b为本技术实施例提供的一种透光部的立体图；
35.图10a为本技术实施例提供的又一种显示面板的剖视图；
36.图10b为本技术实施例提供的另一种透光部的立体图。
37.附图标记：
38.1000
‑
显示装置；100
‑
显示模组；110
‑
中框；120
‑
壳体；130
‑
盖板；1
‑
显示面板；2
‑
背光模组；21
‑
光源；22
‑
导光板；23
‑
光学膜片；24
‑
反射片；25
‑
扩散板；31
‑
阵列基板；310
‑
第一衬底；311
‑
像素电极层；312
‑
钝化层；313
‑
下配向膜；32
‑
对置基板；320
‑
第二衬底；321
‑
彩色滤光层；322
‑
公共电极层；323
‑
上配向膜；33
‑
液晶层；34
‑
封框胶；35
‑
下偏振层；36
‑
上偏振层；37
‑
导电层；38
‑
支撑层；39
‑
透光部；391
‑
齿纹；aa
‑
有效显示区；s
‑
摄像头区；d
‑
亚像素单元。
具体实施方式
39.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
40.以下，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要
性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
41.此外，本技术中，“上”、“下”等方位术语是相对于附图中的部件示意置放的方位来定义的，应当理解到，这些方向性术语是相对的概念，它们用于相对于的描述和澄清，其可以根据附图中部件所放置的方位的变化而相应地发生变化。
42.在本技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“连接”应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。“和/或”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，a和/或b，可以表示：单独存在a，同时存在a和b，单独存在b这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
43.本技术实施例提供一种显示装置，本技术实施例涉及的显示装置例如可以是：平板电脑、手机、电子阅读器、遥控器、个人计算机(personal computer，简称pc)、笔记本电脑、个人数字助理(personal digital assistant，简称pda)、车载设备、网络电视、可穿戴设备、电视机等。
44.本技术实施例对上述显示装置的具体形式不做特殊限制，以下为了方便说明，是以显示装置为手机为例进行的说明。
45.如图1所示，上述显示装置1000，主要包括显示模组100、中框110、壳体120以及盖板130，显示模组100和中框110设置于壳体120内。
46.其中，上述中框110位于显示模组100和壳体120之间，中框110远离显示模组100的表面(朝向壳体120的表面)用于安装电池、电路板、摄像头(camera)、天线等内部元件。
47.盖板130位于显示模组100远离中框110一侧，盖板130例如可以是盖板玻璃(cover glass，简称cg)，该盖板玻璃可以具有一定的韧性。
48.显示模组100具有能够看到显示画面的出光侧和与上述出光侧相对设置的背面，中框110设置在显示模组100的背面，盖板130设置在显示模组100的出光侧。
49.其中，上述显示模组100包括显示面板(display panel，简称dp)，示例的，如图2a所示，显示面板1可以为薄膜晶体管液晶显示面板(thin film transistor liquid crystal display，简称tft
‑
lcd)。在此情况下，该显示模组100还包括用于向tft
‑
lcd1提供光源的背光模组(back light unit，简称blu)2。
50.关于背光模组2，在一种可能的实施例中，背光模组2为侧入式背光模组。
51.如图2b所示，背光模组2包括光源21、导光板22、光学膜片23以及反射片24。光源21设置于导光板22的侧面，光学膜片23设置于导光板22的出光侧，反射片24设置于导光板22的与出光侧相对的一侧。
52.在另一种可能的实施例中，背光模组2为直下式背光模组。
53.如图2c所示，背光模组2包括光源21、扩散板25、光学膜片23以及反射片24。光源21位于扩散板25与反射片24之间，光学膜片23设置在扩散板25远离光源21一侧。
54.关于tft
‑
lcd1，在一种可能的实施例中，tft
‑
lcd1例如可以是扭曲向列(twist nematic，简称tn)型液晶显示面板。
55.如图3a所示，tn型液晶显示面板包括阵列基板31、对置基板32、液晶层33、封框胶
34、下偏振层35以及上偏振层36。对置基板32与阵列基板31对合设置，对置基板32与阵列基板31通过封框胶34对合在一起，封框胶34与对置基板32和阵列基板31构成封闭区域。液晶层33设置在阵列基板31和对置基板32之间，位于上述封闭区域内，液晶层33与封框胶34、对置基板32及阵列基板31构成液晶盒。
56.其中，阵列基板31可以包括第一衬底310，设置在第一衬底310上的薄膜晶体管(thin film transistor，简称tft)、像素电极层311、钝化层312以及下配向膜313。钝化层312设置在tft远离第一衬底310一侧，像素电极层311设置在钝化层312远离第一衬底310一侧，下配向膜313设置在像素电极层311远离第一衬底310一侧。
57.对置基板32可以包括第二衬底320，设置在第二衬底320上的黑矩阵层(black matrix，简称bm)、彩色滤光层321、绝缘覆盖层(over coating，简称oc)、公共电极层322以及上配向膜323。
58.bm设置在第二衬底320上，用于界定出tft
‑
lcd1的发光区。彩色滤光层321设置在第二衬底320上，位于bm界定出的发光区内，其中，彩色滤光层321例如可以和bm搭接。彩色滤光层321设置在对置基板32上，此时对置基板32也可以称为彩膜基板。
59.oc设置在彩色滤光层321远离第二衬底320一侧。公共电极层322设置在oc远离第二衬底320一侧。上配向膜323设置在公共电极层322远离第二衬底320一侧。
60.由上述描述可知，背光模组2位于tft
‑
lcd1的背面，用于向该tft
‑
lcd1提供光源。
61.上述显示装置1000的显示原理为：背光模组2发出白光，经过下偏振层35形成有特定偏振方向的白色偏振光，射入阵列基板31，再通过液晶层33以及对置基板32上的彩色滤光层321过滤形成红绿蓝三基色的偏振光。
62.当该偏振光的偏振方向与上偏振层36的偏振方向垂直时，偏振光不能穿过上偏振层36，此时无光线出射。
63.当该偏振光的偏振方向与上偏振层36的偏振方向平行时，偏振光可以穿过上偏振层36，此时出射光的光强最强。
64.由于液晶层33中的液晶对偏振光有旋光特性，特定的分子排布方向可使该偏振光的偏振方向发生改变。通过阵列基板31上的像素电路向各个亚像素(sub pixel)传输驱动信号，改变各个亚像素中液晶的偏转方向，以改变亚像素出射光线的偏振光方向，可以控制偏振光与上偏振层36的夹角，从而控制各个亚像素中从上偏振层36出射的多少，以显示不同的灰阶图像。
65.在另一种可能的实施例中，tft
‑
lcd1例如可以是横向电场效应(in plane switch，简称ips)型液晶显示面板。
66.如图3b所示，ips型液晶显示面板也包括阵列基板31、对置基板32、液晶层33、封框胶34、下偏振层35以及上偏振层36。
67.ips型液晶显示面板与如图3a所示的tn型液晶显示面板不同的是：公共电极层322和像素电极层311均设置在阵列基板上。
68.示例的，如图3b所示，公共电极层322包含多个第一条形电极，位于同一亚像素单元的多个第一条形电极电连接，位于多个亚像素单元的第一条形电极可以电连接，也可以不电连接。像素电极层311包含多个第二条形电极，位于同一亚像素单元的多个第二条形电极电连接，第一条形电极和第二条形电极间隔设置。
69.其中，公共电极322和像素电极311可以同层设置，也可以不同层设置。图3b仅是以公共电极层322和像素电极层311不同层设置，公共电极层322设置在像素电极层311靠近第一衬底310一侧为例进行示意。
70.此外，对于ips型液晶显示面板，像素电极层311可以与tft的源漏金属层同层同材料，像素电极层311的材料为不透明金属电极。
71.另外，如图3b所示，ips型液晶显示面板还包括导电层37，导电层37位于第二衬底320和上偏振层36之间，导电层37用于屏蔽外界电场，避免外界电场对液晶偏转的影响。
72.在另一种可能的实施例中，tft
‑
lcd1例如可以是边缘场开关(fringe field switching，简称ffs)型液晶显示面板。
73.如图3c所示，ffs型液晶显示面板也包括阵列基板31、对置基板32、液晶层33、封框胶34、下偏振层35、上偏振层36以及导电层37。
74.ffs型液晶显示面板与如图3b所示的ips型液晶显示面板不同的是：靠近第一衬底310的电极为块状电极，不再包括多个条形电极。
75.在一种可能的实施例中，如图3c所示，ffs型液晶显示面板与如图3b所示的ips型液晶显示面板不同的是：公共电极层322中位于每个亚像素单元的部分为块状，公共电极层322例如可以为面状，公共电极层322不再包括多个第一条形电极。
76.在另一种可能的实施例中，如图3d所示，ffs型液晶显示面板与如图3b所示的ips型液晶显示面板不同的是：公共电极层322设置在像素电极层311远离第一衬底310一侧，像素电极层311中位于每个亚像素单元的部分为块状，像素电极层311不再包括多个第二条形电极。
77.无论tft
‑
lcd1为上述哪种类型的显示面板，对于具有屏下摄像头的显示装置1000来说，显示装置1000包括显示面板1和位于显示面板1背光侧的摄像头。显示面板1(tft
‑
lcd1)上均设置摄像头区，摄像头位于摄像头区的下方。外界光线从对置基板32一侧，经过显示面板1的摄像头区，再经过阵列基板31，最终进入摄像头中，进而摄像头可实现摄影的功能。
78.下面，以几个示例，对本技术实施例提供的下方设置有摄像头的tft
‑
lcd1进行详细的说明。为了便于说明，以上述图3d所示的ffs型液晶显示面板为例进行说明。
79.示例一
80.本技术实施例提供一种tft
‑
lcd1，从俯视图来看，如图4所示，tft
‑
lcd1设置有显示区(active area，简称aa)和摄像头区s。
81.从截面图来看，如图5所示(图4沿c
‑
c向的截面图)，tft
‑
lcd1包括阵列基板31、对置基板32、液晶层33、下偏振层35、上偏振层36、导电层37以及支撑层38。
82.关于阵列基板31的结构，在本技术的一些实施例中，如图5所示，阵列基板31包括第一衬底310以及依次层叠设置在第一衬底310上的tft和下配向膜313。第一衬底310和下配向膜313位于tft
‑
lcd1的显示区aa和摄像头区s，而tft仅位于tft
‑
lcd1的显示区aa。这样一来，可避免tft遮挡摄像头区s的光线。
83.其中，第一衬底310的材料可以为玻璃。在此情况下，第二衬底320的透光性较好。
84.需要说明的是，阵列基板31还包括像素电极层311、公共电极层322及钝化层312等膜层，为了清楚示意，图5未示出，像素电极层311、公共电极层322及钝化层312的结构可参
考图3d。像素电极层311及公共电极层322位于tft
‑
lcd1的显示区aa。钝化层312可以位于tft
‑
lcd1的显示区aa和摄像头区s，钝化层312也可以仅位于tft
‑
lcd1的显示区aa。
85.关于对置基板32的结构，在本技术的一些实施例中，如图5所示，对置基板32包括第二衬底320，设置在第二衬底320上的bm、彩色滤光层321、oc以及上配向膜323。
86.其中，第二衬底320位于tft
‑
lcd1的显示区aa和摄像头区s。在一些实施例中，第二衬底320的材料可以为玻璃。在此情况下，第二衬底320的透光性较好。
87.关于bm，示例的，如图5所示，bm设置在第二衬底320上，bm位于tft
‑
lcd1的显示区aa。bm用于界定出tft
‑
lcd1的发光区。
88.关于彩色滤光层321，示例的，如图5所示，彩色滤光层321设置在第二衬底320上，位于tft
‑
lcd1的显示区aa，且位于bm界定出的发光区内。
89.如图5所示，tft
‑
lcd1的显示区aa中包括发多种颜色光的亚像素(sub pixel)单元d，上述多种颜色光至少包括第一颜色、第二颜色和第三颜色，第一颜色、第二颜色和第三颜色为三基色(例如红色、绿色和蓝色)。
90.在上述背光模组2提供的背光源为白光的情况下，彩色滤光层321包括位于用于发第一颜色光的亚像素单元中的第一颜色滤光单元、位于用于发第二颜色光的亚像素单元中的第二颜色滤光单元以及位于用于发第三颜色光的亚像素单元中的第三颜色滤光单元。
91.关于oc，示例的，如图5所示，oc设置在彩色滤光层321远离第二衬底320一侧，位于tft
‑
lcd1的显示区aa和摄像头区s。
92.关于上配向膜323，示例的，如图5所示，上配向膜323设置在oc远离第二衬底320一侧，位于tft
‑
lcd1的显示区aa和摄像头区s。
93.关于液晶层33，示例的，如图5所示，液晶层33设置在阵列基板31与对置基板32之间，液晶层33的液晶充满整个tft
‑
lcd1的显示区aa和摄像头区s。
94.液晶这种材料的光线透过率一般为70％
‑
80％。
95.关于导电层37，示例的，如图5所示，导电层37设置在第二衬底320远离液晶层33的表面，导电层37位于tft
‑
lcd1的显示区aa和摄像头区s。
96.在一些实施例中，导电层37的材料可以为氧化铟锡(indium tin oxide，简称ito)，这种材料光线透过率为80％左右。
97.导电层37用于屏蔽外界电场，避免外界电场对液晶偏转的影响。
98.关于支撑层38，示例的，如图5所示，支撑层38也可称为隔垫物，支撑层38设置在阵列基板31和对置基板32之间，支撑层38的两端分别与下配向膜313和上配向膜323接触。支撑层38位于tft
‑
lcd1的显示区aa。
99.在一些实施例中，支撑层38的材料为树脂，这种材料的光线透过率可以达到90％以上。
100.在一些实施例中，如图5所示，支撑层38可以位于bm的下方，tft的上方，即，支撑层38在第一衬底310上的正投影、bm在第一衬底310上的正投影以及tft中的导电层在第一衬底310上的正投影交叠。示例的，支撑层38在第一衬底310上的正投影和tft中的导电层在第一衬底310上的正投影位于bm在第一衬底310上的正投影内。这样一来，可以避免支撑层38以及tft中的导电层遮挡除bm以外的区域的光，以保证tft
‑
lcd1的透光性。
101.支撑层38对tft
‑
lcd1起到支撑作用，减小tft
‑
lcd1的阵列基板31和对置基板32产
生弹性变形的程度。也可以说支撑层38用于维持液晶盒的盒厚均一。基于此，不对tft
‑
lcd1中支撑层38的数量进行限定，根据需要合理设置即可。
102.关于下偏振层35，示例的，如图5所示，下偏振层35设置在阵列基板31远离液晶层33的表面，下偏振层35位于tft
‑
lcd1的显示区aa。也可以理解为，下偏振层35在tft
‑
lcd1的摄像头区s设置有通孔，该通孔可完全漏出摄像头区s，避免下偏振层35遮挡进入摄像头区s光线。
103.关于上偏振层36，示例的，如图5所示，上偏振层36设置在对置基板32远离液晶层33的表面，上偏振层36位于tft
‑
lcd1的显示区aa。也可以理解为，上偏振层36在tft
‑
lcd1的摄像头区s设置有通孔，该通孔可完全漏出摄像头区s，避免上偏振层36遮挡进入摄像头区s光线。
104.然而，随着显示技术的发展，用户对显示装置1000中摄像头拍摄照片的质量要求越来越高，而摄像头区s的光线透过率对摄像头拍摄照片的质量至关重要。摄像头区s高的光线透过率，有利于摄像头的拍摄。由上述描述可知，液晶层33中的液晶充满整个tft
‑
lcd1的显示区aa和摄像头区s。而，液晶会对进入摄像头区s中的光线有一定的遮挡，液晶的光线透过率一般为70％
‑
80％，从而使得摄像头区s的光线透过率有一定的降低，不利于摄像头的拍摄。
105.示例二
106.示例二与示例一的不同之处在于，tft
‑
lcd1还包括透光部。
107.如图6所示，tft
‑
lcd1包括阵列基板31、对置基板32、液晶33、下偏振层35、上偏振层36、导电层37、支撑层38以及透光部39。
108.其中，阵列基板31、对置基板32、液晶层33、下偏振层35、上偏振层36、导电层37以及支撑层38与示例一中相同，可参考示例一中相关描述，此处不再赘述。
109.关于透光部39，如图6所示，透光部39设置在阵列基板31与对置基板32之间，透光部39位于摄像头区s。液晶层33分布在透光部39的周边。
110.也可以理解为，透光部39设置在tft
‑
lcd1的摄像头区s，用于排开摄像头区s的液晶层33的液晶。
111.在一些实施例中，透光部39与支撑层38的材料相同，也就是说透光部39材料可以为树脂，那么透光部39的光线透过率可以达到90％以上。这样一来，在tft
‑
lcd1的摄像头区s，利用光线透过率高的透光部39排开了光线透过率低的液晶，可提升tft
‑
lcd1的摄像头区s的光线透过率，有益于摄像头的拍摄。
112.在一些实施例中，如图6所示，透光部39在阵列基板31上的正投影的轮廓与摄像头区s的轮廓相同。这样一来，透光部39的体积最大，可以排开最大体积的液晶，从而更大程度的提高摄像头区s的光线透过率。
113.在本技术提供的一些实施例中，透光部39为透镜结构，透光部39与阵列基板31之间具有间隙，与对置基板32接触。
114.示例的，如图6所示，透光部39靠近阵列基板31的表面为凸面。透光部39靠近阵列基板31的表面与阵列基板31靠近液晶层33的表面之间具有间隙，透光部39靠近对置基板32的表面与对置基板32靠近液晶层33的表面接触，无间隙。
115.在一些实施例中，首先在第二衬底320依次制作bm、彩色滤光层321、oc以及上配向
膜323，得到对置基板32。然后在对置基板32上，通过构图工艺(例如包括涂胶、曝光、显影、刻蚀等步骤)制备支撑层38和透光部39。其次，在第一衬底310上制作tft、像素电极层311、公共电极层322、钝化层312及下配向膜313，得到阵列基板31。最后将上述对置基板32与阵列基板31进行真空对合，得到液晶盒。
116.上述构图工艺中所使用的掩膜板例如可以是半色调掩膜板(halftone slit mask)，半色调掩膜板包括具有一定光线透过率的半色调层，通过半色调层的光线发生衰减而只有部分光线透过，从而光刻胶部分曝光，达到控制曝光的光刻胶厚度的目的。最终可以可制备具有凸面的透光部39。
117.基于此，透光部39靠近阵列基板31的表面为凸面，这样一来，该透光部39可以起到汇聚光线的作用，有利于减少光线损耗，从而提高光线利用率，也就提高了摄像头区s的光线透过率。
118.示例的，如图7所示，透光部39包括菲涅尔透镜结构。如图8a和图8b所示，透光部39靠近阵列基板31的表面具有多个齿纹，多个齿纹在透光部39的表面形成多个同心圆。
119.在一些实施例中，可采用半色调掩膜板制备透光部39中的菲涅尔透镜结构。
120.如图7所示，外界光线从对置基板32一侧，经透光部39(透镜结构)，再经过阵列基板31可进入摄像头中。
121.需要说明的是，摄像头和tft
‑
lcd1之间还具有背光模组2，背光模组2在对应的摄像头区s设置有通孔，光线可直接穿过。
122.普通透镜由于中间厚、周边薄，普通透镜中间和边缘的厚度差异大，光线通过后，会出现边角变暗、局部区域模糊不清的现象。而，对于具有菲涅尔透镜结构的透光部39来说，当光线进入摄像头区s，会在透镜边缘区域发生折射。因菲涅尔透镜具有多个等距的齿纹391，使得菲涅尔透镜中沿直线传播的光线被滤掉，只保留发生折射的曲面处的光线，光线穿过透镜进入摄像头，使得摄像头各处接收到的光线亮度一致，有利于实现了优质的成像效果。
123.在本技术提供的另一些实施例中，透光部39为柱状结构。
124.关于柱状结构的透光部39的材料，在一些实施例中，透光部39的材料可以为有机膜，也可以为光刻材料，有机膜和光刻材料的光线透过率一般高于液晶33的光线透过率。
125.或者，在另一些实施例中，透光部39的材料与支撑层38相同，例如可以为树脂，树脂的光线透过率可以达到90％以上。
126.示例的，如图9a和图9b所示，图9b为图9a中透光部39的立体图，透光部39为实心柱结构，透光部39的两端与阵列基板31和对置基板32分别接触。
127.这样一来，透光部39与阵列基板31之间没有间隙，透光部39与阵列基板31之间就不会再有液晶。也可理解为，透光部39可以排开摄像头区s所有的液晶，可很大程度上提高摄像头区s的透光率，从而有利于摄像头的拍摄。另外，透光部39的两端与阵列基板31和对置基板32分别接触，则透光部39对tft
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lcd1起到更好的支撑作用，避免了摄像头区液晶盒的盒厚发生变化引起的显示面板周边发黄的问题。
128.示例的，如图10a和图10b所示，图10b为图10a中透光部39的立体图，透光部39为空心柱结构，透光部39的两端分别与阵列基板31和对置基板32分别接触。
129.这样一来，一方面透光部39与阵列基板31之间没有间隙，透光部39可以排开摄像
头区s所有的液晶33，可以提高摄像头区s的透光率。另一方面，透光部39为空心结构，透光部39的空心部分对光线无任何遮挡，光透过率高可近乎达到100％。从而，有利于摄像头的拍摄。
130.以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。